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山東天岳高純碳化硅粉的人工合成方法專利

汽車玩家 ? 來(lái)源:愛集微 ? 作者:愛集微 ? 2020-03-26 16:33 ? 次閱讀
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天岳的該發(fā)明采用兩次合成法,克服了單次反應(yīng)不完全、不均勻的缺點(diǎn),不僅可以使得初次合成時(shí)剩余碳和硅的單質(zhì)完全反應(yīng),且可以采用二次合成時(shí)的高溫有效取出碳粉和硅粉中攜帶的大部分雜質(zhì)元素。

集微網(wǎng)消息,前不久華為旗下的哈勃科技投資了以碳化硅為主要業(yè)務(wù)的山東天岳公司,并占股10%,由此可見華為正在積極布局以碳化硅為代表的新一代半導(dǎo)體技術(shù)。

碳化硅作為當(dāng)前炙手可熱的半導(dǎo)體材料,具有禁帶寬度大、擊穿場(chǎng)強(qiáng)高、熱導(dǎo)率大,穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn),正在逐步應(yīng)用于大功率高頻電子器件、半導(dǎo)體發(fā)光二極管LED),以及諸如5G通訊、物聯(lián)網(wǎng)微波通訊領(lǐng)域,具有廣闊的應(yīng)用前景。在實(shí)際的工業(yè)化生產(chǎn)過(guò)程中,碳化硅粉料的純度在升華法生長(zhǎng)半導(dǎo)體碳化硅單晶時(shí)具有重要作用,直接影響著生長(zhǎng)單晶的結(jié)晶質(zhì)量和電學(xué)性質(zhì)。當(dāng)前碳化硅粉料的合成方法主要包括有機(jī)合成法、自蔓延法和Acheson法,這三種方法都存在雜質(zhì)含量較多、處理過(guò)程復(fù)雜等問(wèn)題,因此如何改進(jìn)現(xiàn)有方法的缺陷成為行業(yè)內(nèi)競(jìng)相研究的熱點(diǎn)。

早在2008年6月4日,山東天岳公司團(tuán)隊(duì)就提供了一項(xiàng)名為“用于半導(dǎo)體單晶生長(zhǎng)的高純碳化硅粉的人工合成方法”的發(fā)明專利(申請(qǐng)?zhí)枺?00810016665.6),申請(qǐng)人為山東大學(xué)。

此專利主要針對(duì)傳統(tǒng)Acheson法合成碳化硅粉料存在的不足,提供了一種能夠得到高產(chǎn)率的用于半導(dǎo)體單晶生長(zhǎng)的高純度碳化硅粉的人工合成方法。

首先按照摩爾比1:1比例取出濃度大于99.9%,粒度小于500微米的硅粉和碳粉,然后進(jìn)行兩次合成。在初次合成步驟中,將所取硅粉和碳粉混合均勻放入坩堝中,再將坩堝置于中頻感應(yīng)加熱爐,并對(duì)加熱爐的生長(zhǎng)室抽真空,除去其中的氧氣和氮?dú)猓瑫r(shí)將溫度升高至1000攝氏度。然后向生長(zhǎng)室中充入高純度的氬氣、氦氣和氫氣的混合氣體,加熱至1500攝氏度,保持反應(yīng)時(shí)間15分鐘,而后降至室溫,最后將反應(yīng)后的產(chǎn)物中大于1厘米的團(tuán)聚物碾成小于1毫米的粉末。

在二次合成步驟中,將上述產(chǎn)物粉末混合均勻重新放入坩堝,并將坩堝再次置于中頻感應(yīng)加熱爐,抽真空環(huán)境,升高溫度到1000攝氏度,通入氬氣、氦氣和氫氣的混合氣體。然后升高溫度到1600攝氏度到2000攝氏度,保持反應(yīng)合成時(shí)間2小時(shí)到10小時(shí),再降至室溫。通過(guò)這兩步即可以得到粒度小于20微米的適用于半導(dǎo)體碳化硅硅單晶生長(zhǎng)的高純碳化硅粉,采用粉末衍射法(XRD)對(duì)初次合成和二次合成產(chǎn)物進(jìn)行物相分析,得到的XRD如圖1所示,通過(guò)分析可以發(fā)現(xiàn)初次合成粉末有硅和碳的單質(zhì)剩余,而二次合成則可以使得反應(yīng)更加完全,得到純度更高的碳化硅。

山東天岳高純碳化硅粉的人工合成方法專利

圖1 初次合成和二次合成產(chǎn)物的XRD圖

本發(fā)明采用兩次合成法,克服了單次反應(yīng)不完全、不均勻的缺點(diǎn),不僅可以使得初次合成時(shí)剩余碳和硅的單質(zhì)完全反應(yīng),且可以采用二次合成時(shí)的高溫有效取出碳粉和硅粉中攜帶的大部分雜質(zhì)元素。在第一次合成時(shí)大部分碳和硅已經(jīng)反應(yīng)生成了碳化硅,不會(huì)導(dǎo)致高溫硅的損失,保證合成產(chǎn)率的基礎(chǔ)上,使得合成粉料的純度得到了提高。

在未來(lái)要應(yīng)用高頻、大功率的射頻微波和其他相關(guān)領(lǐng)域,碳化硅以其優(yōu)勢(shì)占據(jù)重要地位,相信隨著國(guó)內(nèi)優(yōu)秀的半導(dǎo)體公司不斷涌現(xiàn),我國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一定能夠持續(xù)創(chuàng)新和突破,實(shí)現(xiàn)我國(guó)科技硬實(shí)力的穩(wěn)步提升。

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