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8.2.10.3 4H-SiC反型層遷移率的實(shí)驗(yàn)結(jié)果∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長(zhǎng)、表征、器件和應(yīng)用》

深圳市致知行科技有限公司 ? 2022-03-05 10:43 ? 次閱讀
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8.2.10.3 4H-SiC反型層遷移率的實(shí)驗(yàn)結(jié)果

8.2.10 反型層電子遷移率

8.2 金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)

第8章單極型功率開關(guān)器件

《碳化硅技術(shù)基本原理——生長(zhǎng)、表征、器件和應(yīng)用》

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