91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

AMSL正在研發(fā)第三款極紫外光刻機,計劃明年年中出貨

如意 ? 來源:快科技 ? 作者:陳馳 ? 2020-10-15 16:14 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

據國外媒體報道,已經推出了兩款極紫外光刻機的阿斯麥,正在研發(fā)第三款,計劃在明年年中開始出貨。

阿斯麥是在三季度的財報中,披露他們全新的極紫外光刻機計劃在明年年中開始出貨的,型號為TWINSCAN NXE:3600D。

在財報中,阿斯麥表示他們已經敲定了TWINSCAN NXE:3600D的規(guī)格,其生產效率將提升18%,在30mJ/cm2的曝光速度下每小時可處理160片晶圓。

值得注意的是,在2019年的年報中,阿斯麥就曾披露他們在研發(fā)新一代的極紫外光刻機,不過當時并未披露具體的型號,他們在年報中披露的計劃出貨時間是2022年年初,2024或者2025年大規(guī)模生產。

三季度財報中披露在明年年中開始出貨的TWINSCAN NXE:3600D,如果是他們在年報中提到的那一款,也就意味著出貨時間較原計劃提前了半年。

極紫外光刻機是7nm和5nm芯片制程工藝所必不可少的設備,目前全球只有阿斯麥能供應。

臺積電、三星這兩大芯片代工商的制程工藝都已提升到了7nm和5nm,他們所需要的極紫外光刻機也全部仰仗于阿斯麥,全新的TWINSCAN NXE:3600D的首臺,預計也會交由這兩家代工商中的一家。

阿斯麥目前在售的兩款極紫外光刻機分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,采用的都是波長為13.5nm的極紫外光源,20mJ/cm2的曝光速度下,前者每小時可處理125片晶圓,后者則可達到170片。
責編AJX

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 晶圓
    +關注

    關注

    53

    文章

    5410

    瀏覽量

    132289
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1199

    瀏覽量

    48923
  • AMSL
    +關注

    關注

    0

    文章

    10

    瀏覽量

    3362
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網報道(文/吳子鵬)?在全球半導體產業(yè)格局中,光刻機被譽為 “半導體工業(yè)皇冠上的明珠”,而紫外(EUV)光刻技術更是先進制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML 公
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?1w次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布EUV<b class='flag-5'>光刻機</b>路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    AI需求飆升!ASML新光刻機直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝(FOPLP)技術為何會獲得臺積電、星等代工大廠的青睞?比較傳統(tǒng)的光刻機設備,尼康DSP-100的技術原理有何不同?能解決AI芯片生產當中的哪些痛點問題? 針對2nm、3nm芯片制造難題,
    的頭像 發(fā)表于 07-24 09:29 ?8272次閱讀
    AI需求飆升!ASML新<b class='flag-5'>光刻機</b>直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    壟斷 EUV 光刻機之后,阿斯麥劍指先進封裝

    電子發(fā)燒友網綜合報道 當全球半導體產業(yè)陷入 “先進制程競賽” 的白熱化階段,紫外(EUV)光刻機作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成為決定產業(yè)格局的核心力量。荷蘭阿斯麥(ASML)作為全球唯一
    的頭像 發(fā)表于 03-05 09:19 ?1138次閱讀

    雙色調顯影-------光學光刻紫外光刻

    雙色調顯影(DTD)最早是由Asano提出的。DTD通過兩次單獨的顯影去除最高和最低曝光劑量區(qū)域的光刻膠,實現了兩倍小的間距。DTD的基本原理如圖5-11所示,光刻膠以線空圖形曝光,所得酸濃度在低
    的頭像 發(fā)表于 02-12 10:22 ?207次閱讀
    雙色調顯影-------光學<b class='flag-5'>光刻</b>和<b class='flag-5'>極</b><b class='flag-5'>紫外光刻</b>

    國產高精度步進式光刻機順利出廠

    近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術有限公司(簡稱“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺國產高精度步進式光刻機已成功出廠,標志著我國在半導體核心裝備領域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
    的頭像 發(fā)表于 10-10 17:36 ?1963次閱讀

    今日看點丨全國首臺國產商業(yè)電子束光刻機問世;智元機器人發(fā)布行業(yè)首個機器人世界模型開源平臺

    全國首臺國產商業(yè)電子束光刻機問世,精度比肩國際主流 ? 近日,全國首臺國產商業(yè)電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進入應用測試階段。該設備精度達到0.6nm,線寬
    發(fā)表于 08-15 10:15 ?3110次閱讀
    今日看點丨全國首臺國產商業(yè)電子束<b class='flag-5'>光刻機</b>問世;智元機器人發(fā)布行業(yè)首個機器人世界模型開源平臺

    今日看點丨佳能再開新光刻機工廠;中國移動首全自研光源芯片研發(fā)成功

    ? ? 時隔21年,佳能再開新光刻機工廠 ? 日前,據《日本經濟新聞》報道,佳能在當地一家位于栃木縣宇都宮市的半導體光刻設備工廠舉行開業(yè)儀式,這也是佳能時隔21年開設的首家新光刻機廠。佳能宇都宮工廠
    發(fā)表于 08-05 10:23 ?2245次閱讀

    光刻機實例調試#光刻機 #光學 #光學設備

    光刻機
    jf_90915507
    發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57

    中科院微電子所突破 EUV 光刻技術瓶頸

    紫外光刻(EUVL)技術作為實現先進工藝制程的關鍵路徑,在半導體制造領域占據著舉足輕重的地位。當前,LPP-EUV 光源是紫外光刻機所采用的主流光源,其工作原理是利用波長為 10.
    的頭像 發(fā)表于 07-22 17:20 ?1142次閱讀
    中科院微電子所突破 EUV <b class='flag-5'>光刻</b>技術瓶頸

    改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    的應用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數 曝光是決定光刻圖形線寬的關鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過度導致光刻膠過度反應,使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進的曝光設備,如
    的頭像 發(fā)表于 06-30 15:24 ?969次閱讀
    改善<b class='flag-5'>光刻</b>圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    ASML官宣:更先進的Hyper NA光刻機開發(fā)已經啟動

    是 ASML 在紫外光刻(EUV)技術基礎上的革命性升級。通過將光學系統(tǒng)的數值孔徑(NA)從 0.33 提升至 0.55,其分辨率從 13.5nm(半節(jié)距)躍升至 8nm(半節(jié)
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?2044次閱讀

    詳談X射線光刻技術

    隨著紫外光刻(EUV)技術面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn),X射線光刻技術憑借其固有優(yōu)勢,在特定領域正形成差異化競爭格局。
    的頭像 發(fā)表于 05-09 10:08 ?1628次閱讀
    詳談X射線<b class='flag-5'>光刻</b>技術

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    進制程領域,曝光波長逐漸縮短至13.5nm,光刻技術逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元。 【光刻機的發(fā)展機會主要體現在
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?1419次閱讀

    不只依賴光刻機!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數字時代的“心臟”,其制造過程復雜而精密,涉及眾多關鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備,但實際上,芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關鍵工藝,揭示這些工藝如何協同工作,共同鑄就了
    的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?3947次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機</b>!芯片制造的五大工藝大起底!