12月8日，據(jù)上海證券交易所發(fā)布公告，深圳市龍圖光罩股份有限公司（簡(jiǎn)稱龍圖光罩）將于12月15日參加科創(chuàng)板首次公開會(huì)議。

龍圖光罩的主要經(jīng)營(yíng)業(yè)務(wù)是半導(dǎo)體掩模版的研究、開發(fā)、生產(chǎn)和銷售，是國(guó)內(nèi)罕見的獨(dú)立的第三方半導(dǎo)體掩模版制造企業(yè)。公司是國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體特性工程的發(fā)展路線繼續(xù)按照技術(shù)難題及產(chǎn)品進(jìn)行反復(fù)，半導(dǎo)體掩模版的下方工程節(jié)點(diǎn)在1μm 逐漸上升，到130nm1，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于功率半導(dǎo)體、MEMS 傳感器、IC 封裝、模擬 IC 等特色工藝半導(dǎo)體領(lǐng)域，終端應(yīng)用涵蓋新能源、光伏發(fā)電、汽車電子、工業(yè)控制、無(wú)線通信、物聯(lián)網(wǎng)、消費(fèi)電子等場(chǎng)景。

目前，龍圖光罩掌握了130納米以上節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體口罩制作的核心技術(shù)，形成了包括cam、光刻、檢測(cè)等全過(guò)程的核心技術(shù)體系。在功率半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域，公司的工程節(jié)點(diǎn)已經(jīng)滿足了全球電力半導(dǎo)體主流制造工程的需求。

龍圖光罩稱，公司以特色工藝半導(dǎo)體市場(chǎng)為切入點(diǎn)，緊扣國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體廠商的發(fā)展需求，不斷提升掩模版工藝技術(shù)水平和客制化服務(wù)能力，逐步進(jìn)入國(guó)內(nèi)多個(gè)大型特色工藝晶圓廠供應(yīng)商名錄，一定程度上推動(dòng)了我國(guó)半導(dǎo)體掩模版產(chǎn)業(yè)的國(guó)產(chǎn)化。

龍圖光罩的招股，公開信息顯示，公司的董事會(huì)成員包括柯漢奇、葉小龍、張道谷、常軍鋒、袁振超；監(jiān)事會(huì)成員包括：侯廣杰、何祥、崔嘉豪；高級(jí)管理人員包括：葉小龍、王棟、范強(qiáng)、鄧少華；核心技術(shù)人員包括柯漢奇、王棟、黃執(zhí)祥、肖寶鐸、何祥、白永智等。

但集微咨詢專利分析師對(duì)龍圖光罩有效專利發(fā)明人進(jìn)行分析后發(fā)現(xiàn)，雖然史草沒有列入龍道光口罩認(rèn)定的同感庫(kù)和核心技術(shù)人員名單，但他貢獻(xiàn)的專利數(shù)量較多。光幻覺工程管理控制技術(shù)，暴露精細(xì)化控制技術(shù)，精密工藝配對(duì)技術(shù)，顯影刻蝕控制技術(shù)，高精密測(cè)定技術(shù)，缺陷維修及異物去除技術(shù)等，幾乎涉及光幻覺及檢測(cè)的所有技術(shù)領(lǐng)域。另外，構(gòu)成龍圖光罩主要經(jīng)營(yíng)業(yè)務(wù)的11項(xiàng)核心發(fā)明專利中，雖然參與了6項(xiàng)技術(shù)開發(fā)，但卻沒有被列入公司核心技術(shù)人員名單。

與之形成對(duì)比的是，被龍圖光罩認(rèn)定為核心技術(shù)人員的白永智目前年僅26歲，在2020年10月才加入龍圖光罩，截至2022年底僅貢獻(xiàn)了1篇涉及缺陷修補(bǔ)與異物去除技術(shù)的發(fā)明專利，并且該專利也是與謝超等人合作研發(fā)，對(duì)于公司的專利貢獻(xiàn)較小，收入在核心技術(shù)人員中也是最低。在軟件著作權(quán)方面，根據(jù)招股書披露的信息，龍圖光罩在2020年之后申請(qǐng)的軟件著作權(quán)涉及的技術(shù)領(lǐng)域高度集中于CAM版圖處理技術(shù)。而CAM部的經(jīng)理是肖寶鐸，白永智擔(dān)任的是工藝研發(fā)主管，因此白永智與CAM版圖處理技術(shù)少有交集，對(duì)于龍圖光罩軟件著作權(quán)的貢獻(xiàn)大概率也十分有限。

因此，科創(chuàng)板審核機(jī)構(gòu)有可能要求龍圖光罩說(shuō)明謝超在公司的職位、是否同董監(jiān)高以及核心技術(shù)人員一樣簽署了保密協(xié)議和競(jìng)業(yè)限制協(xié)議、未將謝超納入核心技術(shù)人員的原因、以及將白永智納入核心技術(shù)人員的合理性。同時(shí)要求龍圖光罩進(jìn)一步披露相關(guān)人員在公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)中起到的作用，對(duì)公司的知識(shí)產(chǎn)權(quán)成果，包括專利、軟件著作權(quán)、商業(yè)秘密等的貢獻(xiàn)程度等信息。