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擬推中國(guó)特供版DUV?ASML最新回應(yīng)

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 ? 來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 ? 2023-07-07 10:15 ? 次閱讀
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被美國(guó)要求限制對(duì)華出售半導(dǎo)體設(shè)備后,ASML進(jìn)退兩難。

此前據(jù)DigiTimes報(bào)道,ASML正在考慮發(fā)布其深紫外光刻(DUV)設(shè)備的特殊版本,該設(shè)備將符合最新的美國(guó)出口規(guī)則,并且可以在沒(méi)有許可證的情況下出售給中國(guó)大陸客戶。該設(shè)備將使中芯國(guó)際和華虹等公司能夠在28nm節(jié)點(diǎn)上制造芯片,但不允許他們使用更先進(jìn)的制程節(jié)點(diǎn)。

7 月 6 日午后,ASML 辟謠稱:一直以來(lái) ASML 都遵守所適用的法律條例,公司并沒(méi)有面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版的***。

有問(wèn)題的光刻設(shè)備是Twinscan NXT:1980Di,目前這是臺(tái)積電仍在使用的最先進(jìn)的浸入式掃描儀。該機(jī)器具有1.35數(shù)值孔徑光學(xué)組件,能夠?qū)崿F(xiàn)<38 nm的分辨率,這對(duì)于7nm甚至更高級(jí)的節(jié)點(diǎn)來(lái)說(shuō)已經(jīng)足夠了。事實(shí)上,這款掃描儀最初于2016年發(fā)布,臺(tái)積電曾使用它來(lái)開(kāi)發(fā)其7nm制程工藝技術(shù)。

從理論上講,削減該設(shè)備并提高其最低支持分辨率以防止中芯國(guó)際和其它中國(guó)大陸芯片制造商創(chuàng)造28nm以下的工藝技術(shù)是可能的。中芯國(guó)際的大部分收入來(lái)自超過(guò)28nm的制程節(jié)點(diǎn),中國(guó)大陸公司可能仍然有興趣采購(gòu)此類(lèi)工具。

最新的出口法規(guī)要求美國(guó)公司和個(gè)人獲得出口設(shè)備和技術(shù)的許可證,這些設(shè)備和技術(shù)能夠制造14nm/ 16nm節(jié)點(diǎn)上的非平面晶體管邏輯芯片,3層或更多層的128DNAND閃存,以及18nm半間距或更小的DRAM存儲(chǔ)芯片。同樣的規(guī)則也適用于從美國(guó)出口組件的非美國(guó)公司,ASML及其Twinscan NXT:1980Di就是這種情況。

荷蘭最新的出口規(guī)則要求ASML獲得出口許可證才能向中國(guó)大陸公司出售其Twinscan NXT:2000i掃描儀。ASML尚未正式創(chuàng)建限量版Twinscan NXT,但如果出口法規(guī)繼續(xù)限制向中國(guó)大陸銷(xiāo)售先進(jìn)技術(shù),此舉似乎很有可能。

受限制的DUV有哪些?

6月30日,荷蘭政府頒布關(guān)于半導(dǎo)體設(shè)備出口管制的最新條例,部分媒體將此理解為針對(duì)中國(guó)的***管制再次升級(jí)至所有DUV,實(shí)際上這些新的出口管制條例針對(duì)對(duì)象為先進(jìn)的45nm及以下芯片制造技術(shù),包括最先進(jìn)的ALD原子沉積設(shè)備、外延生長(zhǎng)設(shè)備、等離子體沉積設(shè)備和浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng),以及用于使用和開(kāi)發(fā)這類(lèi)先進(jìn)設(shè)備的技術(shù)、軟件。

ASML表示,荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及部分最新DUV型號(hào),包括 TWINSCAN NXT:2000i 及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。EUV***在此前已經(jīng)受到限制,其它系統(tǒng)的發(fā)運(yùn)未受荷蘭政府管控。根據(jù)ASML官網(wǎng)信息,DUV浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng),包含:TWINSCAN NXT:2050i、NXT:2050i、NXT:1980Di 三種***,這些能夠進(jìn)行38nm~45nm制程的晶圓加工。

此外,能夠進(jìn)行45nm以上晶圓加工,如65nm~220nm制程的干式DUV***如:TWINSCAN XT:400L、XT:1460K、NXT:870等,均不在荷蘭制裁清單內(nèi)。

