5G無(wú)線網(wǎng)絡(luò)因覆蓋了較寬的頻帶，對(duì)工作于毫米波頻率下5G電路的線路板材料提出了特殊的要求。本文探討了用于PCB材料頂層銅箔與底層銅箔之間傳輸信號(hào)的金屬化過(guò)孔內(nèi)壁的表面粗糙度對(duì)材料的最終射頻性能的影響。

第五代無(wú)線網(wǎng)絡(luò)被譽(yù)為是實(shí)現(xiàn)現(xiàn)代通信的最重要的技術(shù)成就之一，5G技術(shù)既使用低于6GHz的信號(hào)頻率，也有用于短距離回傳，高速數(shù)據(jù)鏈路的毫米波頻率。在如此寬頻率范圍內(nèi)的電路需要使用特殊的線路板材料，而羅杰斯公司的RO4730G3?電路板材料就成為許多電路設(shè)計(jì)工程師的選擇，因?yàn)樗哂袕纳漕l到毫米波頻率的出色性能。然而，這種層壓板材料與傳統(tǒng)的電路材料的存在一個(gè)差別是材料使用了中空微球作為介質(zhì)的填充材料，這個(gè)差異引起了一些電路設(shè)計(jì)者的擔(dān)憂。

由于微球的存在，電路加工結(jié)構(gòu)的外觀——例如從一個(gè)導(dǎo)電層到另一個(gè)導(dǎo)電層的金屬化過(guò)孔（PTH）——看起來(lái)比沒(méi)有采用這種特殊介質(zhì)填料的傳統(tǒng)的線路板材料，制作形成的金屬化過(guò)孔要更加粗糙?？赡芸雌饋?lái)是這樣的，又或者是有什么其他的擔(dān)憂，畢竟因?yàn)椴捎弥锌瘴⑶蛱盍系木€路板在做金屬化過(guò)孔時(shí)孔壁非常的粗糙。但一系列的研究表明，無(wú)論是在射頻頻率下，還是對(duì)5G無(wú)線網(wǎng)絡(luò)的毫米波頻率下，中空微球填料對(duì)金屬化過(guò)孔的影響純粹是表面外觀上的，它并不會(huì)影響電路的性能或金屬化過(guò)孔的可靠性。

比較不同的金屬化過(guò)孔

所有電路金屬化過(guò)孔的孔壁表面的紋理均會(huì)有不同的細(xì)微區(qū)別，即使在比較同一電路板的孔壁表面的粗糙度時(shí)也是如此。由于鉆孔過(guò)程涉及多個(gè)因素，金屬化過(guò)孔的孔壁表面會(huì)因孔而異。在具有微球填料的材料中，鉆頭可能會(huì)影響微球填料，也可能不會(huì)，從而導(dǎo)致了差異的產(chǎn)生。當(dāng)鉆頭撞擊并破碎空心球體時(shí)，該過(guò)孔的銅鍍層將沿著破碎的球體的輪廓生長(zhǎng)，孔壁表面將不再光滑和平坦。圖1顯示了電路線路板中微球填料的存在如何影響該電路材料形成金屬化過(guò)孔時(shí)導(dǎo)致的表面粗糙度的增加。我們很自然地會(huì)質(zhì)疑，與金屬化過(guò)孔更光滑表面的傳統(tǒng)電路材料相比，這種粗糙度是否會(huì)導(dǎo)致電路的電氣性能或可靠性方面產(chǎn)生不良影響。

隨著5G無(wú)線網(wǎng)絡(luò)中寬頻率范圍的高頻電路材料的需求日益增長(zhǎng)，了解具有空心微球填料的線路板材料中金屬化過(guò)孔表面粗糙度是否對(duì)電路性能有影響是非常有意義的，因?yàn)閭鹘y(tǒng)的線路板材料中沒(méi)有這種填料。通過(guò)一系列的研究，比較了來(lái)自羅杰斯公司的具有玻璃增強(qiáng)和微球填料的20.7mil厚的RO4730G3?線路板材料和沒(méi)有玻璃增強(qiáng)、具有更小且非空心填料的20mil厚的RO3003G2材料上過(guò)孔孔壁的不同是否會(huì)帶來(lái)影響。為了測(cè)試孔壁表面粗糙度是否有影響，我們開(kāi)發(fā)了許多不同的測(cè)試電路來(lái)比較線路板上的金屬化過(guò)孔在5G寬的頻率范圍的情況。

