我們對(duì)常見(jiàn)的***臺(tái)進(jìn)行分類(lèi)：

什么是接觸式/接近式/投影式/步進(jìn)式***？

其中，步進(jìn)投影式***（stepper）的一個(gè)shot一個(gè)shot進(jìn)行曝光的，并不是一整張晶圓同時(shí)曝光，那么stepper的shot是什么樣的？多大尺寸？需要多大的掩膜版？

為什么叫shot？

shot是shoot的名詞形式，原意是“射擊，攝影”。而stepper則是連續(xù)不斷的一次次地曝光，類(lèi)似于照相機(jī)的按下快門(mén)時(shí)的閃光。

不同的公司和工程師在使用這些術(shù)語(yǔ)時(shí)存在一些差異，可以指的是一次曝光這種情景，也可以指曝光的區(qū)域。

每塊晶圓需要stepper的很多次曝光，每個(gè)shot中包含若干個(gè)（≥1）芯片圖形，而不是每次曝光只能曝光一個(gè)芯片。

shot的尺寸？

常見(jiàn)的晶圓尺寸有4inch（直徑100mm），6inch（直徑150mm），8inch（直徑200mm），12inch（直徑300mm）。但是shot的尺寸遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于晶圓尺寸。

shot的尺寸通常是由投影系統(tǒng)的視場(chǎng)大小決定的，不同的stepper的shot尺寸也不同。常見(jiàn)的shot的大小在數(shù)平方毫米到5平方厘米之間，一般為矩形或正方形。

如果一個(gè)200毫米（8英寸）晶圓的***的shot大小為20mmx20mm，那么可能需要100個(gè)shot來(lái)完成整個(gè)晶圓的曝光（10x10次曝光場(chǎng)）。

每次曝光都會(huì)在硅片上形成集成電路的一部分，所有的曝光場(chǎng)合在一起構(gòu)成了整個(gè)晶圓的的電路圖案。

為什么shot比掩膜版尺寸小很多？

一般i線stepper使用的是5倍版，即掩膜版上圖形尺寸是shot尺寸的5倍。為什么不是一樣的呢？為什么大那么多？主要有以下幾點(diǎn)：

提高分辨率

通過(guò)使用更大的圖形進(jìn)行設(shè)計(jì)，并在實(shí)際應(yīng)用中將其縮小，芯片設(shè)計(jì)師可以在掩膜版上設(shè)計(jì)更加復(fù)雜和精細(xì)的圖形，能夠在一定程度上減輕制作高精度掩膜版的難度，產(chǎn)生的圖形可以更加微小。

降低成本

雖然大尺寸的掩膜版更昂貴，但是由于能夠在上面設(shè)計(jì)更復(fù)雜的圖形，其經(jīng)濟(jì)價(jià)值遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于制作小尺寸掩膜版的費(fèi)用。

shot map是什么樣的？

一個(gè)shot map是一整張晶圓的圖形和表格，顯示了一個(gè)晶圓上所有曝光區(qū)域的詳細(xì)布局。shot map將整個(gè)晶圓表面劃分成多個(gè)小矩形區(qū)域，這種劃分方法可以幫助工程師更容易地監(jiān)控曝光過(guò)程。

而每一個(gè)小矩形區(qū)域被稱(chēng)為一個(gè)單元。而在每個(gè)單元中，實(shí)際曝光區(qū)域被稱(chēng)為一個(gè)“Shot”。這個(gè)區(qū)域一般比單元稍小，確保在曝光過(guò)程中的能夠精確控制，并留有一些操作的余地。

什么是shot noise？

shot noise（散粒噪聲），對(duì)光刻的影響蠻大，通常來(lái)自于光源。在光刻工序中，我們更希望均勻的光強(qiáng)分布。如果Shot Noise引起的光源強(qiáng)度波動(dòng)過(guò)大，可能會(huì)影響到曝光的均勻性與精度。







審核編輯：劉清