來源：Silicon Semiconductor

SkyWater位于明尼蘇達(dá)的工廠旨在擁有世界上最先進(jìn)的200毫米光刻技術(shù)。

SkyWater Technology已從 Multibeam Corp. 獲得首款用于批量生產(chǎn)的多柱電子束光刻 (MEBL) 系統(tǒng)。Multibeam (MB) 平臺(tái)是半導(dǎo)體行業(yè)的里程碑，它提供了一種高吞吐量直接寫入圖案化系統(tǒng)，其速度比傳統(tǒng)電子束設(shè)備快幾個(gè)數(shù)量級(jí)，生產(chǎn)效率更高。MB 系統(tǒng)將提供給 SkyWater 客戶進(jìn)行早期概念原型設(shè)計(jì)和快速生產(chǎn)。

“很高興能通過 Multibeam 革命性技術(shù)為客戶提供新的光刻功能。MB 平臺(tái)的部署將為安全防御、生物醫(yī)學(xué)、熱成像、高可靠性和高級(jí)計(jì)算市場(chǎng)中從概念到生產(chǎn)的創(chuàng)新者拓展能力并縮短產(chǎn)品上市時(shí)間?！?/span>

MEBL 為 SkyWater 的客戶提供多項(xiàng)新的生產(chǎn)能力，包括用于防偽應(yīng)用的安全芯片 ID 和全晶圓圖案化，可支持焦平面讀取 IC 和其他類型的大尺寸芯片。MEBL 還為一系列高拓?fù)湮⒘黧w和 MEMS 架構(gòu)、光子學(xué)曲線設(shè)計(jì)和高密度 MOS 提供大聚焦深度。此外，它是唯一能夠在 200 毫米晶圓上實(shí)現(xiàn) 50 納米以下幾何形狀的生產(chǎn)光刻設(shè)備。

MB 平臺(tái)創(chuàng)新配置了多個(gè)小型化電子束柱，將電子束光刻 (EBL) 提升為突破性的無掩模光刻生產(chǎn)系統(tǒng)，為當(dāng)今的 IC 晶圓廠帶來了卓越的性能和成本優(yōu)勢(shì)。首套 Multibeam 系統(tǒng)的交付是過去兩年來與 SkyWater 密切合作的結(jié)果。此次合作還提供了關(guān)鍵晶圓廠的運(yùn)營(yíng)洞察，在將 MB 平臺(tái)交付給 SkyWater 之前，這些運(yùn)營(yíng)洞察是用來定義關(guān)鍵系統(tǒng)的性能規(guī)格。

Multibeam 董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官 David K. Lam 博士表示：“這對(duì) Multibeam 來說是一個(gè)重要的里程碑，我們非常自豪能與 SkyWater 分享這一里程碑。從我們與 SkyWater 合作之初，他們就支持我們重新創(chuàng)新 EBL 以實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)的目標(biāo)，并提供了關(guān)鍵的用戶觀點(diǎn)，幫助我們加速開發(fā)計(jì)劃并商業(yè)化世界一流的無掩模光刻系統(tǒng)。非常感謝與其合作，很高興能將我們的第一個(gè)生產(chǎn)設(shè)備配置在 SkyWater 晶圓廠。”

SkyWater 首席執(zhí)行官兼董事 Thomas Sonderman 強(qiáng)調(diào)了這項(xiàng)技術(shù)對(duì)目標(biāo)增長(zhǎng)市場(chǎng)客戶的價(jià)值，“我們很高興能夠借助 Multibeam 革命性的技術(shù)為客戶提供新的光刻功能。MB 平臺(tái)的部署將幫助安全防御、生物醫(yī)學(xué)、熱成像、高可靠性和高級(jí)計(jì)算市場(chǎng)中從概念到生產(chǎn)的創(chuàng)新者拓展能力并縮短上市時(shí)間?！?/span>

Sonderman 補(bǔ)充道：“我們與 Multibeam 的合作，體現(xiàn)了合作伙伴關(guān)系在開發(fā)突破性設(shè)備，加速美國(guó)芯片創(chuàng)新方面的力量，并借此讓 SkyWater 位于明尼蘇達(dá)州的工廠擁有了世界上最先進(jìn)的 200 毫米光刻技術(shù)。”

SkyWater 將在2024年第四季度提供對(duì)為設(shè)備首批客戶設(shè)計(jì)的訪問權(quán)限。

審核編輯 黃宇