ASML下一代EUV光刻機(jī)延期：至少2025年
ASML公司前兩天發(fā)布了財(cái)報(bào)，全年凈銷(xiāo)售額140億歐元，EUV光刻機(jī)出貨31臺(tái)，帶來(lái)了45億歐元的營(yíng)收，單價(jià)差不多11.4億歐元了。
雖然業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)很亮眼，但是ASML也有隱憂(yōu)，實(shí)際上EUV光刻機(jī)的出貨不及預(yù)期的35臺(tái)，而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機(jī)要到2025-2026年之間才能規(guī)模應(yīng)用，意味著要延期了。
此前信息顯示，ASML下一代EUV光刻機(jī)最早是2022年開(kāi)始出樣，大規(guī)模量產(chǎn)是2024-2025年間。
ASML的EUV光刻機(jī)目前主要是NEX:3400B/C系列，NA數(shù)值孔徑是0.33，下一代EUV光刻機(jī)是NEX:5000系列，可將NA提升到了0.55，意味著光刻機(jī)的分辨率提升了70%。（注：NA越高，光刻機(jī)精度越高）
目前的EUV光刻機(jī)可以用于制造7nm到3nm工藝的芯片，下代EUV光刻機(jī)則是針對(duì)3nm以下的節(jié)點(diǎn)，2nm甚至未來(lái)的1nm工藝都要用到NA 0.55的EUV光刻機(jī)。
責(zé)任編輯：PSY
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