90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么的芯片
光刻機(jī)是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備，利用光刻機(jī)發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質(zhì)變化、達(dá)到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國(guó)目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機(jī)，那么90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么芯片呢？
90nm除了可以生產(chǎn)90nm制程的芯片外，如果曝光兩次就可以得到45nm的芯片，如果曝光三次就可以達(dá)到22nm芯片的水平?？偟膩碚f，曝光的次數(shù)越多芯片的nm越小，但是良品率會(huì)降低，所以一般都控制在28nm和32nm。
相較于荷蘭、美國(guó)、德國(guó)這些國(guó)家，我國(guó)的芯片制造還是不具優(yōu)勢(shì)的，但是我國(guó)直接從90nm突破到22nm意味著我國(guó)的光刻機(jī)制造的一些關(guān)鍵核心領(lǐng)域已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)突破封鎖，正在崛起。
審核編輯：chenchen
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