91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

普興電子:200mm 4H-SiC高質(zhì)量厚層同質(zhì)外延生長(zhǎng)

第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè) ? 來(lái)源:第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè) ? 2023-12-25 10:43 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

當(dāng)前,SiC器件已廣泛應(yīng)用在新能源車的主驅(qū)、OBC等關(guān)鍵部件,有效的降低了提升了開(kāi)關(guān)速度,降低了能量損耗,使得整車的重量得到減少,續(xù)航里程得到提升。車用發(fā)展迅速,市場(chǎng)廣闊,在新能源產(chǎn)業(yè)強(qiáng)勁需求下,全球SiC產(chǎn)業(yè)步入高速成長(zhǎng)期,市場(chǎng)快速增長(zhǎng)。

近日,第九屆國(guó)際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS)&第二十屆中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA)于廈門(mén)召開(kāi)。期間,“碳化硅襯底、外延生長(zhǎng)及其相關(guān)設(shè)備技術(shù)”分會(huì)上,河北普興電子科技股份有限公司產(chǎn)品總監(jiān)張永強(qiáng)分享了200 mm 4H-SiC高質(zhì)量厚層同質(zhì)外延生長(zhǎng)的最新研究進(jìn)展。

d3f40088-9f33-11ee-8b88-92fbcf53809c.jpg

普興電子從16年開(kāi)始SiC的研發(fā),19年實(shí)現(xiàn)了6寸SiC外延片的量產(chǎn),21年中標(biāo)國(guó)家工信部碳化硅外延產(chǎn)業(yè)化的項(xiàng)目。目前主要為1200V MOS產(chǎn)品,已通過(guò)車規(guī)級(jí)驗(yàn)證,應(yīng)用在新能源車主驅(qū)模塊上。

d406d596-9f33-11ee-8b88-92fbcf53809c.jpg

d419ad88-9f33-11ee-8b88-92fbcf53809c.jpg

8寸外延是碳化硅外延技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)。報(bào)告顯示,普興電子近期研發(fā)出的8英寸碳化硅外延片的新產(chǎn)品,解決了8寸襯底應(yīng)力大、易開(kāi)裂、外延均勻性及缺陷難控制等難點(diǎn)。厚度均勻性為0.6%,濃度均勻性為2.3%。8寸產(chǎn)品的均勻性已達(dá)到與6寸量產(chǎn)產(chǎn)品相當(dāng)?shù)乃健?/strong>

普興公司是國(guó)內(nèi)最早外延材料研究工作的單位,目前具備的硅外延的年產(chǎn)能為700萬(wàn)片,其中200 萬(wàn)片為8寸硅外延片。6寸碳化硅外延的年產(chǎn)能為15萬(wàn)片;預(yù)計(jì)到24年,6寸碳化硅外延片的年產(chǎn)能將擴(kuò)充到36萬(wàn)片;25年8寸碳化硅外延片的年產(chǎn)能將擴(kuò)充到6到8萬(wàn)片。







審核編輯:劉清

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 新能源車
    +關(guān)注

    關(guān)注

    3

    文章

    677

    瀏覽量

    25390
  • SiC
    SiC
    +關(guān)注

    關(guān)注

    32

    文章

    3729

    瀏覽量

    69458
  • 碳化硅
    +關(guān)注

    關(guān)注

    26

    文章

    3469

    瀏覽量

    52383

原文標(biāo)題:普興電子張永強(qiáng):200 mm 4H-SiC高質(zhì)量厚層同質(zhì)外延生長(zhǎng)

文章出處:【微信號(hào):第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),微信公眾號(hào):第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    廣汽集團(tuán)召開(kāi)2026年高質(zhì)量發(fā)展大會(huì)

    開(kāi)創(chuàng)高質(zhì)量發(fā)展新局面。廣汽集團(tuán)黨委書(shū)記、董事長(zhǎng)馮亞作部署講話,常務(wù)副總經(jīng)理高銳主持會(huì)議。廣汽集團(tuán)領(lǐng)導(dǎo)班子、總部部門(mén)負(fù)責(zé)人和投資企業(yè)領(lǐng)導(dǎo)班子、自主品牌PDT總經(jīng)理等參加會(huì)議。
    的頭像 發(fā)表于 02-28 14:34 ?495次閱讀

