91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

SiP正持續(xù)成長以緩解因晶體管尺寸日趨物理極限的壓力

電子工程師 ? 來源:長電科技 ? 作者:長電科技 ? 2021-01-20 18:01 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

摩爾定律,雖命名為“定律”,但究其本質(zhì)更像是一條預言,一條在過去的 50 年間始終引導半導體行業(yè)發(fā)展的偉大預言。但是,現(xiàn)階段摩爾定律下工藝的無限制成長終會遭遇一道名為“物理極限”的壁壘,如何繞過壁壘以延續(xù)乃至超越摩爾定律成為了現(xiàn)如今業(yè)界的發(fā)展重心。

如果說系統(tǒng)級芯片(System on Chip,英文簡稱 SoC)技術是摩爾定律不斷發(fā)展所產(chǎn)生的重要產(chǎn)物,那么系統(tǒng)級封裝(System in Package,英文簡稱 SiP)技術便是實現(xiàn)超越摩爾定律的關鍵路徑。在“后摩爾定律”所提供的關鍵助力之下,SiP 生態(tài)系統(tǒng)正持續(xù)成長以緩解因晶體管尺寸日趨物理極限產(chǎn)生的壓力。

6cd7c568-5924-11eb-8b86-12bb97331649.png

(圖片來源:TSMC) 隨著 5G 通信機器學習技術應用的快速普及,系統(tǒng)級封裝 SiP 技術在短短的時間內(nèi)便已經(jīng)成為實現(xiàn)微系統(tǒng)功能多樣化、集成異構化、體積及成本最小化的最優(yōu)方案。

對于 SiP 技術的生態(tài)系統(tǒng),除了業(yè)內(nèi)人士非常熟悉的半導體材料和計算機輔助設計(CAD)軟件之外,IC 基板技術及與之關聯(lián)的供應鏈同樣是 SiP 生態(tài)系統(tǒng)的重要一環(huán)。上圖所示為當前半導體封測行業(yè)中常見的基板技術及其趨勢。 目前從技術發(fā)展的趨勢來看,雙面塑模成型技術、電磁干擾屏蔽技術、激光輔助鍵合技術可以并稱為拉動系統(tǒng)級封裝技術發(fā)展的“三駕創(chuàng)新馬車”。NO.1雙面塑模成型技術雙面塑模成型技術(Double-Sided Molding Technology)之所以成為系統(tǒng)級封裝工程專家的新寵,主要有兩個原因: (一)有效減少封裝體積以節(jié)省空間。 (二)有效縮短多個裸芯(Bare Dies)及被動元件之間的連接線路以降低系統(tǒng)阻抗、提升整體電氣性能。 更小的封裝體積、更強的電氣性能,為雙面塑模成型技術在 SiP 領域的廣泛應用前景提供了良好的基礎。下圖所示為一例由長電科技成功導入規(guī)模量產(chǎn)的雙面塑模成型 SiP 射頻前端模塊產(chǎn)品。

長電科技的雙面封裝 SiP 產(chǎn)品采用了多項先進工藝以確保雙面塑模成型技術的成功應用。該產(chǎn)品采用了 C-mold 工藝,實現(xiàn)了芯片底部空間的完整填充,并有效減少了封裝后的殘留應力, 保證了封裝的可靠性。

同時 Grinding 工藝的應用,使封裝厚度有了較大范圍的選擇,同步實現(xiàn)精準控制產(chǎn)品的厚度公差。為了去除流程中殘留的多余塑封料,長電科技還采用了 Laser ablation 工藝,以確保產(chǎn)品擁有更好的可焊性。

