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小米發(fā)布會(huì)改變了GaN的命運(yùn) GaN材料破圈成名

NSFb_gh_eb0fee5 ? 來源:集微網(wǎng) ? 作者:集微網(wǎng) ? 2020-09-23 11:17 ? 次閱讀
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集微網(wǎng)報(bào)道 9月初的股市,并沒有秋后的天高氣爽之勢,反而是不斷滑落的大盤指數(shù)帶給股民陣陣涼意。然而,有一個(gè)板塊卻逆勢而動(dòng),在破萬億成交額的護(hù)航下一路飄紅。

這就是第三代半導(dǎo)體板塊。在整個(gè)產(chǎn)業(yè)即將進(jìn)入國家戰(zhàn)略規(guī)劃消息的鼓舞下,第三代半導(dǎo)體技術(shù)再次成為了網(wǎng)紅。作為行業(yè)雙星之一的氮化鎵(GaN),也因?yàn)樵?a href="http://m.makelele.cn/v/tag/1225/" target="_blank">5G和功率市場的表現(xiàn)而再受矚目。

破圈的2020年

小米在2020年初的一場發(fā)布會(huì)改變了GaN的命運(yùn)。雷軍展示了小米研發(fā)的65W GaN充電器,GaN材料也因此破圈成名。盡管已被業(yè)界內(nèi)看做天選之子,GaN可從未獲得如此高的待遇。

在媒體一輪又一輪的密集轟炸之下,GaN的優(yōu)勢已經(jīng)人盡皆知:更大的禁帶寬度更大,更高的臨界擊穿電場,更高的熱導(dǎo)率更高,更高的飽和電子速率和電子遷移率等。因?yàn)樾阅苌陷^第一、二代半導(dǎo)體材料有質(zhì)的飛躍,GaN成為制作短波長發(fā)光器件、光電探測器以及高溫、高頻、大功率電子器件的不二之選。

LED照明、激光器與探測器方向是目前GaN最大的應(yīng)用市場,在2019年就達(dá)到了400億美元的營收規(guī)模。但是,業(yè)界更希望GaN在5G射頻和功率器件兩個(gè)方向?qū)崿F(xiàn)突破,因?yàn)槟抢镉懈蟮氖袌隹臻g。

5G系統(tǒng)需要更高的峰值功率、更寬的帶寬以及更高的頻率,這些因素都促成了對(duì)GaN器件的接受。業(yè)內(nèi)人士告訴記者,憑借高頻下更高的功率輸出和更小的占板面積,GaN已經(jīng)在射頻領(lǐng)域贏得良好的口碑。根據(jù)Yole預(yù)測,GaN 射頻市場將從 2018 年的 6.45 億美元增長到 2024 年的約 20 億美元,這主要受電信基礎(chǔ)設(shè)施和國防兩個(gè)方向應(yīng)用的推動(dòng)。

商業(yè)化GaN射頻器件產(chǎn)品目前有三大類:一種是應(yīng)用于 4G 宏基站等系統(tǒng)的大功率PA(功率放大器),飽和功率等級(jí)為100~300W甚至更大;另一種是應(yīng)用于0.5~6GHz的5G 宏基站的GaN PA,單模塊輸出平均功率為5~10W,要求高集成、小體積;第三種是應(yīng)用于5G高頻頻段的GaN單片集成電路(MMIC),飽和輸出功率為2~10W,主要用于人員密集的場所。

PA是射頻系統(tǒng)中的關(guān)鍵組成,目前以GaAs(砷化鎵)PA為主流。但隨著5G的到來,GaAs器件將無法滿足在如此高的頻率下保持高集成度,GaN得以大展身手。

5G宏基站以64通道的大規(guī)模陣列天線為主,按三個(gè)扇區(qū)計(jì)算,單基站PA需求量將高達(dá) 192 個(gè)。根據(jù)拓墣產(chǎn)業(yè)研究院的預(yù)測,國內(nèi)5G宏基站建設(shè)將于2023年左右達(dá)到高峰,年新增 115 萬個(gè)以上,對(duì)應(yīng)PA需求高達(dá) 2.21 億個(gè)。隨著GaN器件成本的下降和工藝的成熟,GaN PA滲透率將不斷提升,拓墣產(chǎn)業(yè)研究院估計(jì)2019年5G宏基站PA中GaN占比在50%左右,預(yù)計(jì)到2023年GaN占比將達(dá)到80%。

