中微投資！芯元基Micro LED印章巨量轉移重大突破
上海芯元基在其獨有的化學剝離Micro LED的技術基礎上，成功開發(fā)出了晶圓級印章巨量轉移工藝，達到了轉移芯片位置零偏差。
芯元基由行業(yè)資深專家郝茂盛博士于2014年創(chuàng)辦，上海創(chuàng)徒、張江科投、中微半導體等先后進行了投資，并在上海臨港建設了中試生產(chǎn)線。經(jīng)過5年多的潛心研發(fā)，芯元基已經(jīng)形成了以藍寶石復合圖形襯底技術（DPSS）、化學剝離技術和晶圓級批量轉移技術等為核心的完整技術體系，這些技術是制造高端光電子器件的核心技術，是Micro LED 批量轉移的最優(yōu)方案。芯元基的主要技術在中國、美國、日本、中國臺灣等均已獲專利授權，打破了該領域核心技術的國外壟斷，其技術水平位于全球前列。
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