    高純熱壓碳化硅陶瓷外延基座的性能優(yōu)勢(shì)與制造工藝解析

    ,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量外延生長(zhǎng)。其性能直接取決于材料的物理化學(xué)特性,并通過(guò)熱壓燒結(jié)工藝優(yōu)化,以滿足嚴(yán)苛的工業(yè)需求。
    的頭像 發(fā)表于 01-12 17:46 ?1864次閱讀
    高純熱壓碳化硅陶瓷<b class='flag-5'>外延</b>基座的性能優(yōu)勢(shì)與制造工藝解析

    12英寸碳化硅外延片突破!外延設(shè)備同步交付

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 , 短短兩天內(nèi),中國(guó)第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)接連迎來(lái)重磅突破。12月23日,廈門(mén)瀚天天成宣布成功開(kāi)發(fā)全球首款12英寸高質(zhì)量碳化硅(SiC外延晶片;次日, 晶盛機(jī)電 便官
    的頭像 發(fā)表于 12-28 09:55 ?1407次閱讀

    基于傳輸線法TLM與隔離層優(yōu)化的4H-SiC特定接觸電阻SCR精準(zhǔn)表征

    4H-碳化硅(4H-SiC)因其寬禁帶(3.26eV)、高熱導(dǎo)率(4.9W·cm?1·K?1)和高擊穿場(chǎng)強(qiáng)(2.5MV·cm?1),成為高溫、高功率電子器件的核心材料。然而,其歐姆接觸的精準(zhǔn)表征面臨
    的頭像 發(fā)表于 09-29 13:45 ?880次閱讀
    基于傳輸線法TLM與隔離層優(yōu)化的<b class='flag-5'>4H-SiC</b>特定接觸電阻SCR精準(zhǔn)表征

    4H-SiC薄膜電阻在高溫MEMS芯片中的應(yīng)用?|?電阻率溫度轉(zhuǎn)折機(jī)制分析

    替代材料,但其關(guān)鍵材料參數(shù)(如襯底熱膨脹系數(shù)、薄膜電阻溫度特性)缺乏系統(tǒng)研究,導(dǎo)致傳感器設(shè)計(jì)階段難以評(píng)估溫度效應(yīng)。本研究結(jié)合Xfilm埃利在線四探針?lè)阶鑳x針對(duì)4H-SiC
    的頭像 發(fā)表于 09-29 13:43 ?720次閱讀
    <b class='flag-5'>4H-SiC</b>薄膜電阻在高溫MEMS芯片中的應(yīng)用?|?電阻率溫度轉(zhuǎn)折機(jī)制分析

    【新啟航】碳化硅外延片 TTV 厚度與生長(zhǎng)工藝參數(shù)的關(guān)聯(lián)性研究

    一、引言 碳化硅外延片作為功率半導(dǎo)體器件的核心材料,其總厚度偏差(TTV)是衡量產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),直接影響器件的性能與可靠性 。外延片的 TTV 厚度受多種因素影響,其中生長(zhǎng)工藝參
    的頭像 發(fā)表于 09-18 14:44 ?862次閱讀
    【新啟航】碳化硅<b class='flag-5'>外延</b>片 TTV 厚度與<b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>工藝參數(shù)的關(guān)聯(lián)性研究

    Wolfspeed 200mm碳化硅材料產(chǎn)品組合開(kāi)啟大規(guī)模商用

    全球碳化硅 (SiC) 技術(shù)引領(lǐng)者 Wolfspeed 公司(美國(guó)紐約證券交易所上市代碼:WOLF)宣布,Wolfspeed 200mm 碳化硅材料產(chǎn)品開(kāi)啟大規(guī)模商用。這一重要里程碑標(biāo)志著 Wolfspeed 加速行業(yè)從硅向碳化硅轉(zhuǎn)型的使命邁出關(guān)鍵一步。
    的頭像 發(fā)表于 09-11 09:12 ?1588次閱讀

    索尼重載設(shè)備的高質(zhì)量遠(yuǎn)程制作方案和應(yīng)用(2)

    索尼的遠(yuǎn)程制作可以被稱之為制作級(jí)的高質(zhì)量遠(yuǎn)程制作,或重載設(shè)備的高質(zhì)量遠(yuǎn)程制作,遠(yuǎn)程設(shè)備結(jié)合常規(guī)系統(tǒng)設(shè)備,提供和本地制作類似的制作級(jí)高質(zhì)量圖像,延續(xù)電視臺(tái)/制作公司的設(shè)備特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)。
    的頭像 發(fā)表于 08-21 15:56 ?1241次閱讀
    索尼重載設(shè)備的<b class='flag-5'>高質(zhì)量</b>遠(yuǎn)程制作方案和應(yīng)用(2)

