引言
在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準(zhǔn)測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障。
光刻膠剝離液及其制備方法
常見光刻膠剝離液類型
有機溶劑型剝離液
有機溶劑型剝離液以丙酮、N - 甲基吡咯烷酮(NMP)等有機溶劑為主體成分。丙酮對普通光刻膠的溶解能力強,能夠快速滲透光刻膠內(nèi)部,破壞其分子間作用力,使其溶解剝離 。NMP 則對多種光刻膠樹脂具有良好的溶解性,且沸點較高,揮發(fā)性較低,在剝離過程中能保持穩(wěn)定的性能。此類剝離液的優(yōu)勢在于剝離效率高、對基片損傷小,但有機溶劑多具有揮發(fā)性和毒性,使用過程中需做好防護(hù),且易造成環(huán)境污染。
堿性剝離液
堿性剝離液通常以氫氧化鉀、氫氧化鈉等強堿為主要成分。其作用原理是通過與光刻膠中的酸性基團(tuán)發(fā)生中和反應(yīng),破壞光刻膠的分子結(jié)構(gòu),使其從基片上脫落。為改善剝離效果,常添加表面活性劑、絡(luò)合劑等助劑。表面活性劑可降低溶液表面張力,增強堿性溶液對光刻膠的浸潤性;絡(luò)合劑能與金屬離子結(jié)合,防止其在基片表面殘留,避免對基片造成腐蝕。堿性剝離液適用于多種光刻膠,且成本相對較低,但對某些金屬基片可能存在腐蝕性。
光刻膠剝離液制備要點
在制備光刻膠剝離液時,需精準(zhǔn)控制各成分比例。對于有機溶劑型剝離液,要根據(jù)光刻膠種類和性質(zhì),合理調(diào)配不同有機溶劑的混合比例,以達(dá)到最佳溶解效果。例如,在去除含特殊樹脂成分的光刻膠時,可將 NMP 與少量其他極性溶劑混合,增強對光刻膠的溶解能力。制備堿性剝離液時,需嚴(yán)格控制堿的濃度,濃度過高可能腐蝕基片,過低則影響剝離效率;同時,助劑的添加量也需精確把控,以保證剝離液性能穩(wěn)定。此外,制備過程中應(yīng)采用適當(dāng)?shù)臄嚢璺绞胶蜁r間,確保各成分充分混合均勻,提高剝離液的一致性和穩(wěn)定性。
白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用
測量原理
白光干涉儀基于光的干涉原理,將白光光源發(fā)出的光經(jīng)分光鏡分為兩束,一束照射待測光刻圖形表面反射回來,另一束作為參考光,兩束光相遇產(chǎn)生干涉條紋。由于光刻圖形不同位置高度存在差異,導(dǎo)致反射光光程差不同,干涉條紋的形狀、間距和強度也隨之變化。通過分析干涉條紋特征,結(jié)合光程差與表面高度的對應(yīng)關(guān)系,能夠精確獲取光刻圖形的高度、深度、線寬等參數(shù)。
測量優(yōu)勢
白光干涉儀具備高精度、非接觸式測量特性,測量精度可達(dá)納米級,能夠準(zhǔn)確捕捉光刻圖形細(xì)微的尺寸變化。非接觸測量避免了對脆弱光刻圖形的物理損傷,保證樣品完整性。同時,測量速度快,可實現(xiàn)實時在線檢測,并通過專業(yè)軟件對測量數(shù)據(jù)進(jìn)行可視化處理,直觀呈現(xiàn)光刻圖形形貌,為工藝優(yōu)化和質(zhì)量控制提供有力支持。
實際應(yīng)用
在光刻膠剝離前后,白光干涉儀均發(fā)揮重要作用。剝離前,可測量光刻膠厚度、光刻圖形初始形貌,評估光刻工藝質(zhì)量;剝離過程中,實時監(jiān)測光刻膠去除情況,判斷剝離進(jìn)程;剝離完成后,精確測量殘留光刻膠厚度、基片表面粗糙度以及光刻圖形最終尺寸,為后續(xù)工藝提供數(shù)據(jù)依據(jù),確保產(chǎn)品符合設(shè)計要求 。
一款可以“實時”動態(tài)/靜態(tài) 微納級3D輪廓測量的白光干涉儀
1)一改傳統(tǒng)白光干涉操作復(fù)雜的問題,實現(xiàn)一鍵智能聚焦掃描,亞納米精度下實現(xiàn)卓越的重復(fù)性表現(xiàn)。
2)系統(tǒng)集成CST連續(xù)掃描技術(shù),Z向測量范圍高達(dá)100mm,不受物鏡放大倍率的影響的高精度垂直分辨率,為復(fù)雜形貌測量提供全面解決方案。
3)可搭載多普勒激光測振系統(tǒng),實現(xiàn)實現(xiàn)“動態(tài)”3D輪廓測量。

實際案例

(以上為新啟航實測樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
1,優(yōu)于1nm分辨率,輕松測量硅片表面粗糙度測量,Ra=0.7nm

(以上為新啟航實測樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
2,毫米級視野,實現(xiàn)5nm-有機油膜厚度掃描

(以上為新啟航實測樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
3,卓越的“高深寬比”測量能力,實現(xiàn)深蝕刻槽深槽寬測量。
審核編輯 黃宇
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