1月3日，中國證券監(jiān)督管理委員會批準了深圳市龍圖光罩股份有限公司提交的科創(chuàng)板IPO注冊申請，給予正式批準。此舉意味著龍圖光罩成為了國內首家獲取該項批準的半導體掩模版制造商。

龍圖光罩是一家中小型半導體掩模版供應公司，主要專注于特色工藝半導體的研發(fā)、生產和銷售，緊跟國內政策趨勢和技術熱點。公司產品工藝節(jié)點從最初的1μm逐步升級到130nm，廣泛應用于功率半導體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬 IC等領域。同時，其客戶群體跨越產業(yè)多個領域，包括新能源、光伏發(fā)電、智能車輛、工業(yè)自動化、無線通訊、物聯(lián)網(wǎng)、電子消費品等。

生產環(huán)節(jié)方面，龍圖光罩已掌握130nm及以上節(jié)點半導體掩模版制作技術，形成了覆蓋全流程的核心技術體系；在顧客反饋及營銷策略方面，已經與多家國際知名客戶建立長期穩(wěn)固合作關系，并擁有良好的口碑和聲譽。

本次IPO，龍圖光罩計劃公開發(fā)行不超過3，337.50萬股人民幣普通股票（A股），共籌集資金6.6億元。其中4.8億元用于投資建設高端半導體芯片掩模版制造基地項目，以開發(fā)更高精度（130nm-65nm節(jié)點）半導體掩模版滿足高端市場需求；其余部分投入高端半導體芯片掩模版研發(fā)中心項目及補充流動資金項目，旨在提高產品質量和客戶滿意度。

此外，龍圖光罩計劃通過高端半導體芯片掩模版研發(fā)中心項目提高自身教研實力和競爭潛力，根據(jù)市場和客戶需求進行技術研發(fā)改進以便應對日益加劇的市場挑戰(zhàn)。

對于未來發(fā)展，龍圖光罩承諾繼續(xù)堅持“西安工藝”戰(zhàn)略，以特色工藝半導體為核心，重點聚焦高端芯片掩模版市場，加強科研投入和投資力度，計劃逐步實現(xiàn)90nm、65nm及更高節(jié)點的高端制程半導體掩模版規(guī)模生產及國內自主配套，從而實現(xiàn)公司競爭力與盈利能力的穩(wěn)步提升。