相較光電和射頻,GaN在功率器件中的應(yīng)用爆發(fā)最晚,可謂是厚積薄發(fā)?!皬倪^去三年來看,成本每年以20%~30%的比重在下降,終于讓GaN接近爆發(fā)式增長的關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)?!奔{微(Navitas)中國區(qū)總經(jīng)理查瑩杰這樣認(rèn)為。

GaN功率器件開關(guān)頻率高、導(dǎo)通電阻小、電容小,可在高頻情況下保持高效率水平。并且,由于是平面架構(gòu),GaN功率器件可以集成外圍驅(qū)動(dòng)和控制電路,將IC體積做小,顯著降低成本。

在蘋果、三星、華為、小米等手機(jī)廠商均入局GaN電源適配器的形勢下,預(yù)計(jì)2024年全球GaN功率半導(dǎo)體市場規(guī)模將超過 7.5億美元。

從光電到射頻器件,再到功率器件,GaN在應(yīng)用上經(jīng)歷了一個(gè)不斷擴(kuò)展,層層突破的過程。

全面爆發(fā)?還要等等

“第三代半導(dǎo)體現(xiàn)在是一片欣欣向榮的景象,走到哪里都能收到這方面的BP(項(xiàng)目計(jì)劃書)?!睋?dān)任芯力量·云路演點(diǎn)評(píng)嘉賓的盛世投資管理合伙人陳立志曾發(fā)出這樣的感慨。

媒體熱捧、資本追逐、項(xiàng)目遍地開花,無論是GaN還是SiC,都給人以行業(yè)進(jìn)入“井噴狀態(tài)”的印象。

實(shí)際上,從GaN本身來說,還只是處在爆發(fā)前夜。以紅得發(fā)紫的GaN快充為例,半導(dǎo)體行業(yè)資深投資人老周(化名)給記者算了筆賬:“小米GaN快充的單價(jià)是149元,目標(biāo)是年銷售100萬個(gè),這就是1.5億元銷售額。對(duì)一個(gè)產(chǎn)品來說,是很不錯(cuò)的成績。但如果把使用的GaN芯片換算成晶圓,也就是300~500片的數(shù)量。對(duì)于晶圓廠,這都不算量產(chǎn),至多是個(gè)樣品生產(chǎn)階段?!?/p>

老周一直在關(guān)注GaN功率市場的狀況。據(jù)他連續(xù)5年的觀察來看,整個(gè)市場還沒有真正起量。

蘇州能訊總經(jīng)理任勉亦認(rèn)為,功率GaN還是一個(gè)充滿競爭的領(lǐng)域,對(duì)其成本要求比較高,需要與硅材料比拼成本、性能,其產(chǎn)業(yè)發(fā)展還不夠成熟。

5G市場情況同樣如此。根據(jù)業(yè)界的共識(shí),2W以下的場景主要使用了GaAs PA,2W以上的場景由LDMOS(橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體)PA和GaN PA占據(jù)。GaAs比較適合微基站,而GaN工藝適合用于宏基站大功率輸出場景。

LDMOS是GaN在宏基站中最主要的對(duì)手。5G頻譜分布在6GHz以下及28GHz以上毫米波的波段,頻率越高,LDMOS工藝的器件性能下降越多,因此其主要用在低頻段部署中。

國內(nèi)一家做宏基站PA的公司負(fù)責(zé)人趙林(化名)說:“5G的宏基站中,3GHz以上GaN在替代LDMOS,但是3GHz以內(nèi)仍然以LDMOS為主?!?/p>

價(jià)格是一個(gè)重要的因素。根據(jù)5G 基站的上游采購價(jià)格,拓璞分析,目前用于 3.5GHz 頻段的 5G 宏基站,采用 LDMOS 工藝的PA單扇區(qū)的價(jià)格超過了400美元,采用 GaN 工藝的PA價(jià)格則超過了700 美元?!?/p>

