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ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用專題:在薄膜計(jì)算中Ray以及Field系數(shù)是什麼?

wavelab86 ? 來源:wavelab86 ? 作者:wavelab86 ? 2022-11-21 09:17 ? 次閱讀
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作者:Mark Nicholson

譯者:Michael Cheng

摘要:在Zemax OpticStudio中計(jì)算考慮偏振并通過薄膜的光線追跡時(shí),OpticStudio回報(bào)的反射、穿透以及相位資料是以 “ray” 以及 “field” 係數(shù)表示的。這些是什么?他們有什么不同?以及我應(yīng)該使用哪一個(gè)?

什么是Field以及Ray係數(shù)

常常使用者在這個(gè)主題上會(huì)有一些混亂,因?yàn)楸∧だ碚撘约跋嚓P(guān)的設(shè)計(jì)軟體程式,通常以不同的觀點(diǎn)來處理這個(gè)問題,而這個(gè)觀點(diǎn)與光線追跡的程式有很大的不同。在薄膜光學(xué)中,我們通常處理光的場 (field),一般來說即是所謂的平面波。然而,光線的處理方式在本質(zhì)上有很大不同,光線是局部的、無限小的且?guī)в心芰康囊稽c(diǎn),擁有位置以及傳播方向等資訊。光線所看到的世界與薄膜的世界是不同的。

舉例來說,讓我們探討一下 “光線與表面交會(huì)于一點(diǎn)” 這個(gè)概念。在一個(gè)沒有鍍膜的光學(xué)面上,定義一條光線可以非常簡單:

poYBAGN60bGAS06eAACXt2Qmcnc048.png

但是,現(xiàn)在讓我們思考另一個(gè)狀況:四分之一波長厚度的膜層 (我們另外設(shè)定一個(gè)0.25倍波長厚的物件,位于前述物件表面之上)。如果我們放大來檢視這個(gè)四分之一波長物件的話,我們會(huì)看到:

poYBAGN60bOAVgMhAAEM72uBoII625.png

現(xiàn)在,在這個(gè)圖中,我們有了幾個(gè)疑問:

(1) 入射的光線交會(huì)于這個(gè)表面的 “哪裡”?

(2) 光線在 “哪裡” 分裂的?

(3) “哪一條” 光線是入射光? “哪一條” 是反射光?又 “哪一條” 是穿透光?

上面圖表描繪了用 “場 (field)” 來處理薄膜光學(xué)的概念。某個(gè)角度的一道入射平面波會(huì)在下面兩個(gè)介面中反覆交錯(cuò)無數(shù)次:空氣到膜層介面以及膜層到基板介面。在每一次的交錯(cuò)中,就相應(yīng)產(chǎn)生一道穿透以及一道反射光場,最后這些光場會(huì)在同調(diào)的假設(shè)下相加。經(jīng)過一番如魔術(shù)般建設(shè)性以及破壞性干涉后,最后的結(jié)果可以用巨觀的反射以及穿透係數(shù)來表示。入射光的電場并非用單一個(gè)點(diǎn)來描述,相對(duì)的,我們會(huì)假設(shè)該電場比多重光束干涉發(fā)生的區(qū)域更大許多。

在Zemax OpticStudio中,我們使用field係數(shù)來表示這個(gè)結(jié)果,這些係數(shù)已經(jīng)被薄膜膜層的程式驗(yàn)證過許多次。薄膜理論的慣例是計(jì)算平面法向量方向上的相位變化,這表示其假設(shè)了一個(gè)虛擬的平面波從薄膜最外層一路傳播到基板。這個(gè)慣例暗示了相位變化在正向入射上為最大,并且隨著入射角變大、相對(duì)應(yīng)余弦值變小而相位變化也漸漸變小。但光線追跡上,我們是使用不同的方法來描述的。

光線追跡的處理方式是如同上面第一張圖表的。過程中只有叁條光線:入射、穿透以及反射。你可以隨意的放大檢視,永遠(yuǎn)只有叁條線。膜層本身不用光線追跡來處理,而用不同的函數(shù)來操作。

對(duì)于光線追跡,光學(xué)相位的超前或延遲都是沿著光線觀察的。Zemax OpticStudio直接追跡光線到基板的位置,忽略中間的膜層及其厚度。膜層被假設(shè)鍍?cè)诨灞砻嬷?。正確計(jì)算光線的相位需要把電場逆向傳播到薄膜起始的位置,并且修正薄膜的相位計(jì)算方式為沿著光線方向,而不是表面法向量方向。Zemax OpticStudio把這些稱之為 “ray” 係數(shù)。因?yàn)楣饴窂介L是沿著光線方向計(jì)算的,并且光線長度在薄膜中會(huì)隨著角度增加,因此光線的相位會(huì)以 1/cos(theta) 的變化方式近似,這樣才是增加膜層相位的光路徑長時(shí),正確表示方式。

請(qǐng)注意Zemax OpticStudio在偏振追跡中,會(huì)同時(shí)回報(bào) “ray” 以及 “field” 兩種係數(shù),因而使用者可以同時(shí)查看兩者。當(dāng)使用者需要增加膜層相位到光路徑長時(shí),就使用ray係數(shù)。而當(dāng)使用者要與薄膜程式交叉比對(duì)時(shí),則field係數(shù)可以讓這個(gè)步驟變得較為方便。請(qǐng)注意不論使用哪一個(gè)計(jì)算方式,S與P偏振的相位差都是一樣的

Ansys Zemax國內(nèi)可靠代理商

光研科技南京有限公司是國內(nèi)可靠的光學(xué)軟件和儀器光電供應(yīng)商,提供企業(yè)定制化上門培訓(xùn)服務(wù),承接各類光學(xué)設(shè)計(jì)項(xiàng)目,并有一系列自主編寫出版的光學(xué)設(shè)計(jì)書籍。公司擁有一支高素質(zhì)、高水平、實(shí)戰(zhàn)經(jīng)驗(yàn)豐富的管理,銷售以及研發(fā)團(tuán)隊(duì),從成立到現(xiàn)在已經(jīng)為廣大企業(yè),研究所以及高校提供了很多優(yōu)秀的產(chǎn)品和服務(wù),是光電圈內(nèi)值得信賴的企業(yè)。追光逐夢,研以致用!以用戶的需求為起點(diǎn),為客戶提供有價(jià)值的光學(xué)產(chǎn)品和服務(wù)一直都是光研科技南京有限公司的宗旨。

審核編輯 黃昊宇


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