熱烈祝賀中微公司左濤濤榮獲“上海質(zhì)量工匠”榮譽(yù)稱號！

近日，上海市質(zhì)量協(xié)會公布第三屆(2025年度)“上海質(zhì)量工匠”名單，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）刻蝕設(shè)計(jì)總監(jiān)左濤濤憑借出色的引領(lǐng)力、實(shí)踐力、創(chuàng)新力、攻關(guān)力、傳承力等“工匠五力”獲此殊榮。

左濤濤談到對“工匠精神”的理解時(shí)說，“工匠精神”源于對技藝的敬畏，是對細(xì)節(jié)、極致的追求。工匠精神體現(xiàn)出對產(chǎn)品的尊重，將產(chǎn)品視為有生命力的個體，既深刻理解又敬畏有加，它也是對產(chǎn)品、客戶、社會的一種責(zé)任感。工匠精神不僅要嚴(yán)守技法，還要守正創(chuàng)新，驅(qū)動技術(shù)突破。

左濤濤自2009年加入公司以來，參與開發(fā)了10余款刻蝕機(jī)產(chǎn)品，熟悉刻蝕機(jī)系統(tǒng)開發(fā)流程、子模塊的技術(shù)要點(diǎn)、系統(tǒng)總成及測試驗(yàn)收等，參與多個國家級、?。ㄊ校┘夗?xiàng)目，協(xié)同團(tuán)隊(duì)攻克眾多技術(shù)難題，共申請專利合計(jì)145項(xiàng)，其中已授權(quán)專利114項(xiàng)。

自2007年首臺等離子體刻蝕設(shè)備付運(yùn)以來，中微公司在過去的近20年著力開發(fā)了完整系列的18種等離子體刻蝕設(shè)備，并積累了大量的芯片生產(chǎn)線量產(chǎn)數(shù)據(jù)和客戶驗(yàn)證數(shù)據(jù)。公司的CCP電容性高能等離子體刻蝕機(jī)和ICP電感性低能等離子體刻蝕機(jī)可以覆蓋國內(nèi)95%以上的刻蝕應(yīng)用需求，在性能優(yōu)秀、穩(wěn)定性高等方面滿足了客戶先進(jìn)制程中各類嚴(yán)苛要求。中微公司通過不斷提升反應(yīng)臺之間氣體控制的精度， ICP雙反應(yīng)臺刻蝕機(jī)Primo Twin-Star 反應(yīng)臺之間的刻蝕精度已達(dá)到0.2A（亞埃級）。截至2024年年底，公司累計(jì)已有超過6000臺等離子和化學(xué)薄膜的反應(yīng)臺，在國內(nèi)外137條生產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)和大規(guī)模重復(fù)性銷售。

談及此次獲獎，左濤濤表示，公司一直以來非常重視對“產(chǎn)品開發(fā)質(zhì)量”的管理，追求“一次做對”和產(chǎn)品“零缺陷”，也是中微特色的“三全、三重保險(xiǎn)、三個滿意”的質(zhì)量管理模式的十大方面之一，好的產(chǎn)品設(shè)計(jì)是為客戶提供性能穩(wěn)定、質(zhì)量可靠的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品的有力保障。

此次評選在上海市各重點(diǎn)行業(yè)、重點(diǎn)領(lǐng)域137家企事業(yè)單位165位個人自愿申報(bào)、各級組織推薦的基礎(chǔ)上，上海市質(zhì)量協(xié)會按照引領(lǐng)力、實(shí)踐力、創(chuàng)新力、攻關(guān)力、傳承力等“工匠五力”的培養(yǎng)選樹條件，并突出質(zhì)量要素，共評選出左濤濤在內(nèi)的26人為第三屆(2025年度)“上海質(zhì)量工匠”。值得一提的是，此次選樹出的26位 “上海質(zhì)量工匠”，也將進(jìn)入“上海工匠”的蓄水池。

長期以來，中微公司瞄準(zhǔn)“打造世界級裝備企業(yè)”戰(zhàn)略目標(biāo)，持續(xù)提升產(chǎn)品的性能和質(zhì)量、提高運(yùn)營效率和風(fēng)險(xiǎn)管控能力，認(rèn)真貫徹“五個十大”的企業(yè)文化，不斷完善企業(yè)的制度與措施，落實(shí)“三全、三重保險(xiǎn)、三個滿意”的質(zhì)量管理模式，堅(jiān)持三維立體發(fā)展戰(zhàn)略，實(shí)現(xiàn)高速、穩(wěn)定、健康和安全的高質(zhì)量發(fā)展，力爭盡早成為高端設(shè)備平臺公司，在規(guī)模上和競爭力上成為國際一流的半導(dǎo)體設(shè)備公司！

關(guān)于中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司

中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領(lǐng)先的加工設(shè)備和工藝技術(shù)解決方案。中微公司開發(fā)的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括十幾種細(xì)分刻蝕設(shè)備已可以覆蓋大多數(shù)刻蝕的應(yīng)用。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國內(nèi)和國際一線客戶，從65納米到5納米及更先進(jìn)工藝的眾多刻蝕應(yīng)用。中微公司最近十年著重開發(fā)多種導(dǎo)體和半導(dǎo)體化學(xué)薄膜設(shè)備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設(shè)備，并取得了可喜的進(jìn)步。中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設(shè)備早已在客戶生產(chǎn)線上投入量產(chǎn)，并在全球氮化鎵基LED MOCVD設(shè)備市場占據(jù)領(lǐng)先地位。此外，中微公司也在布局光學(xué)和電子束量檢測設(shè)備，并開發(fā)多種泛半導(dǎo)體微觀加工設(shè)備。這些設(shè)備都是制造各種微觀器件的關(guān)鍵設(shè)備，可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現(xiàn)代數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，它們正在改變?nèi)祟惖纳a(chǎn)方式和生活方式。在美國TechInsights（原VLSI Research）近五年的全球半導(dǎo)體設(shè)備客戶滿意度調(diào)查中，中微公司四次獲得總評分第三，薄膜設(shè)備四次被評為第一。