不過,5G基礎(chǔ)設(shè)施對(duì)高密度、小尺寸天線陣列的需求,導(dǎo)致射頻系統(tǒng)中對(duì)功率和熱管理處理的難度大增,GaN能效高、功率密度高,適應(yīng)頻率范圍更寬,有能力應(yīng)對(duì)5G基站小型化的趨勢。

因此,GaN占主導(dǎo)的趨勢愈發(fā)明顯。國內(nèi)的基站設(shè)備商在部署5G時(shí)采用了大量GaN PA,其他國家的基站廠商在PA技術(shù)上也在跟隨。

雖然形勢大好,但是因?yàn)榧夹g(shù)成熟度和5G部署的原因,“這個(gè)市場真正要起量,還是在明年?!崩现芘袛唷?/p>

GaN-on-Si還是GaN-on-SiC

GaN產(chǎn)業(yè)鏈包括上游的材料(襯底和外延)、中游的器件和模組、下游的系統(tǒng)和應(yīng)用。

GaN材料的制備,主要包括襯底制備和外延工藝兩大環(huán)節(jié)。襯底是由半導(dǎo)體單晶材料制造而成的晶圓片,可以直接進(jìn)入晶圓制造環(huán)節(jié)生產(chǎn)半導(dǎo)體器件,也可以進(jìn)行外延工藝加工生產(chǎn)外延片。外延是指在單晶襯底上生長一層新單晶的過程,新單晶可以與襯底為同一材料,也可以是不同材料。外延可以生產(chǎn)種類更多的材料,使器件設(shè)計(jì)有更多選擇。

藍(lán)寶石是GaN最初使用的襯底材料,也是最成熟的材料,大部分光電應(yīng)用的GaN器件都是通過這種襯底制造的。新興的兩種襯底是Si和SiC,即GaN-on-Si(硅基氮化鎵)和GaN-onON-SiC(碳化硅基氮化鎵)。

圖GaN-on-SiC、GaN-on-Si、GaN-on-Diamond 發(fā)展預(yù)測(來自Yole De?veloppement)

大部分的廠商使用GaN-on-SiC來生產(chǎn)GaN射頻器件。SiC和GaN的晶格匹配度良好,而且SiC還有高熱導(dǎo)率的性能,便于功率密度很高的GaN射頻器件快速導(dǎo)出熱量。

后起之秀Si襯底有更低的價(jià)格,但同時(shí)熱導(dǎo)率也比SiC低。憑借成熟的Si工藝,GaN-ONon-Si可以用標(biāo)準(zhǔn)工藝處理更大的晶圓,大幅降低了生產(chǎn)成本,其晶圓成本只有SiC基的百分之一。

SiC 襯底的主流尺寸是 4~6 英寸,8 英寸襯底已由 II-VI 公司和 Cree 公司研制成功。其中,半導(dǎo)電型 SiC 襯底以 n 型襯底為主,主要用于光電子器件、電力電子器件等。半絕緣型 SiC 襯底主要用于外延制造GaN 高功率射頻器件。

相比之下,GaN-on-Si性能略遜于GaN-on-SiC,但目前工藝水平制造的器件已能達(dá)到 LDMOS 原始功率密度的5~8 倍,在高于2GHz的頻率工作時(shí),成本與同等性能的LDMOS 出入不大。

MACOM公司就公布了一組數(shù)據(jù),顯示如果設(shè)計(jì)恰當(dāng),Si基GaN的性能是可以和SiC基GaN性能一樣可靠的。

ST(意法半導(dǎo)體)是GaN-on-Si RF行業(yè)的領(lǐng)先者,目前在與MACOM合作,瞄準(zhǔn)全球5G基站應(yīng)用,正在擴(kuò)大6英寸GaN-on-Si產(chǎn)能,并計(jì)劃進(jìn)一步擴(kuò)展至8英寸晶圓。雙方在意大利 Catania 和新加坡分別建設(shè)射頻放大器晶圓廠,主要是 6寸/8寸的 GaN-onON-Si 產(chǎn)品,兩個(gè)基地在 2022 年產(chǎn)值預(yù)計(jì)達(dá) 30 億美元,制程工藝由 0.5μm向 0.25μm 和 0.15μm 演進(jìn)。

