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EUV光刻技術(shù)競爭激烈,三星7納米EUV制程已完成新思科技物理認(rèn)證,臺積電緊追其后

半導(dǎo)體動態(tài) ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:工程師吳畏 ? 2018-06-19 15:06 ? 次閱讀
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在晶圓代工市場,臺積電與三星的競爭始終是大家關(guān)心的戲碼。三星雖然有高通等VIP客戶,但在7納米制程節(jié)點(diǎn),高通預(yù)計(jì)會轉(zhuǎn)投臺積電,三星要想受更多客戶的青睞,只能從制程技術(shù)著手了。這也是三星為什么跳過非EUV技術(shù)的7納米制程,直接上7納米LPP EUV制程技術(shù)的原因。如今,三星終于公布了7納米LPP制程已完成新思科技(Synopsys)物理認(rèn)證,意味著7納米EUV制程將可全球量產(chǎn)了。

目前全球前幾大晶圓代工廠商,英特爾10納米制程還沒搞定,距離7納米制程最遙遠(yuǎn)。臺積電7納米制程量產(chǎn)比較順利,會有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD等客戶陸續(xù)流片、量產(chǎn)。臺積電第一代7納米制程,使用的還是傳統(tǒng)多重曝光技術(shù),必須到2019年第2代7納米制程才會使用EUV光刻技術(shù)。

格羅方德也走與臺積電相似路線,預(yù)計(jì)2018年量產(chǎn)7納米DUV制程還是傳統(tǒng)的深紫外光刻技術(shù)。對此,號稱頻率可達(dá)5GHz的AMD 7納米Zen 2處理器會使用格羅方德的7納米制程技術(shù),2019年初問世,2020年再下一代才是7納米EUV制程技術(shù)。

相對其他競爭對手,三星在EUV技術(shù)最積極。三星直接跳過第一代非EUV光刻7納米制程,直接使用加入EUV技術(shù)的7納米LPP制程,預(yù)定2018下半年正式量產(chǎn)。日前,新思科技與三星已聯(lián)合宣布,三星使用的7納米LPP制程技術(shù)完成IC驗(yàn)證器的認(rèn)證。

三星完成這次認(rèn)證之后,7納米LPP制程就可立即提供認(rèn)證的技術(shù)資料,包括DRC設(shè)計(jì)規(guī)則檢查、LVS布局與原理圖、金屬填充技術(shù)檔等予相關(guān)客戶,意味著三星的7納米LPP制程正式進(jìn)入量產(chǎn)階段。

目前EUV光刻技術(shù)競爭激烈,各家大廠搶EUV光刻機(jī)也成為重要目標(biāo)之一。根據(jù)之前消息,ASML的EUV光刻機(jī),臺積電訂購了約10臺,三星訂購約6臺,英特爾訂購3臺,而格羅方德的EUV訂單數(shù)量不詳,中國中芯國際也訂了1臺EUV光刻機(jī),將用于7納米制程技術(shù)研究,預(yù)計(jì)2019年初交貨。各家廠商都有EUV光刻機(jī)的情況下,似乎未來7納米節(jié)點(diǎn)要勝出,就必須比較各家的技術(shù)與管理能力了。

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