    索尼重載設(shè)備的高質(zhì)量遠(yuǎn)程制作方案和應(yīng)用(1)

    最近的各地體育活動(dòng)中,索尼提供了多種產(chǎn)品和系統(tǒng)方案進(jìn)行測(cè)試和使用,其中將攝像機(jī)用于轉(zhuǎn)播場(chǎng)地的集中式遠(yuǎn)程制作方式是常用方式。索尼專業(yè)解決方案突出制作級(jí)質(zhì)量的優(yōu)勢(shì),具有圖像高質(zhì)量,低碼率,低延時(shí)特點(diǎn),能提供不一樣的高質(zhì)量遠(yuǎn)程制作。
    的頭像 發(fā)表于 08-21 15:55 ?955次閱讀
    索尼重載設(shè)備的<b class='flag-5'>高質(zhì)量</b>遠(yuǎn)程制作方案和應(yīng)用(1)

    大模型時(shí)代,如何推進(jìn)高質(zhì)量數(shù)據(jù)集建設(shè)?

    高質(zhì)量數(shù)據(jù)集,即具備高價(jià)值、高密度、標(biāo)準(zhǔn)化特征的數(shù)據(jù)集合。 在AI領(lǐng)域,高質(zhì)量數(shù)據(jù)集地位舉足輕重,如同原油經(jīng)煉化成為汽油驅(qū)動(dòng)汽車,海量原始數(shù)據(jù)需轉(zhuǎn)化為高質(zhì)量數(shù)據(jù)集,才能助力大模型精準(zhǔn)掌握數(shù)據(jù)特征
    的頭像 發(fā)表于 08-21 13:58 ?850次閱讀

    從芯片到主板,科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量發(fā)展

    數(shù)字化時(shí)代,科技的迅猛發(fā)展深刻影響著各個(gè)領(lǐng)域。從芯片到主板的集成,生動(dòng)展現(xiàn)了科技創(chuàng)新如何成為推動(dòng)高質(zhì)量發(fā)展的核心動(dòng)力。
    的頭像 發(fā)表于 07-26 16:26 ?839次閱讀

    臺(tái)階儀應(yīng)用 | 半導(dǎo)體GaAs/Si異質(zhì)外延表面粗糙度優(yōu)化

    在半導(dǎo)體行業(yè)中,硅基光電子技術(shù)是實(shí)現(xiàn)光互聯(lián)、突破集成電路電互聯(lián)瓶頸的關(guān)鍵,而在硅si襯底上外延生長(zhǎng)高質(zhì)量GaAs薄膜是硅基光源單片集成的核心。臺(tái)階儀作為重要的表征工具,在GaAs/Si異質(zhì)外延
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:51 ?705次閱讀
    臺(tái)階儀應(yīng)用 | 半導(dǎo)體GaAs/Si異質(zhì)<b class='flag-5'>外延</b><b class='flag-5'>層</b>表面粗糙度優(yōu)化

    新能源變革之路,要建在“高質(zhì)量”的路基上

    高質(zhì)量”是能源革命的前提與基座
    的頭像 發(fā)表于 06-24 11:42 ?2493次閱讀
    新能源變革之路,要建在“<b class='flag-5'>高質(zhì)量</b>”的路基上

    一文詳解外延生長(zhǎng)技術(shù)

    隨著半導(dǎo)體器件特征尺寸不斷微縮,對(duì)高質(zhì)量薄膜材料的需求愈發(fā)迫切。外延技術(shù)作為一種在半導(dǎo)體工藝制造中常用的單晶薄膜生長(zhǎng)方法,能夠在單晶襯底上按襯底晶向生長(zhǎng)新的單晶薄膜,為提升器件性能發(fā)揮
    的頭像 發(fā)表于 06-16 11:44 ?2937次閱讀
    一文詳解<b class='flag-5'>外延</b><b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>技術(shù)

    在晶圓襯底上生長(zhǎng)外延的必要性

    本文從多個(gè)角度分析了在晶圓襯底上生長(zhǎng)外延的必要性。
    的頭像 發(fā)表于 04-17 10:06 ?1140次閱讀