測(cè)試電路都基于微帶傳輸線結(jié)構(gòu)，在電路中間有一個(gè)通孔，用作從介質(zhì)基板材料的頂部銅層到底部銅層的導(dǎo)體和信號(hào)過(guò)渡。測(cè)試電路的長(zhǎng)度基本都為2英寸左右。我們也使用了其他的一些高頻傳輸線技術(shù)作為參考，來(lái)評(píng)估金屬化過(guò)孔孔壁表面粗糙度是否存在影響，包括沒(méi)有信號(hào)通孔的8英寸和2英寸長(zhǎng)的微帶電路，以及8英寸和2英寸長(zhǎng)的沒(méi)有通孔的接地共面波導(dǎo)（GCPW）電路。為了確保測(cè)量時(shí)的一致性，測(cè)試使用了相同的兩個(gè)2.4毫米的同軸連接器用于所有電路的測(cè)試。且測(cè)試連接器總是以同樣的方式連接到VNA的測(cè)試端口，以保持相位一致性。

習(xí)慣于研究如圖1所示的印刷電路板（PCB）顯微圖像的設(shè)計(jì)人員可能會(huì)擔(dān)心金屬化過(guò)孔的粗糙度會(huì)帶來(lái)影響，尤其是在5G電路的高頻頻率下。一般來(lái)說(shuō)，對(duì)于不使用微球填充的傳統(tǒng)高頻電路材料來(lái)說(shuō)，粗糙的孔壁表面可能意味著在制造過(guò)程中出現(xiàn)了某些問(wèn)題，并可能會(huì)影響到過(guò)孔的可靠性。但對(duì)于空心微球填充的電路材料，形成表面粗糙的金屬化過(guò)孔是正常的，這并不代表其性能差。為了證明這種電路材料中的粗糙的金屬化過(guò)孔不會(huì)影響過(guò)孔可靠性和電性能，我們將新材料（較粗糙的金屬化過(guò)孔）與更傳統(tǒng)的電路材料（更光滑的金屬化過(guò)孔）進(jìn)行研究比較，來(lái)消除將這種材料用于5G無(wú)線網(wǎng)絡(luò)電路設(shè)計(jì)和其它任何應(yīng)用到毫米波頻率范圍的電路產(chǎn)生的任何疑慮。

圖1. 與沒(méi)有微球填料的電路材料相比，使用空心微球填料的RO4730G3電路材料可能形成粗糙孔壁表面的金屬化過(guò)孔。

我們?cè)谠u(píng)估金屬化過(guò)孔及其孔壁表面對(duì)高頻電路性能的影響之前，對(duì)RO4730G3電路板及其微球填料進(jìn)行了廣泛的評(píng)估，以充分了解它們?cè)诓煌ぷ鳁l件下的特性。進(jìn)行了包括10層高加速熱沖擊（HATS）/ 金屬化過(guò)孔（PTH）可靠性、雙面PTH可靠性、雙面PTH-PTH導(dǎo)電陽(yáng)極絲（CAF）電阻、平面-平面CAF電阻、MOT和表面–表面貼裝（SMT）測(cè)試、絕緣電阻，金屬化過(guò)孔質(zhì)量等一系列的材料測(cè)試研究。所有測(cè)試表明，材料及其微球填料在行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試條件下毫無(wú)問(wèn)題地通過(guò)了這些測(cè)試。有關(guān)這些研究測(cè)試的更多信息，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)羅杰斯公司官網(wǎng)的技術(shù)支持中心http://www.rogerscorp.com/techub。 本文的重點(diǎn)是介紹在射頻、微波和毫米波頻率下使用該材料是否可能產(chǎn)生的問(wèn)題。

事實(shí)上，在對(duì)這種線路板材料及其微球填料進(jìn)行的多項(xiàng)研究測(cè)試中，其中我們利用兩種具有不同金屬化過(guò)孔壁特征的材料，研究金屬化過(guò)孔壁表面粗糙度變化對(duì)RF性能帶來(lái)的各種影響對(duì)比。研究測(cè)試基于一種特殊設(shè)計(jì)的微帶傳輸線電路，分別在頂層和底層都有微帶線電路，中間介質(zhì)是介質(zhì)材料，通過(guò)金屬化過(guò)孔實(shí)現(xiàn)頂層到底層的微帶線的連接。這些測(cè)試旨在為5G應(yīng)用提供非常有意義的數(shù)據(jù)參考，因此測(cè)試電路在100 MHz至40 GHz范圍內(nèi)都具有良好的射頻性能。

