集微網(wǎng)消息，1月7日，芯源微發(fā)布期接受機(jī)構(gòu)調(diào)研的活動(dòng)記錄表，芯源微表示，公司前道涂膠顯影機(jī)與國(guó)際光刻機(jī)聯(lián)機(jī)的技術(shù)問(wèn)題已經(jīng)攻克并通過(guò)驗(yàn)證，可以與包括ASML、佳能等國(guó)際品牌以及國(guó)內(nèi)的上海微電子(SMEE)的光刻機(jī)聯(lián)機(jī)應(yīng)用。

天眼查信息顯示，芯源微成立于2002年，是由中科院沈陽(yáng)自動(dòng)化研究所創(chuàng)建的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，專業(yè)從事半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)，致力于為客戶提供半導(dǎo)體裝備與工藝整體解決方案。

在談及芯源微前道涂膠顯影機(jī)Track與國(guó)際光刻機(jī)聯(lián)機(jī)是否還有技術(shù)壁壘時(shí)，芯源微稱，公司前道涂膠顯影機(jī)與國(guó)際光刻機(jī)聯(lián)機(jī)的技術(shù)問(wèn)題已經(jīng)攻克并通過(guò)驗(yàn)證，可以與包括ASML、佳能等國(guó)際品牌以及國(guó)內(nèi)的上 海微電子（SMEE）的光刻機(jī)聯(lián)機(jī)應(yīng)用。

芯源微表示，涂膠顯影機(jī)的在Iline、KrF、向ArF等技術(shù)升級(jí)的過(guò)程中，主要技術(shù)難點(diǎn)在于涂膠顯影機(jī)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，運(yùn)行部件多。研發(fā)升級(jí)在技術(shù)上有很大的跨度，主要體現(xiàn)在顆粒污染物的控制方面，例如烘烤精 度、多腔體的一致性及均勻性、不同光刻膠的涂膠顯影工藝精 細(xì)化控制，以及設(shè)備整體顆粒污染物控制等。

據(jù)悉，芯源微目前訂單比較飽滿，排產(chǎn)工時(shí)較往年有大幅增加。芯源微指出，公司現(xiàn)有的廠區(qū)已經(jīng)是滿負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn)，同時(shí)新廠房也在建設(shè)當(dāng)中，按照計(jì)劃將于2021年4季度投入使用，屆時(shí)對(duì)公司產(chǎn)能提升會(huì)起到 非常大的作用。

關(guān)于進(jìn)口零部件的采購(gòu)，芯源微相關(guān)人士表示，芯源微目前不存在卡脖子的情況。雖然由于國(guó)內(nèi)國(guó)際市場(chǎng)需求旺盛導(dǎo)致了采購(gòu)周期加長(zhǎng)，但是芯源微根據(jù)訂單情況已經(jīng)提前采取應(yīng)對(duì)措施，進(jìn)行了充足的備庫(kù)，能保證客戶訂單的正常生產(chǎn)、排產(chǎn)及交付。

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