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安森美再一次明確了亞洲市場的重要性

安森美 ? 來源:安森美 ? 作者:安森美 ? 2022-08-24 11:15 ? 次閱讀
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2022年第一季度財報中,全球知名半導體廠商安森美(onsemi)再一次明確了亞洲市場(除日本外)的重要性。亞洲地區(qū)對安森美全球市場的貢獻依然過半,僅比2021年底降低了2個百分點。

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“中國是安森美最核心的市場之一,貢獻了近一半營業(yè)額?!彪婒寗釉普搲?,安森美中國區(qū)汽車市場技術負責人,吳桐博士強調。

安森美在韓國、馬來西亞、中國的蘇州和深圳都設了產(chǎn)線,其在亞太地區(qū)擁有完善的供應鏈體系。

吳桐表示,安森美未來的工作重點將放在電動汽車和工業(yè)兩個領域。以電動汽車為例,無論是主驅、充電、智能駕駛和車機娛樂系統(tǒng),或是域控制器等新概念,都需要基于相應的半導體解決方案,這也是企業(yè)絕佳的增長點。

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電動汽車市場半導體需求快速增長

傳統(tǒng)燃油車內半導體的使用比例普遍不高,但隨著電動汽車和插電混動汽車的飛速普及,半導體在汽車電子方向上的占比有了大幅提升。

從成本上來衡量,先前一輛汽車所使用半導體器件的價值不超過50美元,現(xiàn)在或許有一千美元以上。

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隨著新能源汽車的發(fā)展,整車采用半導體器件的數(shù)量成幾何倍數(shù)增長,造成電動汽車市場的半導體需求總量呈現(xiàn)指數(shù)級飛躍。

吳桐認為,半導體行業(yè)需要基于長期性的產(chǎn)能規(guī)劃實現(xiàn)有序增容,采用智能化的投產(chǎn)方式以適應下游客戶的需求。

安森美目前的擴產(chǎn)路徑,是通過垂直整合產(chǎn)業(yè)鏈,前后端互通保證連貫性。通過技術自研和收購的方式,從6英寸向8英寸晶圓進行布局。

以安森美布局電驅動領域的碳化硅器件為例。

碳化硅(SiC)又稱寬禁帶半導體,相比元素半導體(比如硅),禁帶寬度大、擊穿場強高、熱導率高、抗輻射能力強、頻率高??捎糜诟邷?、高頻、抗輻射及大功率器件。

早在2004年, 名為TranSiC(之后被安森美收購)開始了對于SiC BJT轉換器的研究;2016年,安森美以24億美元現(xiàn)金完成對FairChild(仙童半導體)的收購,這促進了安森美全系列低中高壓產(chǎn)線整合。同年,安森美推出第一款碳化硅產(chǎn)品:M1 1200 V MOSFET。六年后,該產(chǎn)品的第四代也即將面世。

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2021年8月,安森美宣布和碳化硅生產(chǎn)商GT Advanced Technologies (GTAT)達成最終收購協(xié)議,以4.15億美元現(xiàn)金收購GTAT。

吳桐表示,碳化硅相比于硅的技術難點,在于從研磨和切割到晶柱成型的整個過程。而GTAT不僅擁有碳化硅產(chǎn)能,還有設備制造的能力,收購GTAT意味著安森美完成了對碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈前端的整合。

預計收購GTAT后,安森美會著力推進8英寸晶圓市場化,大力擴展產(chǎn)線以補充產(chǎn)能。在碳化硅方面,2022-2023年的資本支出預計會占到其總收入的12%。

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高壓化電驅動發(fā)展未來方向

布局十八年,安森美為何看好碳化硅的發(fā)展前景?