看好GaN的前景,臺(tái)積電、英特爾等巨頭也開始涉足于該領(lǐng)域,進(jìn)行GaN-onON-Si的代工開發(fā)。由于這些公司掌握了先進(jìn)的制程工藝和龐大的資源,整個(gè)行業(yè)的天平已經(jīng)開始向GaN-onON-Si傾斜了。

同一個(gè)起跑線 競爭更激烈

從1986年兩步生長法得到高質(zhì)量GaN外延遲開始,該材料已經(jīng)在歐美日等國經(jīng)歷了三十多年的發(fā)展歷程,形成了較為成熟的產(chǎn)業(yè)體系。

國內(nèi)開展GaN的大規(guī)模正式研究是在2008年之后,以政府部門為主導(dǎo),通過專項(xiàng)的形式開展。經(jīng)過十多年的發(fā)展,現(xiàn)在已經(jīng)初具規(guī)模。特別是近幾年,由于產(chǎn)業(yè)投資熱度居高不下,行業(yè)發(fā)展迅速。2019 年,據(jù) CASA(第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)業(yè)戰(zhàn)略聯(lián)盟)統(tǒng)計(jì),GaN相關(guān)的重大投資就有3起,涉及金額45億元。

與國外企業(yè)相比,中國本土企業(yè)在技術(shù)積累上有著較大的差距。但是,雙方現(xiàn)在站在了同一起跑線上?!罢麄€(gè)市場才剛剛起步,像手機(jī)快充這種市場,本土廠商有更多的機(jī)會(huì)切入,這樣就能獲得很多的驗(yàn)證和迭代的機(jī)會(huì)?!崩现苷J(rèn)為本土廠商更接近終端市場,有很多機(jī)會(huì)拉進(jìn)距離,“如果本土公司能跟終端廠能夠把戰(zhàn)略協(xié)同做好,完全有機(jī)會(huì)成為一個(gè)世界級(jí)的氮化鎵器件公司?!?/p>

機(jī)遇都是伴隨著挑戰(zhàn)的。由于技術(shù)的演進(jìn),巨頭的加入,整個(gè)GaN行業(yè)也正在分化。傳統(tǒng)的IDM模式和新興的Fabless+代工模式并存,給國內(nèi)廠商的路徑選擇也帶來一定的困惑。

在GaN射頻端,供應(yīng)商以IDM企業(yè)為主,主要有日本住友電工旗下的 SEDI 公司(Sumitomo Electric Device Innovations)、Infineon(RF 部門已出售給 Cree)、美國 Cree 旗下 Wolfspeed 公司、Qorvo 公司、MACOM 公司、Ampleon、韓國 RFHIC 等。

圖 全球主要射頻GaN廠商(來自Yole De?veloppement)

IDM模式的優(yōu)點(diǎn)是全生產(chǎn)鏈自我控制,可減少風(fēng)險(xiǎn)。特別是面向基站和汽車等行業(yè)市場,產(chǎn)品偏向定制化,更新?lián)Q代周期長,產(chǎn)品性能的可靠性和穩(wěn)定性要求更高,技術(shù)難度大。加之市場空間較小,難以有足夠的利潤空間供設(shè)計(jì)企業(yè)和制造企業(yè)分享,采用IDM模式更能保證產(chǎn)品性能和利潤。

蘇州能訊總經(jīng)理任勉就表示,IDM模式是從外延材料的生長、器件的設(shè)計(jì),到工藝制造基本都由一個(gè)工廠獨(dú)立完成。這就相當(dāng)于把過去傳統(tǒng)的材料、設(shè)計(jì)、工藝整合在一起。只是,在這樣的一個(gè)背景下,射頻器件的大量出貨,供應(yīng)鏈運(yùn)營是一個(gè)最大的難題。

