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Directed Self-assembly Lithography（DSA）

審稿人：北京大學蔡一茂楊遠程

https://www.pku.edu.cn

審稿人：北京大學張興

第10章集成電路基礎研究與前沿技術發(fā)展

《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊

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【「芯片設計基石——EDA產(chǎn)業(yè)全景與未來展望」閱讀體驗】+ 全書概覽

、半導體手冊、光電子芯片等構成集成電路關鍵技術與創(chuàng)新應用叢書。華大九天，組編，劉偉平、呂霖、王宗源編著。編著介于編和著之間，既有原創(chuàng)內(nèi)容，也有對他人資料的整理和引用。定位是既可作為EDA從業(yè)者的行業(yè)

發(fā)表于 01-20 19:27

【「芯片設計基石——EDA產(chǎn)業(yè)全景與未來展望」閱讀體驗】--全書概覽

國內(nèi)集成電路設計EDA行業(yè)領頭羊一員，以實事求是、開拓創(chuàng)新，積極進取精神向讀者展現(xiàn)講解，也是在激勵集成電路EDA產(chǎn)業(yè)不斷發(fā)展壯大，勇立潮頭。

發(fā)表于 01-18 17:50

上海重磅發(fā)文：扶持集成電路產(chǎn)業(yè)、攻堅裝備與光刻膠！

未來，上海將加快先導產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略引領。支持集成電路企業(yè)瞄準裝備、先進工藝、光刻膠材料、3D封裝，實現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破，培育一批具有國際競爭力的龍頭企業(yè)。同時深化全棧創(chuàng)新，推動高性能智算芯片加快

發(fā)表于 01-16 16:10 ?248次閱讀

煥新啟航·品質(zhì)躍升 IICIE國際集成電路創(chuàng)新博覽會，構建全球集成電路全產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)平臺

為積極響應國家集成電路創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略部署，加快推進集成電路產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展生態(tài)，原“SEMI-e深圳國際半導體展暨集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新展”正式升級為“

發(fā)表于 01-05 14:47 ?402次閱讀

煥新啟航·品質(zhì)躍升 IICIE國際<b class='flag-5'>集成電路</b>創(chuàng)新博覽會，構建全球<b class='flag-5'>集成電路</b>全<b class='flag-5'>產(chǎn)業(yè)</b>鏈生態(tài)平臺

高云半導體入選山東省集成電路產(chǎn)業(yè)技術創(chuàng)新成果獎

2025年11月29日，山東濟南——在山東省集成電路科技與產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展對接交流活動上，高云半導體自主研發(fā)的GW5AT-LV60UG324高性能FPGA產(chǎn)品，憑借其卓越的技術創(chuàng)新能力和廣泛的市場

發(fā)表于 12-08 09:20 ?2649次閱讀

高云半導體入選山東省<b class='flag-5'>集成電路</b><b class='flag-5'>產(chǎn)業(yè)</b><b class='flag-5'>技術</b>創(chuàng)新成果獎

躍昉科技亮相2025“中國芯”集成電路產(chǎn)業(yè)促進大會

11月14日，國家級集成電路產(chǎn)業(yè)盛會——2025年“中國芯”集成電路產(chǎn)業(yè)促進大會暨第二十屆“中國芯”優(yōu)秀產(chǎn)品征集結果發(fā)布儀式，在珠海橫琴天沐琴臺會議中心隆重舉行。本次大會匯聚了來自全國

發(fā)表于 11-18 16:51 ?738次閱讀

躍昉科技亮相2025“中國芯”<b class='flag-5'>集成電路</b><b class='flag-5'>產(chǎn)業(yè)</b>促進大會

集成電路產(chǎn)業(yè)迎利好!兩部門聯(lián)合發(fā)布計量支撐行動方案

近日，市場監(jiān)管總局與工業(yè)和信息化部聯(lián)合發(fā)布《計量支撐產(chǎn)業(yè)新質(zhì)生產(chǎn)力發(fā)展行動方案》(以下簡稱《方案》)，明確提出將重點支持集成電路等戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)，通過突破核心計量技術瓶頸，助力

發(fā)表于 07-16 10:16 ?1291次閱讀

<b class='flag-5'>集成電路</b><b class='flag-5'>產(chǎn)業(yè)</b>迎利好!兩部門聯(lián)合發(fā)布計量支撐行動方案

定向自組裝光刻技術的基本原理和實現(xiàn)方法

定向自組裝光刻技術通過材料科學與自組裝工藝的深度融合，正在重構納米制造的工藝組成。主要內(nèi)容包含圖形結構外延法、化學外延法及圖形轉(zhuǎn)移

發(fā)表于 05-21 15:24 ?2249次閱讀

<b class='flag-5'>定向</b><b class='flag-5'>自組裝</b><b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術</b>的基本原理和實現(xiàn)方法

電機驅(qū)動與控制專用集成電路及應用

的功率驅(qū)動部分。前級控制電路容易實現(xiàn)集成，通常是模擬數(shù)字混合集成電路。對于小功率系統(tǒng)，末級驅(qū)動電路也已集成化，稱之為功率

發(fā)表于 04-24 21:30

中國集成電路大全接口集成電路

資料介紹本文系《中國集成電路大全》的接口集成電路分冊，是國內(nèi)第一次比較系統(tǒng)地介紹國產(chǎn)接口集成電路的系列、品種、特性和應用方而知識的書籍。全書共有總表、正文和附錄三部分內(nèi)容?？偙聿糠至杏?/div>

發(fā)表于 04-21 16:33

最全最詳盡的半導體制造技術資料，涵蓋晶圓工藝到后端封測

第9章 集成電路制造工藝概況第10章氧化第11章淀積第12章金屬化第13章光刻：氣相成底膜到軟烘第14章光刻：對準和曝光第15章光刻：

發(fā)表于 04-15 13:52

DSA技術：突破EUV光刻瓶頸的革命性解決方案

劑量的需求也加劇，從而造成了生產(chǎn)力的瓶頸。DSA技術：一種革命性的方法DSA技術通過利用嵌段共聚物的分子行為來解決EUV光刻面臨的挑戰(zhàn)。嵌段

發(fā)表于 03-19 11:10 ?1457次閱讀

<b class='flag-5'>DSA</b><b class='flag-5'>技術</b>：突破EUV<b class='flag-5'>光刻</b>瓶頸的革命性解決方案

集成電路和光子集成技術的發(fā)展歷程

本文介紹了集成電路和光子集成技術的發(fā)展歷程，并詳細介紹了鈮酸鋰光子集成技術和硅和鈮酸鋰復合薄膜技術

發(fā)表于 03-12 15:21 ?1968次閱讀

國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展應有五個著力點

基礎研究和技術問題反饋到科技創(chuàng)新的鏈條中。同時，集成電路也是賦能千行百業(yè)發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力的基礎，要面向產(chǎn)業(yè)升級提出的場景、目標、需求，進行更有針對性和目的性的創(chuàng)新?！惫L表示。他認為，集成電路

發(fā)表于 03-12 14:55 ?716次閱讀

集成電路產(chǎn)業(yè)新地標 集成電路設計園二期推動產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能級提升

在2025海淀區(qū)經(jīng)濟社會高質(zhì)量發(fā)展大會上，海淀區(qū)對18個園區(qū)（樓宇）的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)業(yè)空間及更新改造的城市高品質(zhì)空間進行重點推介，誠邀企業(yè)來海淀“安家”。2024年8月30日正式揭牌的集成電路設計園二期就是

發(fā)表于 03-12 10:18 ?997次閱讀

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10.4.4 定向自組裝光刻技術（DSA）∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

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