這項技術看似稀松平常,實則機關暗藏,每一項創(chuàng)新技術的成功落地都要經(jīng)歷許多挑戰(zhàn)。雙面塑模成型(Double-Sided Molding Technology)技術的落地主要面臨著以下三大挑戰(zhàn): (一)塑模成型過程中的翹曲問題。 (二)背面精磨(Back Grinding)過程中的管控風險。 (三)激光灼刻(Laser Ablating)及錫球成型(Solder Ball Making)中的管控風險。 面對全新工藝所帶來的諸多挑戰(zhàn),長電科技選擇直面困難,攻克一系列技術難題,并成功于 2020 年 4 月通過全球行業(yè)領先客戶的認證,實現(xiàn)了雙面封裝 SiP 產(chǎn)品的量產(chǎn)。 在這項全新突破的工藝中,長電科技嚴格把控生產(chǎn)流程,采用高度自動化的先進制程,將在雙面塑模成型過程可能發(fā)生的各類風險隱患進行了有效降低。

原文標題:詳解 SiP 技術體系中的三駕創(chuàng)新馬車(一)

文章出處:【微信公眾號:長電科技】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

責任編輯:haq

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 半導體
    +關注

    關注

    339

    文章

    30829

    瀏覽量

    264803
  • SiP
    SiP
    +關注

    關注

    5

    文章

    540

    瀏覽量

    107790
  • 長電科技
    +關注

    關注

    5

    文章

    397

    瀏覽量

    33512

原文標題:詳解 SiP 技術體系中的三駕創(chuàng)新馬車(一)

文章出處:【微信號:gh_0837f8870e15,微信公眾號:長電科技】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    漏致勢壘降低效應如何影響晶體管性能

    隨著智能手機、電腦等電子設備不斷追求輕薄化,芯片中的晶體管尺寸已縮小至納米級(如3nm、2nm)。但尺寸縮小的同時,一個名為“漏致勢壘降低效應(DIBL)”的物理現(xiàn)象逐漸成為制約芯片性
    的頭像 發(fā)表于 12-26 15:17 ?799次閱讀
    漏致勢壘降低效應如何影響<b class='flag-5'>晶體管</b>性能

    晶體管入門:BJT 與 MOSFET 的控制差異#晶體管 #BJT #MOSFET? #場效應 #電子放大

    晶體管
    安泰小課堂
    發(fā)布于 :2025年12月05日 17:20:57

    MUN5136數(shù)字晶體管技術解析與應用指南

    onsemi MUN5136數(shù)字晶體管旨在取代單個器件及其外部電阻偏置網(wǎng)絡。這些數(shù)字晶體管包含一個晶體管和一個單片偏置網(wǎng)絡,單片偏置網(wǎng)絡由兩個電阻器組成,一個是串聯(lián)基極電阻器,另一個是基極-發(fā)射極
    的頭像 發(fā)表于 11-24 16:27 ?809次閱讀
    MUN5136數(shù)字<b class='flag-5'>晶體管</b>技術解析與應用指南

    電壓選擇晶體管應用電路第二期

    三極Q的集電極電壓,三極Q集電極電壓遠大于Vin,這樣就很方便的控制電壓選擇晶體管了。下圖是改進的電路: 關于電壓選擇晶體管的原理,大家可以搜索《電壓選擇
    發(fā)表于 11-17 07:42

    晶體管的定義,晶體管測量參數(shù)和參數(shù)測量儀器

    晶體管是一種半導體材料為基礎的電子元件,具有檢波、整流、放大、開關、穩(wěn)壓和信號調(diào)制等多種功能?。其核心是通過控制輸入電流或電壓來調(diào)節(jié)輸出電流,實現(xiàn)信號放大或電路開關功能?。 基本定義 晶體管泛指
    的頭像 發(fā)表于 10-24 12:20 ?553次閱讀
    <b class='flag-5'>晶體管</b>的定義,<b class='flag-5'>晶體管</b>測量參數(shù)和參數(shù)測量儀器

    晶體管的基本結構和發(fā)展歷程

    隨著集成電路科學與工程的持續(xù)發(fā)展,當前集成電路已涵蓋二極晶體管、非易失性存儲器件、功率器件、光子器件、電阻與電容器件、傳感器件共 7 個大族,衍生出 100 多種不同類型的器件,推動集成電路技術
    的頭像 發(fā)表于 09-22 10:53 ?1701次閱讀
    <b class='flag-5'>晶體管</b>的基本結構和發(fā)展歷程