荷蘭外貿(mào)和發(fā)展合作部部長(zhǎng)頒布的MinBuza.2023.15246-27 號(hào)條例規(guī)定,對(duì)此前第2021/821 號(hào)條例附件一中未提及的半導(dǎo)體先進(jìn)生產(chǎn)設(shè)備的出口實(shí)行許可要求(有關(guān)先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備)

第二條:本條例規(guī)定,未經(jīng)部長(zhǎng)許可,禁止從荷蘭出口先進(jìn)的半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備。

第三條:

1、第二條所述的許可申請(qǐng),應(yīng)由出口商提出并向檢察官提交。

2、在任何情況下,申請(qǐng)均應(yīng)包含:

a出口商名稱和地址

b先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備的收貨人和最終用戶名稱和地址

c先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備的接受者和最終用戶名稱和地址

3、在任何情況下,檢察官都有權(quán)要求出口商提供有關(guān)出口的合同,和有關(guān)最終使用用途的聲明。

第四條:

第二條所述的許可證,可以附加條件和規(guī)定

第二條所述許可的授予,可以存在限定條件。

第五條:

第二條中提到的許可證,可以在以下情況下被撤銷(xiāo):

a許可證是根據(jù)不正確或不完整信息頒發(fā)的;

b未遵循許可證的規(guī)定、條件和限制;

c出于國(guó)家外交和安全政策的考慮。

中國(guó)回應(yīng)

6月30日,對(duì)于ASML出臺(tái)的對(duì)華半導(dǎo)體設(shè)備銷(xiāo)售新規(guī),中國(guó)外交部發(fā)言人毛寧在例行記者會(huì)上表示,中方堅(jiān)決反對(duì)美方泛化國(guó)家安全概念,濫用出口管制,以各種借口拉攏脅迫其他國(guó)家對(duì)華搞科技封鎖,以行政手段干預(yù)企業(yè)之間的正常經(jīng)貿(mào)往來(lái),嚴(yán)重破壞市場(chǎng)規(guī)則和國(guó)際經(jīng)貿(mào)秩序,沖擊全球產(chǎn)供鏈的穩(wěn)定,不符合任何一方的利益。中方將密切關(guān)注有關(guān)動(dòng)向,堅(jiān)決維護(hù)自身的合法權(quán)益。

不止于此,今年1月31日,針對(duì)ASML停止向中國(guó)大陸企業(yè)銷(xiāo)售EUV***一事,毛寧就表示,1月30日,秦剛外長(zhǎng)同荷蘭副首相兼外交大臣胡克斯特拉通電話,就雙邊關(guān)系等問(wèn)題深入交換了意見(jiàn)。秦剛外長(zhǎng)指出,開(kāi)放務(wù)實(shí)是中荷關(guān)系的最大特色,雙方要共同維護(hù)國(guó)際產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定,維護(hù)開(kāi)放而非分裂、有序而非混亂的國(guó)際貿(mào)易環(huán)境。

胡克斯特拉副首相兼外交大臣表示,荷方愿推動(dòng)兩國(guó)開(kāi)放務(wù)實(shí)的全面合作伙伴關(guān)系不斷發(fā)展,將繼續(xù)以負(fù)責(zé)任的方式處理對(duì)華經(jīng)貿(mào)事宜。

“我想再次強(qiáng)調(diào)的是,個(gè)別國(guó)家出于一己私利,不惜損友自肥,惡意封鎖和打壓中國(guó)企業(yè),人為推動(dòng)產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移脫鉤,有關(guān)霸凌霸道行徑嚴(yán)重破壞市場(chǎng)規(guī)則和國(guó)際經(jīng)貿(mào)秩序,不僅損害中國(guó)企業(yè)的合法權(quán)益,也沖擊全球產(chǎn)供應(yīng)鏈的穩(wěn)定。”毛寧說(shuō),我們希望各方秉持客觀公正立場(chǎng),從自身長(zhǎng)遠(yuǎn)利益和公平公正市場(chǎng)原則出發(fā),獨(dú)立自主地作出決定。





審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:擬推中國(guó)特供版DUV?ASML最新回應(yīng)

文章出處:【微信號(hào):ICViews,微信公眾號(hào):半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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