日月光半導體推出VIPack? 平臺先進互連技術(shù)協(xié)助實現(xiàn)AI創(chuàng)新應用
日月光半導體宣布VIPack平臺先進互連技術(shù)最新進展，透過微凸塊(microbump)技術(shù)將芯片與晶圓互連間距制程能力從 40um提升到 20um，可以滿足人工智能(AI)應用于多樣化小芯片(chiplet)整合日益增長的需求。
日月光研發(fā)中心處長李長祺(Calvin Lee)表示，隨著我們進入人工智能時代，微凸塊(microbump)技術(shù)可跨節(jié)點提升可靠性和優(yōu)化性能。
日月光工程與技術(shù)行銷資深處長(Mark Gerber)指出，這些先進互連技術(shù)有助于解決性能、功耗和延遲方面的挑戰(zhàn)。
日月光銷售與行銷資深副總（Ingu Yin Chang）表示，這些創(chuàng)新的互連技術(shù)克服以往限制并符合動態(tài)應用需求。在日月光，我們與客戶一起探索每一個半導體設(shè)計和系統(tǒng)解決方案的新性能和永續(xù)效率。
這種先進互連解決方案，對于在新一代的垂直整合（例如日月光 VIPack平臺2.5D 和3D 封裝）與2D并排解決方案中實現(xiàn)創(chuàng)造力和微縮至關(guān)重要。
審核編輯：劉清
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原文標題：日月光VIPack?推出小芯片互連技術(shù)協(xié)助實現(xiàn)AI創(chuàng)新應用
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