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利用SLM輔助納秒激光技術(shù)制備鉻薄膜上的雜化周期微結(jié)構(gòu)

西安中科微星 ? 來源:西安中科微星 ? 作者:西安中科微星 ? 2024-08-15 18:09 ? 次閱讀
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空間光調(diào)制器是一種可以在外部信號的控制下實時改變?nèi)肷涔獾恼穹⑾辔患捌駪B(tài)的動態(tài)元器件。將空間光調(diào)制器應(yīng)用在激光加工領(lǐng)域,可以實現(xiàn)動態(tài)光束整形,并且具有可編程、易操控、易集成、低損耗、刷新頻率高等優(yōu)勢。并且隨著空間光調(diào)制器損傷閾值的提升,激光加工的應(yīng)用領(lǐng)域也不斷擴大,例如超表面結(jié)構(gòu)制造、微流體、3D打印、光存儲、材料表面改性、量子點等領(lǐng)域。

論文信息

wKgZoma90ueAWn_YAAFEKra4Yn4391.png

本文提出了一種利用空間光調(diào)制器(SLM)輔助1064nm納秒激光器制備不同厚度鉻(Cr)薄膜上的不同雜化周期結(jié)構(gòu)的有效技術(shù)。對于1000nm的Cr薄膜,通過將SLM生成的周期調(diào)制光柵(MG)與激光誘導(dǎo)的周期表面結(jié)構(gòu)(LIPSS)相結(jié)合,可以制備出規(guī)則的雙尺度MG-LIPSS,其形態(tài)特征受激光通量、有效脈沖數(shù)和MG周期控制。由于MG和LIPSS的衍射效應(yīng),MG-LIPSS圖案表面表現(xiàn)出生動的各向異性結(jié)構(gòu)顏色。與MG-LIPSS相比,由于更薄的薄膜具有更顯著的熱應(yīng)力,因此在200nm的Cr薄膜上形成了由MG和裂紋(MGC)組成的復(fù)雜的周期結(jié)構(gòu)。雖然MGC的裂紋是隨機分布的,但MGC具有一定透光率的長階特性,可以作為具有衍射效應(yīng)的透射光柵。這些結(jié)果表明,基于SLM的光場調(diào)制激光加工為在Cr薄膜上制備大面積周期結(jié)構(gòu)提供了一種高效、經(jīng)濟、可控的方法。此外,薄膜厚度的變化可以用于探索具有特定性能的混合微觀結(jié)構(gòu),從而用于不同的應(yīng)用,如光學(xué)元件和防偽措施等。

部分實驗過程及實驗結(jié)果

光源采用商業(yè)納秒激光器,提供1064nm、50ns的線偏振脈沖激光,實驗時重頻設(shè)置為3kHz,對應(yīng)的激光器最大輸出功率為0.45W。激光器出射的光通過4×擴束鏡,從而使光斑充滿液晶光閥靶面,實驗中使用的是相位型空間光調(diào)制器(FSLM-2K70-VIS),像素大小為8um,分辨率為1920×1080。經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后通過透鏡作用在樣品上,通過CCD實時監(jiān)測加工過程,確保樣品表面始終在加工平面。采用Gerchberg Saxton算法生成全息圖。

wKgZoma90tCAbD4PAArT4BJCjqk481.png圖1 (a)實驗裝置(相位型空間光調(diào)制器,型號:FSLM-2K70-VIS);(b)原始光束和調(diào)制光束。

wKgaoma90zOAAUYjAAPJ_S0osEc018.png圖2 1000nmCr薄膜隨著激光通量的增加,MG-LIPSS在4個不同的調(diào)制周期Γ下形成的MG-LIPSS的SEM形貌。比例尺:5 μm。

wKgZoma900-ASReAAAE0dCimzi0584.png圖3 (a)-(c) 1000nmCr薄膜在不同有效脈沖數(shù)下形成的MG-LIPSS的掃描電鏡形貌。比例尺:5 μm。

wKgaoma901uAb68yAAGXebvF9yk962.png圖4 (a)0.27J/cm2和(e)0.32 J/cm2分別對應(yīng)不同激光照射下MG-LIPSS結(jié)構(gòu)的AFM測量。(b)和(f)分別對應(yīng)于(a)和(e)的SEM圖像的二維快速傅里葉變換。(c)和(d)對應(yīng)于(a)的MG-LIPSS的LIPSS和MG橫截面的二維圖。(g)和(h)對應(yīng)于(e)的MG-LIPSS的LIPSS和MG橫截面的二維圖。比例尺:5 μm。