    0.45-6.0 GHz 低噪聲晶體管 skyworksinc

    電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供()0.45-6.0 GHz 低噪聲晶體管相關產(chǎn)品參數(shù)、數(shù)據(jù)手冊,更有0.45-6.0 GHz 低噪聲晶體管的引腳圖、接線圖、封裝手冊、中文資料、英文資料,0.45-6.0
    發(fā)表于 09-18 18:33
    0.45-6.0 GHz 低噪聲<b class='flag-5'>晶體管</b> skyworksinc

    多值電場型電壓選擇晶體管結構

    多值電場型電壓選擇晶體管結構 為滿足多進制邏輯運算的需要,設計了一款多值電場型電壓選擇晶體管。控制二進制電路通斷需要二進制邏輯門電路,實際上是對電壓的一種選擇,而傳統(tǒng)二進制邏輯門電路通常比較復雜
    發(fā)表于 09-15 15:31

    晶體管架構的演變過程

    芯片制程從微米級進入2納米時代,晶體管架構經(jīng)歷了從 Planar FET 到 MBCFET的四次關鍵演變。這不僅僅是形狀的變化,更是一次次對物理極限的挑戰(zhàn)。從平面晶體管到MBCFET,
    的頭像 發(fā)表于 07-08 16:28 ?2369次閱讀
    <b class='flag-5'>晶體管</b>架構的演變過程

    晶體管光耦的工作原理

    晶體管光耦(PhotoTransistorCoupler)是一種將發(fā)光器件和光敏器件組合在一起的半導體器件,用于實現(xiàn)電路之間的電氣隔離,同時傳遞信號或功率。晶體管光耦的工作原理基于光電效應和半導體
    的頭像 發(fā)表于 06-20 15:15 ?965次閱讀
    <b class='flag-5'>晶體管</b>光耦的工作原理

    下一代高速芯片晶體管解制造問題解決了!

    先進的晶體管架構,是納米片晶體管(Nanosheet FET)的延伸和發(fā)展,主要用于實現(xiàn)更小的晶體管尺寸和更高的集成密度,滿足未來半導體工
    發(fā)表于 06-20 10:40

    無結場效應晶體管詳解

    當代所有的集成電路芯片都是由PN結或肖特基勢壘結所構成:雙極結型晶體管(BJT)包含兩個背靠背的PN 結,MOSFET也是如此。結型場效應晶體管(JFET) 垂直于溝道方向有一個 PN結,隧道穿透
    的頭像 發(fā)表于 05-16 17:32 ?1451次閱讀
    無結場效應<b class='flag-5'>晶體管</b>詳解

    LP395 系列 36V 功率晶體管數(shù)據(jù)手冊

    LP395 是一款具有完全過載保護的快速單片晶體管。這非常 片上包括高增益晶體管、電流限制、功率限制和熱 過載保護,使其幾乎難以任何類型的過載而銷毀。適用于 該器件采用環(huán)氧樹脂 TO-92
    的頭像 發(fā)表于 05-15 10:36 ?730次閱讀
    LP395 系列 36V 功率<b class='flag-5'>晶體管</b>數(shù)據(jù)手冊

    多值電場型電壓選擇晶體管結構

    多值電場型電壓選擇晶體管結構 為滿足多進制邏輯運算的需要,設計了一款多值電場型電壓選擇晶體管??刂贫M制電路通斷需要二進制邏輯門電路,實際上是對電壓的一種選擇,而傳統(tǒng)二進制邏輯門電路通常比較復雜
    發(fā)表于 04-15 10:24

    晶體管電路設計(下)

    晶體管,F(xiàn)ET和IC,F(xiàn)ET放大電路的工作原理,源極接地放大電路的設計,源極跟隨器電路設計,F(xiàn)ET低頻功率放大器的設計與制作,柵極接地放大電路的設計,電流反饋型OP放大器的設計與制作,進晶體管
    發(fā)表于 04-14 17:24