英特爾與日本印刷公司合作開發(fā)0.13微米光掩模
東京 - 英特爾公司和大日本印刷公司今天宣布共同開發(fā)先進的光掩模技術(shù)微處理器公司采用0.13微米工藝技術(shù)。
目前，英特爾繼續(xù)將現(xiàn)有的微處理器產(chǎn)品推向0.18微米的設(shè)計規(guī)則，并計劃在2001年開始使用0.13微米技術(shù)。英特爾預計將在200毫米晶圓上使用0.13微米微處理器，在2002年的時間內(nèi)在更大的300毫米直徑基板上使用下一代工藝。
“推進光掩模技術(shù)的最新技術(shù)英特爾技術(shù)與制造集團高級副總裁兼總經(jīng)理邁克爾斯普林特表示，英特爾繼續(xù)保持半導體領(lǐng)先地位，該公司總部位于加利福尼亞州圣克拉拉市。“開發(fā)此功能對我們未來處理器的產(chǎn)量和性能至關(guān)重要?！?/p>
今天最先進的工藝需要20多個光掩模才能生產(chǎn)復雜的IC。
有關(guān)日本印刷與英特爾之間財務安排的詳細信息尚未披露。
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