吳桐表示,電驅動發(fā)展大方向是從400 V到800 V,系統(tǒng)發(fā)展趨勢是用SiC MOSFET取代Si IGBT。

平臺高壓化,從需求講是為解決里程焦慮,這是從電動車問世以來制約其市場需求的“老大難”問題,傳統(tǒng)燃油車續(xù)航里程平均接近700公里,而電車續(xù)航超過700公里已屬于佼佼者。

吳桐認為,目前流行的換電模式和平臺高壓化殊途同歸,雙方可實現(xiàn)相互加成。除此以外,從技術上講,平臺高壓化還可以帶來充電效率的提升:電壓提高,同等功率下的電損耗低,效率提升,續(xù)航也會相應得到提升。

此外,800 V系統(tǒng)還可以帶來新的技術和市場增長點。目前,400 V系統(tǒng)中IGBT的成本和性能都已經(jīng)達到了較好的平衡,市面上還沒有企業(yè)進行800 V系統(tǒng)的量產(chǎn),新市場對技術的包容度更高,可以在性能上有所突破。

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平臺的高壓化必然帶來元器件的更新。比如400 V下,Si IGBT的實際耐壓需求接近600 V,當電壓提升到800 V,元器件的實際耐壓需求將達到1200 V,這要求適用于400 V的Si IGBT必須被有更高耐壓值的元器件所替代,比如寬禁帶半導體SiC。

碳化硅上車路漫漫其修遠兮

吳桐表示,“碳化硅的出現(xiàn)給了下游市場很大的空間去做提升,無論是從功率密度還是功率等級,甚至在開關頻率等方面的可操控性也有了升級,其中EV(電動車)是碳化硅器件重點關注的行業(yè)?!?/p>

但是應該注意,從出現(xiàn)新的技術增長點,到規(guī)?;a(chǎn),再到同主流產(chǎn)品Si IGBT爭奪裝車量和市占率,每個階段都要經(jīng)歷漫長的研發(fā)和產(chǎn)能規(guī)劃過程。

從結果回溯,助力碳化硅上車。產(chǎn)業(yè)鏈前后端需要系統(tǒng)性的整合與升級,下游需求提供清晰的優(yōu)化方向,上游供應配合實現(xiàn)性能的突破,上下游的信息交互是一個雙向促進的過程。

在此之前,必須打通碳化硅供應鏈,實現(xiàn)生產(chǎn)規(guī)模與產(chǎn)品良率的同步提升,進而降低產(chǎn)品單價,打造市場優(yōu)勢,安森美的布局也是針對這一難點。

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目前,安森美和絕大多數(shù)看好碳化硅前景的半導體企業(yè),均處于著手解決碳化硅器件在制造、切割、互連、封裝等工藝技術痛點的階段。

從制造工藝看,碳化硅作為化合物,晶圓提純的工藝難度高于硅單質,生長的環(huán)境溫度更高且容易產(chǎn)生雜質,且目前尚未達到規(guī)?;a(chǎn)出,相比于硅良率更低。

就切割過程而言,單質硅容易切薄,且硅柱很長,取優(yōu)質部分可以切頭去尾。然而碳化硅的硬度介于剛玉和金剛石之間,既硬且脆,在切薄的過程中需要先切厚再減薄?!氨热缯f需要100的晶片,但我要切成200,然后再做減薄?!眳峭┍硎厩懈钸^程中會有許多浪費,目前工藝不成熟的情況下,產(chǎn)品利用率、性價比和可靠性都不高。

在半導體摻雜過程中,傳統(tǒng)的硅基半導體摻雜工藝多樣,較為成熟的有熱擴散和離子注入技術,都可以改變晶體中載流子的種類和濃度,從而調節(jié)其電學特性。

但這兩類方法并不適用于碳化硅,以熱擴散為例,其原理在于加熱使晶體產(chǎn)生大量熱缺陷,加劇熱運動,提高原子的擴散系數(shù),而碳化硅中原子的擴散系數(shù)極低,且在注入的激活退火中,大部分注入后雜質的擴散小到可以忽略不計。

吳桐表示,目前碳化硅只有一種特殊的摻雜方法,但其產(chǎn)能低、效率相比離子注入更低,也會對良率造成影響。但他同時也強調,安森美從2004年就開始布局碳化硅,在工藝的成熟度上屬于行業(yè)前列,這也是安森美爭奪這一領域龍頭地位的信心所在。

