8月31日下午，商務部舉行例行記者會。有媒體提問，此前荷蘭宣布實施半導體出口管制并將于9月1日正式生效，中荷雙方對此事有沒有更新的磋商結果？

對此，商務部新聞發(fā)言人束玨婷表示，中國政府與相關國家在出口管制領域保持溝通交流，中方希望包括荷蘭在內的各方，秉持客觀公正立場和市場原則，遵守契約精神和國際規(guī)則，維護自由開放的國際貿易秩序，保障企業(yè)合法權益。

與此同時，ASML發(fā)言人也表示，公司在DUV***上拿到了政府的許可。

半導體設備制造商 ASML 周四證實，稱該公司已獲得荷蘭政府的許可，可在年底前向中國客戶出口部分先進工具。

該公司必須根據(jù) 6 月份與美國達成的一項協(xié)議引入的許可制度，尋求批準出口一些最先進的技術——美國以安全問題為由，試圖通過這種方式阻礙北京制造自己的芯片的能力。

按估值計算，歐洲最大的科技公司 ASML 主導著光刻設備市場，該設備使用微小的光束來幫助創(chuàng)建芯片電路。

該公司發(fā)言人表示，ASML 將能夠在 2023 年剩余時間內繼續(xù)在其 NXT:2000i 和更先進的 DUV 型號中運送這些產品，這些型號自 9 月 1 日起受到限制。

使用深紫外光譜光波的***，或“DUV”機器，是 ASML 的第二梯隊產品線。其最先進的“極紫外線”或EUV機器從未出售給中國客戶。

該公司發(fā)言人周四表示：“我們的客戶了解出口管制法規(guī)，因此他們知道，自 2024 年 1 月 1 日起，我們不太可能獲得向中國國內客戶運送這些系統(tǒng)的出口許可證。”

并非所有的DUV***都要許可證

今年六月，有關荷蘭出口相關限制的新聞就已經(jīng)出來的，大家對于其DUV的出口限制廣泛關注。有見及此，ASML發(fā)表聲明表示，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)，并非部分媒體報道的所有浸潤式DUV光刻系統(tǒng)。

根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式DUV系統(tǒng)（即TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節(jié)。

ASML表示其EUV光刻系統(tǒng)在此前已經(jīng)受到限制。ASML其他系統(tǒng)的發(fā)運未受荷蘭政府管控。

ASML將繼續(xù)遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

ASML指出，該公司認為這些管制條例不會對已發(fā)布的 2023 年財務展望以及于2022年 11 月投資者日宣布的長期展望產生重大影響。

需要重點指出的是，荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。此外，ASML長期展望的基礎是全球的長期需求和技術趨勢。