不過,隨著產(chǎn)品的集成度提升,代工模式也自然的在GaN行業(yè)產(chǎn)生了。尤其是在功率器件領(lǐng)域,GaN的成本更敏感,需要更大尺寸的晶圓來降低成本,這只有代工廠能走做到。

中國臺(tái)灣的穩(wěn)懋就瞄準(zhǔn)5G基站,主打GaN-on-SiC領(lǐng)域。環(huán)宇也擁有4寸GaN-on-SiC高功率PA 產(chǎn)能,且6寸GaN-on-SiC 晶圓代工產(chǎn)能已通過認(rèn)證

在GaN-on-Si方面,臺(tái)積電目前已提供小批量6寸GaN-on-Si晶圓代工服務(wù),650V和 100V GaN芯片技術(shù)平臺(tái),預(yù)計(jì)今年開發(fā)完成。世界先進(jìn)也在2020年對(duì)GaN產(chǎn)品將進(jìn)行小量樣品送樣。

此外,EPC,GaN Systems,Transphorm和VisIC之類的GaN市場初創(chuàng)企業(yè)中的早期參與者與成熟的硅功率半導(dǎo)體制造商結(jié)成聯(lián)盟,例如Transphorm和Fujitsu,GaN Systems和ROHM Semiconductor之間的聯(lián)系。

在中國大陸地區(qū),三安集成和海威華芯具有量產(chǎn)GaN功率器件的能力。三安集成是三安光電下屬子公司,主營GaN和GaAs技術(shù)相關(guān)業(yè)務(wù),是一家專門從事化合物半導(dǎo)體制造的代工廠。海威華芯則是國內(nèi)首家提供6寸GaAs/GaN微波集成電路(GaAs/GaN MMIC)的純晶圓代工服務(wù)的制造企業(yè)。據(jù)悉,公司的氮化鎵已成功突破6寸GaN晶圓鍵合技術(shù)。

選擇IDM還是代工模式并無定論,最終還是要看公司在市場中的定位和自身的水平。目前最關(guān)鍵的是,對(duì)全行業(yè)來說,起跑后能否沖出包圍。

任勉認(rèn)為:“與國外公司相比,國內(nèi)企業(yè)無論是技術(shù)的全面性,還是產(chǎn)能規(guī)模、供應(yīng)鏈的運(yùn)營水平,以及整個(gè)解決方案落地能力、客戶渠道等等,都存在差距。所以說我們無法迅速超車,我們應(yīng)該要正視這個(gè)現(xiàn)實(shí)?!?/p>

“技術(shù)層面不是一天兩天能趕上的,近幾年產(chǎn)業(yè)頻出彎道超車的說法,但我個(gè)人不太認(rèn)同,公司還是需要吸納人才,耐得住寂寞,不斷積累,練好內(nèi)功,才能不斷縮小與國際廠商的差距?!壁w林表示。

原文標(biāo)題:【芯視野】紅出圈的氮化鎵(GaN):爆發(fā)前的黎明,突圍還要蓄力

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原文標(biāo)題:【芯視野】紅出圈的氮化鎵(GaN):爆發(fā)前的黎明,突圍還要蓄力

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    近年來,氮化鎵(GaN)技術(shù)憑借其相較于傳統(tǒng)硅MOSFET的優(yōu)勢,包括更低的寄生電容、無體二極管、出色的熱效率和緊湊的尺寸,極大地改變了半導(dǎo)體行業(yè)。GaN器件變得越來越可靠,并且能夠在很寬的電壓范圍內(nèi)工作。現(xiàn)在,
    的頭像 發(fā)表于 09-05 16:53 ?1w次閱讀
    ADI LT8418半橋<b class='flag-5'>GaN</b>驅(qū)動(dòng)器的PCB布局優(yōu)化指南