在該研究測(cè)試中使用的兩種材料的介電常數(shù)（Dk，或εr）都非常接近，其值都在3附近。兩種材料也選用具有相同厚度的材料，均為20mil。二者之間的主要區(qū)別是其中一個(gè)可以制作孔壁表面光滑的金屬化過(guò)孔，而另一個(gè)制作得到的金屬化過(guò)孔壁表面較為粗糙?？梢灾谱餍纬晒饣饘倩^(guò)孔壁表面的材料是羅杰斯公司的RO3003G2?線路板材料，而具有玻璃增強(qiáng)材料和空心微球填料的RO4730G3?線路板制作得到的金屬化過(guò)孔壁表面較為粗糙。

電路金屬化過(guò)孔壁表面的紋理差別通常被認(rèn)為是電路制造的問(wèn)題，而不是材料的問(wèn)題。但是，一些材料特性可以使金屬化過(guò)孔壁表面得到優(yōu)化，包括電路材料填料類型、填料尺寸、玻璃增強(qiáng)和樹(shù)脂類型等。作為RO4730G3?線路板及其空心微球填料（粗糙的金屬化過(guò)孔壁表面），比較的RO3003G2?線路板材料是沒(méi)有玻璃增強(qiáng)材料的，且填料顆粒也非常的小。假設(shè)二者均采用最佳PCB加工方法，后者將會(huì)有非常平滑的金屬化過(guò)孔壁表面。如圖2所示，是RO3003G2?線路板可形成的非常光滑的金屬化過(guò)孔孔壁。

圖2.顯微圖像顯示了在20mil厚的RO3003G2電路材料中形成的表面光滑的金屬化過(guò)孔孔壁。

對(duì)于相同厚度的這兩個(gè)電路材料，圖1和2中所示的兩種材料的金屬化過(guò)孔的表面粗糙度的差異是非常顯而易見(jiàn)的。觀察兩個(gè)圖可能會(huì)產(chǎn)生這樣一個(gè)問(wèn)題，即金屬化過(guò)孔的較高表面粗糙度是否意味著其在射頻性能方面存在什么問(wèn)題？對(duì)于測(cè)試電路，微帶傳輸線電路是一種有效的方法來(lái)比較光滑和粗糙的金屬化過(guò)孔壁表面對(duì)射頻性能的影響，因?yàn)榕c其他高頻傳輸線結(jié)構(gòu)相比，微帶線的加工制造過(guò)程中的一些變化對(duì)射頻性能的影響較小。

為了使40GHz下的不同電路材料中的金屬化過(guò)孔提供有意義的結(jié)果，我們投入了大量的精力來(lái)優(yōu)化這些微帶電路。其中之一是從射頻測(cè)試連接器向PCB微帶線的信號(hào)過(guò)渡就是一個(gè)大的設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)。通常情況下，在20mil厚的電路板上的微帶傳輸線的信號(hào)過(guò)渡上很難得到回波較好的特性，特別是頻率在25GHz以上的傳輸線。對(duì)于寬帶微帶電路，小于15dB或更好的回波損耗通常被認(rèn)為是可以接受的。

通孔過(guò)渡是另一個(gè)重要的需要考慮的因素，特別是在毫米波頻率下較難實(shí)現(xiàn)從某一層到另一線路層的低損耗過(guò)渡。一般來(lái)說(shuō)，在20mil厚電路材料上很難實(shí)現(xiàn)高于20GHz的微帶線通孔過(guò)渡的良好性能。但是考慮到上述困難，本研究的微帶先測(cè)試電路，其設(shè)計(jì)的目標(biāo)是頻率達(dá)到40GHz時(shí)也會(huì)得到良好的效果，如圖3所示。

圖3. 這些電路是用于評(píng)估金屬化過(guò)孔孔壁表面粗糙度對(duì)高頻下RF性能的影響的電路設(shè)計(jì)，左圖是標(biāo)準(zhǔn)的微帶傳輸線，右邊是具有金屬化過(guò)孔的微帶線電路。

圖3左側(cè)所示的“標(biāo)準(zhǔn)”微帶線電路是通過(guò)接地共面波導(dǎo)（GCPW）結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)信號(hào)過(guò)渡轉(zhuǎn)換的微帶電路。電路的主體由微帶傳輸線構(gòu)成，GCPW結(jié)構(gòu)在電路的末端用于同軸（2.4毫米）連接器到微帶的過(guò)渡轉(zhuǎn)換（Southwest Microwave公司的型號(hào)＃1492-04A-5）。圖3右側(cè)電路就是用于本研究的測(cè)試電路的頂層和底層電路。它們是松耦合的接地共面波導(dǎo)，中間是金屬化過(guò)孔，提供從頂層到底層電路的過(guò)渡連接。測(cè)試電路的長(zhǎng)度為2英寸，松耦合的接地共面波導(dǎo)傳輸線電路將具有與微帶傳輸線電路非常相似的射頻性能。松耦合在較高頻率下具有良好的性能，非常適合40GHz下的測(cè)試。

