憑借豐富的iPDK 庫(kù)，新思科技定制設(shè)計(jì)平臺(tái)可適于各種不同的先進(jìn)和傳統(tǒng)工藝技術(shù)

· 完整的iPDK 可讓用戶解鎖高級(jí)功能，從而加速和拓寬開(kāi)發(fā)者對(duì)新工藝節(jié)點(diǎn)的使用，促進(jìn)設(shè)計(jì)復(fù)用并實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步創(chuàng)新

· 三星認(rèn)證了新思科技定制設(shè)計(jì)參考流程能夠帶來(lái)高效設(shè)計(jì)和驗(yàn)證最佳實(shí)踐

新思科技近日宣布與三星晶圓廠合作開(kāi)發(fā)、驗(yàn)證了30 多款全新的可互操作工藝設(shè)計(jì)套件(iPDK) ，并可支持新思科技定制設(shè)計(jì)平臺(tái)。這些iPDK 廣泛覆蓋了三星的先進(jìn)和傳統(tǒng)節(jié)點(diǎn)組合。新思科技定制設(shè)計(jì)平臺(tái)是速度和效率更佳卓越的設(shè)計(jì)和驗(yàn)證解決方案，可使版圖速度提高5 倍、設(shè)計(jì)收斂速度提高2 倍，從而為使用各種三星工藝技術(shù)的客戶提供最高生產(chǎn)效率。

新思科技與三星的合作范圍包括一整套三星iPDK組合、方法學(xué)和設(shè)計(jì)流程的開(kāi)發(fā)和驗(yàn)證。新思科技還與三星合作，基于新思科技定制設(shè)計(jì)平臺(tái)，利用Custom Compiler?設(shè)計(jì)和版圖環(huán)境，實(shí)施了一套全面的iPDK 開(kāi)發(fā)和驗(yàn)證解決方案。所利用的環(huán)境包括HSPICE?電路仿真器、FineSim?電路仿真器、CustomSim?FastSPICE 電路仿真器、Custom WaveView?波形顯示、StarRC?參數(shù)提取以及IC Validator 物理驗(yàn)證。

三星晶圓廠設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)團(tuán)隊(duì)副總裁Jongwook Kye 表示：“我們致力于滿足客戶在技術(shù)和復(fù)雜定制設(shè)計(jì)方面對(duì)于深厚專業(yè)知識(shí)的需求。我們發(fā)現(xiàn)，市場(chǎng)對(duì)于新思科技定制設(shè)計(jì)平臺(tái)及其設(shè)計(jì)和驗(yàn)證解決方案的需求越來(lái)越高。通過(guò)與新思科技這一全面定制設(shè)計(jì)和創(chuàng)新EDA 解決方案的行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者緊密合作，我們?yōu)樾袠I(yè)樹(shù)立了基于三星工藝技術(shù)的優(yōu)化流程和iPDK 新標(biāo)桿。對(duì)于新思科技的差異化設(shè)計(jì)和驗(yàn)證流程與解決方案，三星認(rèn)證其有助于提高開(kāi)發(fā)者在不同節(jié)點(diǎn)的效率?！?/p>

三星和新思科技的iPDK 庫(kù)多達(dá)30多種，涵蓋先進(jìn)全環(huán)繞柵極或FinFET 節(jié)點(diǎn)（包括3nm 到14nm）、以及65nm 到130nm 的傳統(tǒng)節(jié)點(diǎn)，從而允許不同節(jié)點(diǎn)的開(kāi)發(fā)者都可以使用高級(jí)功能，并可通過(guò)最新的新思科技定制實(shí)施解決方案套件，利用模擬和混合信號(hào)集成電路和IP。每一款iPDK 均包含文檔和設(shè)計(jì)基礎(chǔ)架構(gòu)元素，例如：用于不同器件的仿真模型、圖層和技術(shù)文件、用于物理和電氣設(shè)計(jì)規(guī)則驗(yàn)證的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查（DRC）和版圖與電路圖運(yùn)行設(shè)置文件（LVS）、寄生參數(shù)提取設(shè)置文件、電路符號(hào)庫(kù)和參數(shù)化器件、以及用于幫助客戶達(dá)成最佳芯片的功率和性能優(yōu)化。

新思科技工程副總裁Aveek Sarkar 表示：“如今的IP 和模擬設(shè)計(jì)領(lǐng)域面臨的挑戰(zhàn)倍增，如復(fù)雜的版圖規(guī)則、嚴(yán)格的仿真收斂要求以及緊迫的設(shè)計(jì)時(shí)間表。為了提高生產(chǎn)效率，開(kāi)發(fā)者需要一套集成簽核技術(shù)和仿真工作流程的強(qiáng)大定制設(shè)計(jì)平臺(tái)，而非一套點(diǎn)工具。通過(guò)與三星等行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者深入合作，我們正在推動(dòng)方法學(xué)、參考流程和iPDK 方面的重大創(chuàng)新。我們期待與三星繼續(xù)保持合作，共同追求卓越，為快速增長(zhǎng)的市場(chǎng)和客戶生態(tài)系統(tǒng)提供進(jìn)一步的技術(shù)創(chuàng)新?！?/p>

新思科技應(yīng)用工程團(tuán)隊(duì)總監(jiān)Ravi Rao 于10 月28 日出席了三星先進(jìn)晶圓廠生態(tài)系統(tǒng) (SAFE) 論壇，詳細(xì)介紹了高效設(shè)計(jì)和驗(yàn)證所需的最佳方法，以及利用為三星工藝技術(shù)而優(yōu)化的豐富強(qiáng)大的iPDK 支持、設(shè)計(jì)流程方法和實(shí)現(xiàn)成果。
編輯：hfy