    GaN HEMT器件的結(jié)構(gòu)和工作模式

    繼上一篇屏蔽柵MOSFET技術(shù)簡介后,我們這次介紹下GaN HEMT器件。GaN 半導(dǎo)體材料是一種由鎵元素與氮元素組成的Ⅲ-Ⅴ族化合物半導(dǎo)體,在消費(fèi)電子領(lǐng)域,特別是快速充電器產(chǎn)品的成功商用,昭示了其成熟的市場地位與廣闊應(yīng)用前景。
    的頭像 發(fā)表于 09-02 17:18 ?4753次閱讀
    <b class='flag-5'>GaN</b> HEMT器件的結(jié)構(gòu)和工作模式

    Si、SiC與GaN,誰更適合上場?| GaN芯片PCB嵌埋封裝技術(shù)解析

    ,完整內(nèi)容會(huì)在知識(shí)星球發(fā)布,歡迎學(xué)習(xí)、交流-1400+最新全球汽車動(dòng)力系統(tǒng)相關(guān)的報(bào)告與解析已上傳知識(shí)星球?qū)дZ:在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的競技場上,Si、SiC與GaN正上演一
    的頭像 發(fā)表于 08-07 06:53 ?1937次閱讀
    Si、SiC與<b class='flag-5'>GaN</b>,誰更適合上場?| <b class='flag-5'>GaN</b>芯片PCB嵌埋封裝技術(shù)解析

    增強(qiáng)AlN/GaN HEMT

    一種用于重?fù)诫sn型接觸的選擇性刻蝕工藝實(shí)現(xiàn)了AlN/GaN HEMT的縮小 上圖:原位SiN/AlN/GaN HEMT外延堆疊示意圖 俄亥俄州立大學(xué)的工程師們宣稱,他們已經(jīng)打開了一扇大門,有望制備出
    的頭像 發(fā)表于 06-12 15:44 ?1002次閱讀
    增強(qiáng)AlN/<b class='flag-5'>GaN</b> HEMT

    GaN LLC電源EMC優(yōu)化技巧

    目錄 1,整機(jī)線路架構(gòu) 2,初次極安規(guī)Y電容接法 3,PFC校正電路參數(shù)選取及PCB布具注意事項(xiàng) 4,LLC環(huán)路設(shè)計(jì)注意事項(xiàng) 5,GaN驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì)走線參考 6,變壓器輸出整流注意事項(xiàng) 一,整體線路圖 獲取完整文檔資料可下載附件哦?。。?!如果內(nèi)容有幫助可以關(guān)注、點(diǎn)贊、評(píng)論支持一下哦~
    發(fā)表于 05-28 16:15

    GaN與SiC功率器件深度解析

    本文針對(duì)當(dāng)前及下一代電力電子領(lǐng)域中市售的碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)晶體管進(jìn)行了全面綜述與展望。首先討論了GaN與SiC器件的材料特性及結(jié)構(gòu)差異?;趯?duì)市售GaN與SiC功率晶體
    的頭像 發(fā)表于 05-15 15:28 ?2110次閱讀
    <b class='flag-5'>GaN</b>與SiC功率器件深度解析

    功率GaN的新趨勢:GaN BDS

    電子發(fā)燒友綜合報(bào)道 最近多家GaN廠商推出雙向GaN功率開關(guān),即GaN BDS(Bidirectional Switch,雙向開關(guān))。這是一種較為新型的GaN功率器件產(chǎn)品,顧名思義,雙
    發(fā)表于 04-20 09:15 ?1590次閱讀

    基于LTSpice的GaN開關(guān)損耗的仿真

    基于LTSpice的GaN開關(guān)損耗的仿真
    的頭像 發(fā)表于 03-13 15:44 ?2685次閱讀
    基于LTSpice的<b class='flag-5'>GaN</b>開關(guān)損耗的仿真

    GaN HEMT的SPICE模型使用指南及示例

    GaN HEMT的SPICE模型使用指南及示例總結(jié) 本文檔基于GaN HEMT的實(shí)測特性描述了當(dāng)前版本的模型。該模型專為與PSpice和LTspice配合使用而開發(fā)。本文檔首先介紹該模型,然后提供將
    的頭像 發(fā)表于 03-11 17:43 ?2666次閱讀
    <b class='flag-5'>GaN</b> HEMT的SPICE模型使用指南及示例