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韓國2021年度下一代智能半導體研發(fā)計劃發(fā)布

戰(zhàn)略科技前沿 ? 來源:集成電路研發(fā)競爭情報 ? 作者:集成電路研發(fā)競爭 ? 2021-01-20 17:49 ? 次閱讀
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2020年12月29日,韓國科學和信息通信技術部(MSIT)發(fā)布下一代智能半導體(器件)研發(fā)計劃2021年項目實施計劃。該研發(fā)計劃旨在克服現(xiàn)有半導體技術局限,致力于下一代超低功耗、高性能半導體器件核心技術的創(chuàng)新開發(fā),為期10年(2020-2029年),金額達2405億韓元。

一、實施策略及內(nèi)容

避免論文式研究,促進早期成果商業(yè)化和IP核應用,具體包括:(1)引入競爭性研發(fā)模式,評估每個步驟,并確定持續(xù)支持的項目;(2)支持晶圓級集成和驗證(與下述研發(fā)協(xié)同進行)。

三類研發(fā)包括:(1)新概念型基礎技術(自由競爭模式):該類研發(fā)旨在顛覆性創(chuàng)新,促進半導體范式改變。該類項目每年資助金額不超過2億韓元,3年后進行評估以確定后續(xù)支持。(2)新器件技術(目標型競爭模式):該類研發(fā)旨在開發(fā)CMOS工藝兼容的各種新器件技術(如超低壓、3D集成、內(nèi)存計算、器件系統(tǒng)架構、布線融合、大腦模擬等),以實現(xiàn)超低功耗、高性能的目標。該類項目每年資助金額約10億韓元。(3)新器件集成和驗證技術(內(nèi)容明確型競爭模式):該類研發(fā)旨在支持晶圓級集成和驗證(集成工藝和基于設計的技術開發(fā)等),以促進實驗室開發(fā)的元器件商業(yè)化。該類項目每年資助金額約30億韓元。

二、2020年資助情況

2020年,下一代智能半導體(器件)研發(fā)計劃選擇并支持了24個新項目,總金額達120億韓元。

其中新概念型基礎技術類項目7個,總金額為7億韓元;新器件技術類項目15個,總金額為77.5億韓元;新器件集成和驗證技術類項目2個,總金額為30億韓元。

三、2021年資助計劃

2021年,韓國將加大對下一代智能半導體器件研發(fā)計劃的投資力度,加強項目團隊及機構間的協(xié)作,加快創(chuàng)新步伐。

2021年的總預算為339.77億韓元,其中229億韓元用于繼續(xù)支持2020年選擇的項目,103.18億韓元用于支持19個新項目,7.59億億韓元用于項目運營管理。

2021年的19個新項目中,其中新概念型基礎技術類項目10個,總金額為20億韓元;新器件技術類項目8個,總金額為60.68億韓元;新器件集成和驗證技術類項目1個,總金額為22.5億韓元。2021韓國加大新器件技術的投資力度以盡早確保其在人工智能半導體器件的核心技術優(yōu)勢(例如,人腦模擬器件研究)。2021年新項目將于本年度4月開始執(zhí)行,目前尚未公布。

表1 2021年持續(xù)支持2020年選擇的項目(24)

序號 分類 名稱 資助金額
(百萬韓元)
2020 2021
1 新器件技術類項目15個 利用高k絕緣隧道勢壘的超低功耗2D-3D過渡金屬二硫化物TFET及邏輯電路的研制 557 1114
2 基于閾值開關的快速傳輸?shù)凸倪壿嬈骷碗娐废到y(tǒng)的開發(fā) 447 894
3 基于低溫外延和再結晶工藝的Si/SiGe溝道M3D集成器件和架構開發(fā) 557 1114
4 基于低溫工藝氧化物半導體的超低功耗M3D集成邏輯器件和架構的開發(fā) 557 1114
5 集成2D金屬硫化物和Ge/Si BEOL的高性能器件和M3D集成技術開發(fā) 557 1114
6 基于ReRAM的近內(nèi)存位向量運算開發(fā) 447 894
7 用于加速深度神經(jīng)網(wǎng)絡的三端內(nèi)存計算器件和架構的開發(fā) 447 894
8 低功耗、高可靠性、與CMOS工藝兼容的(半)鐵電內(nèi)存計算器件及結構的研制 447 894
9 CMOS工藝兼容的基于離子基三端突觸器件和晶圓級陣列的神經(jīng)形態(tài)結構開發(fā)和模式識別演示 447 894
10 具有片上訓練功能的電荷存儲突觸器件/陣列和架構開發(fā) 667.5 1335
11 利用負電容場效應晶體管和隧道場效應晶體管開發(fā)超低功耗10x10 SRAM神經(jīng)網(wǎng)絡陣列技術 557 1114
12 下一代智能半導體的CPI設計和布線技術研究 557 1114
13 基于超低功耗納米熱驅(qū)動的下一代接線設備及其3D半導體系統(tǒng)架構的開發(fā) 281 562
14 基于隨機納米磁體的概率計算與逆運算邏輯電路 557 1114
15 基于低功耗新器件的安全芯片開發(fā) 667.5 1335
16 新器件集成和驗證技術類項目2個 開發(fā)用于超低壓新器件的FEOL集成平臺 2000 4000
17 M3D器件集成平臺開發(fā)和系統(tǒng)架構研究 1000 2000
18 新概念型基礎技術類項目7個 超梯度開關脈沖電離晶體管 100 200
19 基于拓撲量子物理學的超靈敏太赫茲非線性整流器 100 200
20 打印光接收單元-信號處理單元的集成圖像傳感器實現(xiàn)* 100 200
21 超低功耗單片高散熱納米光半導體器件的開發(fā) 100 200
22 基于的單分子尺度分子2D異質(zhì)結的超低功耗高效學習人工突觸裝置的開發(fā) 100 200
23 自旋電荷轉換的非易失性控制及自旋邏輯器件的開發(fā) 100 200
24 基于自旋結構動力學的超低功耗集成電路器件技術開發(fā) 100 200

原文標題:【政策規(guī)劃?微】韓國發(fā)布2021年度下一代智能半導體(器件)研發(fā)計劃

文章出處:【微信公眾號:集成電路研發(fā)競爭情報】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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