摩爾定律,雖命名為“定律”,但究其本質(zhì)更像是一條預言,一條在過去的 50 年間始終引導半導體行業(yè)發(fā)展的偉大預言。但是,現(xiàn)階段摩爾定律下工藝的無限制成長終會遭遇一道名為“物理極限”的壁壘,如何繞過壁壘以延續(xù)乃至超越摩爾定律成為了現(xiàn)如今業(yè)界的發(fā)展重心。
如果說系統(tǒng)級芯片(System on Chip,英文簡稱 SoC)技術是摩爾定律不斷發(fā)展所產(chǎn)生的重要產(chǎn)物,那么系統(tǒng)級封裝(System in Package,英文簡稱 SiP)技術便是實現(xiàn)超越摩爾定律的關鍵路徑。在“后摩爾定律”所提供的關鍵助力之下,SiP 生態(tài)系統(tǒng)正持續(xù)成長以緩解因晶體管尺寸日趨物理極限產(chǎn)生的壓力。

(圖片來源:TSMC) 隨著 5G 通信及機器學習技術應用的快速普及,系統(tǒng)級封裝 SiP 技術在短短的時間內(nèi)便已經(jīng)成為實現(xiàn)微系統(tǒng)功能多樣化、集成異構化、體積及成本最小化的最優(yōu)方案。
對于 SiP 技術的生態(tài)系統(tǒng),除了業(yè)內(nèi)人士非常熟悉的半導體材料和計算機輔助設計(CAD)軟件之外,IC 基板技術及與之關聯(lián)的供應鏈同樣是 SiP 生態(tài)系統(tǒng)的重要一環(huán)。上圖所示為當前半導體封測行業(yè)中常見的基板技術及其趨勢。 目前從技術發(fā)展的趨勢來看,雙面塑模成型技術、電磁干擾屏蔽技術、激光輔助鍵合技術可以并稱為拉動系統(tǒng)級封裝技術發(fā)展的“三駕創(chuàng)新馬車”。NO.1雙面塑模成型技術雙面塑模成型技術(Double-Sided Molding Technology)之所以成為系統(tǒng)級封裝工程專家的新寵,主要有兩個原因: (一)有效減少封裝體積以節(jié)省空間。 (二)有效縮短多個裸芯(Bare Dies)及被動元件之間的連接線路以降低系統(tǒng)阻抗、提升整體電氣性能。 更小的封裝體積、更強的電氣性能,為雙面塑模成型技術在 SiP 領域的廣泛應用前景提供了良好的基礎。下圖所示為一例由長電科技成功導入規(guī)模量產(chǎn)的雙面塑模成型 SiP 射頻前端模塊產(chǎn)品。
長電科技的雙面封裝 SiP 產(chǎn)品采用了多項先進工藝以確保雙面塑模成型技術的成功應用。該產(chǎn)品采用了 C-mold 工藝,實現(xiàn)了芯片底部空間的完整填充,并有效減少了封裝后的殘留應力, 保證了封裝的可靠性。
同時 Grinding 工藝的應用,使封裝厚度有了較大范圍的選擇,同步實現(xiàn)精準控制產(chǎn)品的厚度公差。為了去除流程中殘留的多余塑封料,長電科技還采用了 Laser ablation 工藝,以確保產(chǎn)品擁有更好的可焊性。
這項技術看似稀松平常,實則機關暗藏,每一項創(chuàng)新技術的成功落地都要經(jīng)歷許多挑戰(zhàn)。雙面塑模成型(Double-Sided Molding Technology)技術的落地主要面臨著以下三大挑戰(zhàn): (一)塑模成型過程中的翹曲問題。 (二)背面精磨(Back Grinding)過程中的管控風險。 (三)激光灼刻(Laser Ablating)及錫球成型(Solder Ball Making)中的管控風險。 面對全新工藝所帶來的諸多挑戰(zhàn),長電科技選擇直面困難,攻克一系列技術難題,并成功于 2020 年 4 月通過全球行業(yè)領先客戶的認證,實現(xiàn)了雙面封裝 SiP 產(chǎn)品的量產(chǎn)。 在這項全新突破的工藝中,長電科技嚴格把控生產(chǎn)流程,采用高度自動化的先進制程,將在雙面塑模成型過程可能發(fā)生的各類風險隱患進行了有效降低。
原文標題:詳解 SiP 技術體系中的三駕創(chuàng)新馬車(一)
文章出處:【微信公眾號:長電科技】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
責任編輯:haq
-
半導體
+關注
關注
339文章
30829瀏覽量
264803 -
SiP
+關注
關注
5文章
540瀏覽量
107790 -
長電科技
+關注
關注
5文章
397瀏覽量
33512
原文標題:詳解 SiP 技術體系中的三駕創(chuàng)新馬車(一)
文章出處:【微信號:gh_0837f8870e15,微信公眾號:長電科技】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
漏致勢壘降低效應如何影響晶體管性能
MUN5136數(shù)字晶體管技術解析與應用指南
電壓選擇晶體管應用電路第二期
晶體管的定義,晶體管測量參數(shù)和參數(shù)測量儀器
晶體管的基本結構和發(fā)展歷程
0.45-6.0 GHz 低噪聲晶體管 skyworksinc
多值電場型電壓選擇晶體管結構
晶體管架構的演變過程
晶體管光耦的工作原理
下一代高速芯片晶體管解制造問題解決了!
無結場效應晶體管詳解
LP395 系列 36V 功率晶體管數(shù)據(jù)手冊
SiP正持續(xù)成長以緩解因晶體管尺寸日趨物理極限的壓力
評論