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      9.6.8 化學(xué)機(jī)械拋光墊和化學(xué)機(jī)械修整盤∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

      深圳市致知行科技有限公司 ? 2022-02-28 11:20 ? 次閱讀
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      Chemical Mechanical Polishing Pad and Conditioning Disc

      撰稿人：安集微電子科技(上海)股份有限公司 王淑敏

      http://page.anjimicro.com

      審稿人：浙江大學(xué) 余學(xué)功

      https://www.zju.edu.cn

      9.6 工藝輔助材料

      第9章 集成電路專用材料

      《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊(cè)

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      • 集成電路
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        的頭像 發(fā)表于 01-20 11:27 ?237次閱讀
        功率放大器在UV-CMP<b class='flag-5'>拋光</b>機(jī)中的應(yīng)用

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        國內(nèi)集成電路設(shè)計(jì)EDA行業(yè)領(lǐng)頭羊一員，以實(shí)事求是、開拓創(chuàng)新，積極進(jìn)取精神 向讀者展現(xiàn)講解，也是在激勵(lì)集成電路EDA產(chǎn)業(yè)不斷發(fā)展壯大，勇立潮頭。
        發(fā)表于 01-18 17:50

        化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝技術(shù)制程詳解；

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        的頭像 發(fā)表于 11-13 11:04 ?1739次閱讀
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        的頭像 發(fā)表于 08-05 17:55 ?1155次閱讀
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        的頭像 發(fā)表于 07-03 15:12 ?2582次閱讀
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        的頭像 發(fā)表于 06-06 14:10 ?911次閱讀
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        的頭像 發(fā)表于 05-14 17:05 ?1569次閱讀
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        發(fā)表于 04-21 16:33

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        的頭像 發(fā)表于 03-14 07:20 ?2021次閱讀
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