圖4. 這是網(wǎng)絡(luò)分析儀測(cè)試得到的不同電路且具有不同壁表面紋理的金屬化過(guò)孔的S參數(shù)的示例，分別包括頻域和時(shí)域。

圖4是矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀測(cè)量的頻域和時(shí)域的結(jié)果圖。圖右下角的回波損耗(S11和S22)的兩個(gè)標(biāo)記分別表示了不同頻率下的回波損耗值。標(biāo)記2位于40.7GHz處，是該測(cè)試電路具有良好回波損耗的最高頻率。反射波S22的阻抗顯示在圖右上角，反射波S11的阻抗顯示在圖左下角。如S11的標(biāo)記所示，在通孔轉(zhuǎn)換中的阻抗值，標(biāo)記1,2和3，電路具有大約48?的阻抗。在通孔過(guò)渡區(qū)域中可觀測(cè)到較小的阻抗變化，阻抗變化小于2?，對(duì)電路的RF性能幾乎沒(méi)有影響。從這些測(cè)試結(jié)果，電路可被認(rèn)為從頂層到底層信號(hào)具有的良好的通孔過(guò)渡，同時(shí)，它還具有到40GHz的良好插入損耗性能（如圖左上角所示）。

在同一塊大的PCB板上加工制作了許多相同設(shè)計(jì)的電路，以便更好地理解由正常的材料變化以及PCB制造工藝引起的變化進(jìn)而導(dǎo)致射頻性能的變化。我們同時(shí)加工了兩塊大的PCB板（板1和板2），上面包含多個(gè)多個(gè)測(cè)試電路，且這兩個(gè)大板來(lái)自于相同且更大面積的同一塊電路材料。

更大大板的材料原始尺寸為24×18英寸，被切割成兩個(gè)尺寸均為12×18英寸的板子，因來(lái)自同一個(gè)大板因此兩個(gè)12×18的電路上可以保持材料的一致性。在選取的兩種20mil RO3003G2和20.7mil RO4730G3材料的微帶線測(cè)試電路的制作中，采用了完全相同的電路加工制作工藝和流程以減小加工帶來(lái)的影響。

測(cè)試結(jié)果的對(duì)比

通過(guò)對(duì)電路材料的研究測(cè)試，得到了大量的測(cè)試數(shù)據(jù)，包括了每個(gè)測(cè)試電路的：插入損耗，回波損耗，阻抗，群延遲和相位角（如圖4所示）等。直通測(cè)量被用作確定金屬化過(guò)孔對(duì)電路性能的影響的方法。同時(shí)也測(cè)量得到了電路的阻抗，但并不被認(rèn)為阻抗是反映金屬化過(guò)孔對(duì)射頻性能影響的最佳指標(biāo)。微帶線電路（或松散耦合的接地共面波導(dǎo)）的阻抗依次受介質(zhì)厚度、導(dǎo)體寬度、銅厚變化和介質(zhì)Dk等參數(shù)的影響。與金屬化過(guò)孔孔壁表面的帶來(lái)的影響相比，金屬化過(guò)孔過(guò)渡區(qū)域中的阻抗將受這些變量的影響更大。出于上述原因，雖然收集到了阻抗數(shù)據(jù)，但阻抗并未用于金屬化過(guò)孔孔壁表面對(duì)射頻性能的影響的判斷。

雖然金屬化過(guò)孔孔壁研究中收集的數(shù)據(jù)很寬泛，但在這里依舊可以分享一些結(jié)果。例如，圖5顯示了在同一塊板上制作的設(shè)計(jì)相同的六個(gè)不同電路的數(shù)據(jù)，并與作為參考的沒(méi)有通孔過(guò)渡的微帶傳輸線進(jìn)行比較。圖5還可以看出在第二塊板上制作的設(shè)計(jì)相同的六個(gè)不同電路的數(shù)據(jù)（這兩個(gè)電路板最初是從同一塊24×18的材料上切割得到的）。測(cè)試結(jié)果是基于20mil RO3003G2，其具有平滑金屬化過(guò)孔孔壁表面。

圖5. S21展開(kāi)的相位角測(cè)量是含有金屬化過(guò)孔的2英寸長(zhǎng)的微帶傳輸線電路。線路板材料為厚度20mil的RO3003G2，其可得到非常光滑的金屬化過(guò)孔壁表面。

