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通用半導體:SiC晶錠激光剝離全球首片最薄130μm晶圓片下線

半導體芯科技SiSC ? 來源:半導體芯科技SiSC ? 作者:半導體芯科技SiS ? 2024-07-15 15:50 ? 次閱讀
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來源:寬禁帶半導體技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟

江蘇通用半導體有限公司(原:河南通用智能裝備有限公司)7月12日披露,公司于2024年7月10日用自研設備(碳化硅晶錠激光剝離設備)成功實現(xiàn)剝離出130μm厚度的超薄SiC晶圓片。該設備可以實現(xiàn)6寸和8寸SiC晶錠的全自動分片,包含晶錠上料,晶錠研磨,激光切割,晶片分離和晶片收集的全自動工藝流程,晶片拋光后的形貌可以達到LTV≤2μm,TTV≤5μm,BOW≤10μm,Warp≤20μm。

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圖:8英寸SiC晶錠激光全自動剝離設備

通用半導體自設立以來,一直在高端半導體設備領域深耕,并專注于激光隱切設備的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化應用,勵志成為全球領先的激光微納加工裝備制造商。

通用半導體于2020年研發(fā)出國內(nèi)首臺半導體激光隱形切割機;2022年成功推出國內(nèi)首臺18納米及以下SDBG激光隱切設備(針對3D Memory);2023年成功研發(fā)國內(nèi)首臺8英寸全自動SiC晶錠激光剝離產(chǎn)線;2024年研制成功SDTT激光隱切設備(針對3D HBM)。

通用半導體表示,隨著公司激光隱切設備產(chǎn)品覆蓋度持續(xù)提升,市場應用規(guī)模的不斷擴大,且公司持續(xù)保持高強度的研發(fā)投入,迭代升級各產(chǎn)品系列,滿足客戶在技術(shù)節(jié)點更新迭代過程中對高產(chǎn)能及更嚴格的技術(shù)性能指標的需求。


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