wKgZoma902eAMY5xAAQM5cxEilU313.png圖5 (a-b)在不同位置的兩個不同激光通量F下制備的MG-LIPSS的微拉曼光譜。(c-f)在不同激光通量F下制備的MG-LIPSS的EDS結(jié)果(收集點位于圖中紅色標(biāo)記處)。比例尺:5 μm。

wKgZoma903KAJq0OAAPOJUReCXw069.png圖6 對于200nm的Cr薄膜,在不同加工條件下形成的MGC的掃描電鏡形貌。(a) Γ2=8 μm,F(xiàn)=0.16 J/cm2。(b) Γ3=9 μm,F(xiàn)=0.16 J/ cm2。(c) Γ4=13 μm,F(xiàn)=0.16 J/cm2。(d) Γ4= 13 μm,F(xiàn)=0.30 J/cm2。比例尺:5 μm。

wKgaoma903-AK3ZiAANU_9Gy_6s260.png圖7 MG-LIPSS的彩虹結(jié)構(gòu)顏色。(a)在1000nmCr薄膜上形成的MG-LIPSS混合周期結(jié)構(gòu)的白光衍射示意圖,由LIPSS和MG分別在兩個正交方向上產(chǎn)生彩虹結(jié)構(gòu)顏色。(b)“中山大學(xué)”的漢字圖案用1000nm的Cr涂覆在直徑為100 mm的玻璃晶片上。(c)處理后的樣品。(d)和(e)分別對“中山大學(xué)”圖案和龍圖案進行著色。(f)和(g)MG-LIPSS“3″為對不同觀察角度的彩虹色結(jié)構(gòu)顏色的不同呈現(xiàn)。比例尺:5mm。

本實驗中所采用空間光調(diào)制器的參數(shù)規(guī)格如下:

wKgZoma905SAOShJAABLanm7KTk243.png

型號
FSLM-2K70-P03
調(diào)制類型
相位型
液晶類型
反射式 灰度等級 8位,256階
分辨率
1920×1080 像元大小 8μm
有效區(qū)域
0.69"
15.36mm×8.64mm
填充因子 87%
平整度(PV) 校準(zhǔn)前:5λ
校準(zhǔn)后:1λ
平整度(RMS 校準(zhǔn)前:1/3λ
校準(zhǔn)后:1/10λ
刷新頻率 60Hz 響應(yīng)時間 ≤30ms
光學(xué)利用率 75%@1064nm 配向角
相位范圍 2π@1064nm
Max:2.1π@1064nm
光譜范圍 450nm-1100nm
Gamma校正 支持 相位校正 支持(808nm/1064nm)
線性度 ≥99% 相位穩(wěn)定度(RMS) ≤0.13π
損傷閾值 連續(xù): ≤20W/cm2(無水冷)
≤100W/cm2(水冷)
衍射效率 1064nm
60%@ L8
66%@ L16
75%@ L32

為進一步延伸空間光調(diào)制器在工業(yè)方面的應(yīng)用,特研制推出高損傷、方形大靶面空間光調(diào)制器:

wKgZoma905uAcvH1AABpSnuM1oY958.png

型號
FSLM-2K73-P03HP
調(diào)制類型
相位型
液晶類型
反射式 灰度等級 8位,256階
分辨率
2048×2048 像元大小 6.4μm
有效區(qū)域 0.73"
13.1mm×13.1mm
填充因子 93%
刷新頻率 60 Hz(8bit)* 輸入電源 12V 3A
配向角
數(shù)據(jù)接口 HDMI
相位范圍 2π@1064nm
Max:3.5π@1064nm
光譜范圍 1000nm-1100nm
光學(xué)利用率 95%±5%@1064nm 響應(yīng)時間 ≤30ms
Gamma校正 支持 相位校正 支持(1064nm)
線性度 ≥99% 相位穩(wěn)定度(RMS) <0.03π
損傷閾值 連續(xù): ≤1000W/cm2(無水冷)
脈沖:峰值功率密度(10GW/cm2)
衍射效率 1064nm
56%@ L8
72%@ L16
85%@ L32

寫在最后

隨著激光加工技術(shù)的深入發(fā)展和對高精度、高效率加工指標(biāo)需求的增加,空間光調(diào)制器作為一種關(guān)鍵的光學(xué)元器件,將發(fā)揮著重要作用。空間光調(diào)制器在激光加工中的應(yīng)用并不局限于單一的技術(shù)領(lǐng)域,其廣泛的應(yīng)用前景涵蓋了多個領(lǐng)域,例如工業(yè)制造、科學(xué)研究、光電子學(xué)等,為激光加工技術(shù)的進步和創(chuàng)新提供了強大的支持和推動力,有望推動激光加工技術(shù)向更高級、更復(fù)雜的方向發(fā)展。

文章鏈接:https://doi.org/10.1016/j.optlaseng.2024.108216

審核編輯 黃宇

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