1、產(chǎn)業(yè)鏈分析：應(yīng)用于集成電路制造的核心環(huán)節(jié)

CMP技術(shù)，即化學(xué)機(jī)械拋光，為集成電路制造的核心技術(shù)，主要目的為實(shí)現(xiàn)芯片平坦化。

CMP設(shè)備為CMP技術(shù)應(yīng)用的載體，為集機(jī)械學(xué)、流體力學(xué)、材料化學(xué)、精細(xì)化工、控制軟件等多領(lǐng)城最先進(jìn)技術(shù)于一體的設(shè)備，一般由檢測系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、拋光墊、廢物處理系統(tǒng)等組成，是集成電路制造設(shè)備中較為復(fù)雜和研制難度較大的設(shè)備之一。

2、產(chǎn)業(yè)政策分析：致力核心技術(shù)突破與應(yīng)用

我國政策對于CMP設(shè)備行業(yè)的推動(dòng)主要體現(xiàn)在對半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃和促進(jìn)上。例如在《中國制造2025》中明確提出，要形成包括CMP設(shè)備在內(nèi)集成電路關(guān)鍵制造設(shè)備的供貨能力;

《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2019年版）》中也將雙面化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備、硅片單面拋光機(jī)、銅化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備等CMP設(shè)備列入了其中，可見我國對于發(fā)展CMP設(shè)備的支持力度。

3、技術(shù)工藝分析：步驟逐漸增多

CMP技術(shù)的概念是1965 年由Monsanto 首次提出。該技術(shù)最初是用于獲取高質(zhì)量的玻璃表面，如軍用望遠(yuǎn)鏡等。1988 年IBM 開始將CMP 技術(shù)運(yùn)用于4M DRAM 的制造中，而自從1991 年IBM將CMP 成功應(yīng)用到64M DRAM 的生產(chǎn)中以后，CMP 技術(shù)在世界各地迅速發(fā)展起來。

近年來，CMP技術(shù)從Planar Logic發(fā)展到3D FinFET，從2D NAND發(fā)展到3D NAND。隨著CMP工藝的演變，CMP步驟（循環(huán)次數(shù)）也在逐漸加多。其產(chǎn)物的表面也越來越精細(xì)。

4、全球CMP設(shè)備區(qū)域競爭格局分析：中國市場份額超30%

從CMP全球市場分布來看，中國占據(jù)了全球近1/3的市場份額，其中中國大陸占據(jù)了約1/4，臺(tái)灣省占據(jù)了約10%。韓國和北美也是CMP設(shè)備主要市場所在，其所占全球CMP設(shè)備市場的市場份額分別為26%和13%。

5、全球CMP設(shè)備區(qū)域競爭格局分析：應(yīng)用材料占據(jù)7成市場

全球CMP設(shè)備市場的龍頭企業(yè)主要為應(yīng)用材料和荏原機(jī)械，兩家龍頭企業(yè)近乎壟斷了全球CMP設(shè)備的市場，其中應(yīng)用材料占據(jù)了全球CMP設(shè)備市場近70%的市場份額，荏原機(jī)械則占據(jù)了近25%。

6、市場規(guī)模統(tǒng)計(jì)：2019年有所回落

CMP設(shè)備市場約占半導(dǎo)體設(shè)備市場4%的市場份額，按該比例計(jì)算，2012-2018年，全球CMP設(shè)備市場規(guī)模呈現(xiàn)波動(dòng)增長的態(tài)勢。2018年實(shí)現(xiàn)25.82億美元;2019年，受下游行業(yè)影響，全球CMP市場規(guī)模有所回落，僅為23.05億元，較2018年下滑10.73%。

7、國產(chǎn)化分析：國產(chǎn)化率仍需提高

近年來，我國CMP設(shè)備制造技術(shù)不斷發(fā)展，也出現(xiàn)了一批優(yōu)秀的CMP設(shè)備制造企業(yè)，但從2019年華力微電子CMP設(shè)備累計(jì)招標(biāo)采購情況來看，CMP設(shè)備成功中標(biāo)的國產(chǎn)企業(yè)僅有華海清科和天雋機(jī)電，兩者合計(jì)所占份額不足20%，可見我國CMP設(shè)備國產(chǎn)化率仍需提高。

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