圖5中的電路ID可以顯示電路來(lái)自哪個(gè)12×18英寸的大板，以及該板上的電路ID編號(hào)。例如，P1 C4來(lái)自板1，電路編號(hào)為4號(hào)。電路彼此之間互相遠(yuǎn)離并均勻地分別在12×18英寸的板上，以保持一致性。某些變化是可以事先預(yù)料到的，因?yàn)樗鼈儗?duì)相位角的差異非常敏感。某些變化是由于PCB制造過(guò)程而造成的，而不是金屬化過(guò)孔壁粗糙度的原因，包括導(dǎo)體寬度的變化，鍍銅厚度的變化和鉆孔質(zhì)量的變化。此外，金屬化過(guò)孔周圍的縫隙由于PCB的正常制造公差也會(huì)出現(xiàn)一些變化。同樣，每個(gè)板上的微小材料變化，如Dk值的微小變化，也可能導(dǎo)致相位的變化?？紤]到圖5所示的測(cè)試值，在39 GHz時(shí)相位數(shù)據(jù)的可重復(fù)性標(biāo)準(zhǔn)差小于±1.2度，這是非常好的。

圖6.比較了在三個(gè)關(guān)鍵的5G頻率下，不同線路板上制作的微帶傳輸線電路的相位角差異統(tǒng)計(jì)情況。 左邊的數(shù)據(jù)是光滑的金屬化過(guò)孔孔壁表面電路的測(cè)試結(jié)果，而右邊的數(shù)據(jù)是粗糙的金屬化過(guò)孔孔壁表面的測(cè)試結(jié)果。

如前所述，在研究過(guò)程中，我們都盡量減少材料的變化帶來(lái)的影響，如板1和2都取自同一個(gè)大板確保材料Dk差異最小。因此相位角的變化和出現(xiàn)的任何差異主要是受到電路制造過(guò)程的影響。當(dāng)對(duì)同一塊板的電路進(jìn)行結(jié)果的分析時(shí)，此時(shí)相位角的差異來(lái)自于PCB加工制造和材料變化的影響都最小，因?yàn)橥粔K板是完全同時(shí)進(jìn)行的加工。正因?yàn)槿绱耍谕粔K板上研究多個(gè)電路可以很好地了解微帶線電路的金屬化過(guò)孔質(zhì)量。PCB制造過(guò)程也可能導(dǎo)致比預(yù)想更為粗糙的金屬化過(guò)孔孔壁表面。如圖6所示，每一塊板上的S21展開(kāi)相角上都有一定的變化，但當(dāng)比較兩種不同材料上的電路相位變化時(shí)，這種變化實(shí)際并不顯著。

圖7.RO4730G3材料的從頂層到底層線路的金屬化過(guò)孔孔壁（較為粗糙）的表面特征和3個(gè)毫米波頻率下相位測(cè)量結(jié)果。

顯然，通過(guò)觀測(cè)顯微照片，用于頂層線路與底層線路相連接的金屬化過(guò)孔的表面壁可能會(huì)呈現(xiàn)出很大的不同。例如，圖2顯示的ID為P1/C1是在20mil厚的RO3003G2材料上制作的電路金屬化過(guò)孔，它就有非常光滑的金屬化過(guò)孔孔壁。圖7 ID為P2/C6的電路金屬化過(guò)孔的外觀，是在厚度為20.7mil的RO4730G3線路板材料上的過(guò)孔，這種材料上的金屬化過(guò)孔壁表面相對(duì)就要粗糙一些。僅從外觀上看，可能會(huì)有一些擔(dān)心是否這種金屬化過(guò)孔孔壁表面粗糙度會(huì)對(duì)射頻性能帶來(lái)影響。但正如上述幾項(xiàng)研究所表明的那樣，粗糙和光滑的金屬化過(guò)孔側(cè)壁之間的差異僅僅是表面的，至少對(duì)于在40 GHz下的這些測(cè)試電路上，完全不用擔(dān)心它們對(duì)射頻/微波/毫米波性能的會(huì)帶來(lái)性能的影響。

需要說(shuō)明的是，本文所列的信息只是對(duì)平滑金屬化過(guò)孔和粗糙的金屬化過(guò)孔的電路材料研究中收集的數(shù)據(jù)的一小部分。研究的目的是為了證明金屬化過(guò)孔壁表面粗糙度對(duì)射頻及毫米波頻率性能的影響很小。如需獲得更多相關(guān)的信息，通過(guò)與羅杰斯公司的當(dāng)?shù)卮砺?lián)系。