傳中芯國際有望得到ASML的EUV光刻機(jī)
據(jù)報道，業(yè)內(nèi)觀察人士稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中國芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥（ASML）就EUV光刻設(shè)備進(jìn)行談判。
報道稱，中芯國際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設(shè)備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。
但據(jù)業(yè)內(nèi)觀察人士稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中芯國際將針對EUV光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進(jìn)行談判。
本周二晚，中芯國際發(fā)布公告稱，蔣尚義獲委任為董事會副董事長、第二類執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會成員，自2020年12月15日起生效。
EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長非常短的光，在硅片上形成數(shù)十億個微小結(jié)構(gòu)，構(gòu)成一個芯片。與老式光刻機(jī)相比，EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片。
報道稱，中芯國際計劃利用EUV光刻機(jī)器，來生產(chǎn)基于7納米以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。
近日有媒體報道稱，中芯國際已經(jīng)從20nm工藝制程，一直攻克到了3nm工藝制程，唯一缺的就是EUV光刻機(jī)。有了EUV光刻機(jī)，中芯國際也能進(jìn)行3nm芯片的量產(chǎn)。
昨日美國股市收盤時，阿斯麥股價收于477.30美元，上漲1.2%。今日，中芯國際股價收于55.02元，下滑1.77%。
責(zé)編AJX
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2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù)
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