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什么是Hybrid Bonding?Hybrid Bonding是銅銅鍵合嗎?

半導(dǎo)體設(shè)備與材料 ? 來源:艾邦半導(dǎo)體網(wǎng) ? 2023-04-20 09:40 ? 次閱讀
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在Hybrid Bonding前,2D,2.5D及3D封裝都是采用焊錫球凸點(diǎn)(solder bump)或微凸點(diǎn)(Micro bump)來實現(xiàn)芯片與基板,芯片與中介層(interposer), 芯片與芯片間的電連接。Solder bump/micro bump在制備工藝中都有植球的步驟,所植的球就是焊錫球(Solder bump),所以在Hybrid Bonding之前芯片間的連接都是靠焊錫球進(jìn)行連接。

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圖1,Cu+Solder 統(tǒng)稱為bump, 細(xì)分又可以分為Cu bump 和Solder Bump. 當(dāng)然Solder bump是植在銅柱 (Copper bump)上的。如圖2所示,當(dāng)copper bump pitch 小于10~20um時,焊錫球 solder bump就變成了工藝難點(diǎn)及缺陷的主要來源。這時候就需要一種新的工藝來解決bump 間距小于10微米芯粒間鍵合的問題。當(dāng)然Hybrid Bonding在電學(xué)性能方面也有獨(dú)特的優(yōu)勢,如圖3所示,Hybrid Bonding信號丟失率幾乎可以忽略不計,這在高吞吐量,高性能計算領(lǐng)域優(yōu)勢明顯。在業(yè)界強(qiáng)烈需求的呼喚下,Hybrid Bonding騰空出世。

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圖2,不同bump間距(pitch)所采用BUMP形式

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圖3,頻率與信號丟失對應(yīng)曲線圖

Hybrid Bonding中的Hybrid是指除了在室溫下凹陷下去的銅bump完成鍵合,兩個Chip面對面的其它非導(dǎo)電部分也要貼合。因此,Hybrid Bonding在芯粒與芯?;蛘遷afer與wafer之間是沒有空隙的,不需要用環(huán)氧樹脂進(jìn)行填充。

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圖4,圖源十輪網(wǎng)

混合鍵合流程圖:(a)試片未接合面貌(b)介電材料接合步驟(c)提高溫度銅接點(diǎn)接合過程(d)高溫時接點(diǎn)內(nèi)部應(yīng)力分布狀態(tài) Hybrid Bonding是近幾年被叫響的,在之前業(yè)界通常稱其為DBI(Direct Bond Interconnect,直接鍵合連接),它是在20世紀(jì)80年代中期由Paul Enquist,Q.Y. Tong和Gill Fountain在三角研究所(RTI)的實驗室首次構(gòu)思,DBI因其優(yōu)雅和簡潔而成為鍵合大海上的明燈。他們?nèi)齻€后來在2000年成立了一家叫Ziptronix的公司,并于2005年實現(xiàn)了10um bump間距用DBI技術(shù)連接的鋁布線層,接著又在2011年發(fā)布2um bump間距用DBI技術(shù)完成wafer to wafer 連接。2015年Ziptronix被Xperi (前Tessera)收購。在2019年,DBI/Hybrid Bonding技術(shù)由Xperi (前Tessera)完成了最終的專利布局,其本身沒有量產(chǎn)的產(chǎn)品推出。

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圖5,2005年Ziptronix發(fā)布10um間距 用DBI技術(shù)連接的鋁布線層

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圖6,2011年Ziptronix發(fā)布2um間距用DBI技術(shù)完成的wafer to wafer連接

業(yè)界第一個DBIDBI/Hybrid Bonding量產(chǎn)的產(chǎn)品是由Sony在圖像傳感器上進(jìn)行應(yīng)用。這項技術(shù)在堆疊的CMOS圖像傳感器的下部電路芯片和上部像素芯片中增加了Cu連接焊盤,以同時建立物理和電氣連接。由于Cu-Cu直接鍵合是在wafer生產(chǎn)過程中進(jìn)行的,索尼開發(fā)了原始的制造工藝來克服這些問題,并成為世界上第一個推出該技術(shù)的公司。

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圖7,Sony首款采用HybridBonding/DBI銅銅鍵合的傳感器

接著臺積電,英特爾、三星等大廠都開始采用該工藝用于進(jìn)行3D封裝,并陸續(xù)推出用于CPU、GPU及高性能計算中。到今天,Hybrid Bonding已經(jīng)被叫的越來越響。

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圖8,AMD Hybrid Bonding產(chǎn)品

最后我們再談?wù)勏鄳?yīng)的設(shè)備廠家,Hybrid Bonding代表著未來,代表著研發(fā)實力,設(shè)備巨頭們都在積極跟進(jìn)。當(dāng)前主要有兩個實力強(qiáng)勁的聯(lián)盟:Besi與Applied Material的BA聯(lián)盟以及香港的ASMPT與EV GROUP (EVG)的AE聯(lián)盟,巨頭們強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合來爭奪先進(jìn)封裝設(shè)備中的塔尖。另外,根據(jù)新聞報道近期異軍突起的華封也在積極研發(fā)布局。如果您是我們的老朋友應(yīng)該看到過我們艾邦半導(dǎo)體公眾號對TCB(熱壓鍵合)設(shè)備的介紹,相信大家對TCB設(shè)備的復(fù)雜性已經(jīng)有一定的了解。

TCB設(shè)備升級改造后可以具備Hybrid Bonding的功能,但是后者的難點(diǎn)除了貼裝精度要求更高外,對晶粒及晶圓本身共面性、表面粗糙度、潔凈度等要求都極為苛刻。這也就是為什么一套Hybrid Bonding設(shè)備的研發(fā)需要巨頭們強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合的原因。





審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:先進(jìn)封裝之混合鍵合(Hybrid Bonding)的前世今生

文章出處:【微信號:半導(dǎo)體設(shè)備與材料,微信公眾號:半導(dǎo)體設(shè)備與材料】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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