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碳化硅將如何改變模塊封裝

吳桐表示,模塊設計在未來是走向塑封、小型和輕量級、大功率密度這幾個方向。具體而言,碳化硅的參與可以從五個角度改變封裝技術。

首先是可靠性測試,由于Si IGBT對于功率的要求不高,傳統(tǒng)的六合一模塊中可靠性是較大的短板,在對碳化硅器件封裝可靠性的未來驗證中,會著重分析功率循環(huán)和極溫循環(huán)這兩大測試。

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相較于Si材料,SiC材料的CTE系數(shù)更大,SiC芯片在邊緣產(chǎn)生的熱應力更大。隨著使用時間的增加,在功率循環(huán)過程中芯片層會與下部焊料層產(chǎn)生分離的現(xiàn)象,甚至會造成焊料層出現(xiàn)空洞。這些空洞帶來的直接后果就是熱阻升高,器件的熱傳導能力下降,散熱變差。

相比于傳統(tǒng)焊接技術,銀燒結技術的應用可以很好的解決上述問題。銀燒結技術也被稱為低溫連接技術,是指采用微米和納米級的銀顆粒通過燒結工藝進行材料連接的技術,是大功率模塊封裝中的關鍵技術。

吳桐表示,這主要是因為銀燒結屬于納米多孔的材料,吸收應力和導熱的能力都很強,使用銀燒結技術對器件可靠性的提升有一定幫助。

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與此同時,互連工藝也會發(fā)生改變。在相同的電流負載下,SiC MOSFET的面積是Si IGBT面積的一半。這一優(yōu)勢帶來引線鍵合上的困難,隨著SiC MOSFET的面積減小,單位電流密度增大,但單位面積上的鍵合絲數(shù)量是相對固定的,造成單根鍵合絲所承載電流量的增加。

從以下的模塊測試圖可以看出,高溫點出現(xiàn)在鍵合點處。從切面圖分析,模塊的失效一方面是由于熱阻提升,另一方面則是鍵合絲脫落。在極端情況下,還可能因為電流過大燒毀鍵合絲。

以上都會損傷器件的可靠性,在多次評估后,安森美提出用塑封模塊代替灌膠模塊,會將器件整體的可靠性提升到原有水平的四倍以上。

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為了優(yōu)化電感,在模塊的具體設計上也會有所改變。

相同電流等級下,Si IGBT芯片的面積相比SiC MOSFET更大,所以可鍵合位點更多,但寄生電感量最小化不僅僅是通過鍵合絲數(shù)量的增加就可以達到的,吳桐表示,鍵合絲、基板材質、芯片連接處等設計是優(yōu)化電感的關鍵,比如采用DPC(電鍍陶瓷基板)、激光焊、疊層設計等等。

最后是對封裝材料的升級,保證器件在高溫工況下的可靠運行。

為提高SiC MOSFET的電流輸出能力,增強器件的性價比,可以將原本的最高結溫150℃進一步提升到200℃,相當于在成本相同的情況下多輸出100 A電流。功率器件逐步向高運行結溫的轉變,也是安森美提倡塑封的一大原因。

功率半導體行業(yè)內的共識是:限制器件通流能力的主要是器件的熱設計。比方說,不同的散熱能力下,器件傳輸電流的能力不一樣。如果通流能力弱,為了傳輸同樣的電流,需要并聯(lián)多個器件,相比一個而言,成本有很大的劣勢。

通過對器件封裝的升級,從而提升其散熱能力,即便封裝成本會有一定程度的增加,但系統(tǒng)層級下的通流能力更強。整體來看,此方案的性價比還是很高,也能滿足終端的需求。

碳化硅會是下一個行業(yè)風口嗎?它的到來和應用是否會加速高壓化平臺架構的建設?目前存在的諸多技術痛點又將如何解決?碳化硅上車之路漫漫,已布局近二十年的安森美能否成為行業(yè)龍頭,引領技術的下一步突破?

新事物的發(fā)展總會帶來諸多期待,但最終落點還是如吳桐所言:“用更好的技術服務這個市場?!?/p>

審核編輯 :李倩

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原文標題:布局碳化硅十八年 安森美如何改變芯片未來

文章出處:【微信號:onsemi-china,微信公眾號:安森美】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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