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9.3.5 微缺陷∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

深圳市致知行科技有限公司 ? 2021-12-31 10:31 ? 次閱讀
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Microdefects

撰稿人:浙江大學(xué) 馬向陽

https://www.zju.edu.cn/

審稿人:浙江大學(xué) 楊德仁

9.3硅材料中的缺陷與雜質(zhì)

第9章 集成電路專用材料

《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊

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往期內(nèi)容:

9.3.4 體缺陷∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.3.3 面缺陷∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.3.2 線缺陷∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.3.1 點缺陷∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.2.7 硅片清洗與包裝∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.2.6 拋光工藝和拋光片∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.2.5 研磨工藝∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.2.4 切片工藝∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.2.3 晶錠切斷工藝∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.2.2 晶體定向∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.2.1 晶體熱處理∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.12 硅基發(fā)光材料∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.11 硅基石墨烯∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.10 硅基碳管∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.9 硅基應(yīng)變硅薄膜∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.8 硅基SiGe薄膜∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.7 SOI材料∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.6 硅外延單晶薄膜∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.5 納米硅材料∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.4 非晶硅薄膜∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.3 單晶硅∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.2 高純多晶硅∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1.1 集成電路對硅材料的要求∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.1 硅材料

第9章 集成電路專用材料

8.13.6 液體顆粒計數(shù)儀(LPC)∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

8.13 生產(chǎn)線其他相關(guān)設(shè)備

8.12.8 測試議表∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

8.12 集成電路測試設(shè)備

8.11.14 反應(yīng)腔室∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

8.11 主要公用部件

8.10.16 激光打標(biāo)設(shè)備∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

8.9 工藝檢測設(shè)備8.8.12 電化學(xué)鍍銅設(shè)備(Cu-ECP)∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
8.8 濕法設(shè)備
8.7.18 等離子體刻蝕設(shè)備中的靜電吸盤∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
8.7 等離子體刻蝕設(shè)備
8.6.25 勻膠機(Spin Coater)∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》8.6薄膜生長設(shè)備8.5.9 快速熱處理設(shè)備∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
8.5擴散及離子注入設(shè)備
8.4.14 濕法去膠設(shè)備∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》8.4光刻設(shè)備
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二手設(shè)備

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激光隱形切割-8寸晶圓切割機-激光切割機

商品名稱: Disco DFL7340

規(guī)格介紹:切割晶圓、藍寶石等

Manufacturer : Disco

Model : DFL 7340

Category : SCRIBING / DICING

Voltage : 3Φ 220V

FULL LOAD AMPS : 10A

MACHINE MAIN BREAKER RATING : 20A

AMPERE RATING OF LARGEST LOAD : 5A

說明:有3臺,年份在2014-2016年;1臺機狀OK,另二臺雷射功率不足,須維修,機臺在臺灣。

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