什么是臭氧去離子水工藝
臭氧-去離子水 (O3 -DI) 工藝可以集成到臭氧 (O3) 具有工藝優(yōu)勢(shì)的各種水性應(yīng)用中。
溶解在水中的臭氧也可用作 HCl 過氧化物混合物中過氧化氫的替代品，從而降低所用化學(xué)品的成本，同時(shí)將氧化電位轉(zhuǎn)移到更高的氧化值。CFM 的 O3 -DI 的其他應(yīng)用包括 HF 后處理，其中 O3 -DI 在氧化硅再生長(zhǎng)中充當(dāng)氧化劑。由于其高氧化電位，接觸臭氧可能對(duì)工廠人員和設(shè)備造成危害。因此，在完全包含化學(xué)物質(zhì)并消除接觸的系統(tǒng)中使用 O3 -DI 非常重要。
臭氧的高氧化還原電勢(shì)導(dǎo)致快速轉(zhuǎn)化回氧氣，使其成為其他化學(xué)過程的環(huán)保替代品。DI-O3 系統(tǒng)具有用戶可控和可配置的溶解臭氧濃度和流速，可滿足廣泛應(yīng)用的特定要求。
應(yīng)用
臭氧化模塊是一種經(jīng)濟(jì)高效的解決方案，適用于領(lǐng)先的工藝臭氧水應(yīng)用和微電子行業(yè)的臭氧清潔工藝，例如：
1、硅片清洗生產(chǎn)
2、邏輯和存儲(chǔ)器制造
3、LED/OLED/QOLED (LTPS) 平板顯示器清洗及生產(chǎn)
4、光罩
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