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5G除了將帶來工藝問題,還存在著測試挑戰(zhàn)

0BFC_eet_china ? 來源:未知 ? 作者:李倩 ? 2018-06-26 08:47 ? 次閱讀
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在我們真的看到5G網(wǎng)絡(luò)和手機以前,半導體晶圓廠必須先改變其制造晶圓的方式,測試工程師需要搞清楚如何進行測試,還有,手機設(shè)計人員也得知道如何隨著人們的移動而追蹤控制波束。除此之外,無線產(chǎn)品還必須能以接近當前可負擔的價格銷售。這些都是日前在2018年國際微波會議(2018 International Microwave Symposium;IMS)中一場5G高峰會(5G Summit)的與會者提出的看法。

盡管目前已經(jīng)有一些5G芯片陸續(xù)出現(xiàn)了,但究竟要采用什么工藝技術(shù)來生產(chǎn)功率放大器(PA)和相控數(shù)組天線,至今仍不明朗。針對PA,參與“智能型手機的毫米波無線:在未來2、5、10年…”(mmWave Radios in Smartphones: What they will look like in 2, 5, 10 years)專題討論的成員們討論了所謂的“IV族”工藝———如硅晶CMOS和鍺,以及“III-V族”工藝——包括磷化銦(InP)、砷化鎵(GaAs)等。IV族是指周期表(Periodic Table)中第14行的元素,而III-V族則是第13和15行的元素。

Harish Krishnaswamy在IMS 5G Summit上回答與會觀眾的提問

美國國家標準與技術(shù)研究院(National Institute of Standards and Technology;NIST)電子工程師的Dylan Williams、國家儀器(NI)研發(fā)工程師Amarpal Khanna是這場專題討論的主持人。Williams指出,磷化銦在高頻(此處指mmWave頻段)方面的性能超越CMOS PA,而CMOS則在6GHz以下勝出。但是,美國哥倫比亞大學(Columbia University)電子工程副教授Harish Krishnaswamy則表示,相較于CMOS工藝,采用III-V族工藝打造的電路更加高效。此外,Lockheed Martin首席技術(shù)官Deveraux Palmer補充說,“當今的III-V族工藝也無法在高速下進行切換,”導致其用途受限。

不過,Williams問道:“效率那么重要嗎?”癥結(jié)就在于手機的續(xù)航力必須能在每次充飽后至少撐1天半,讓使用者就算晚上睡覺前忘記為手機充電,第二天手機仍能正常使用或到了早上才充電。

IMS 5G Summit與談人(由左至右):Northrop Grumman先進計劃項目經(jīng)理Tim LaRocca、Maja Systems首席技術(shù)官Joy Laskar、Anokiwave營銷副總裁Gary St. Onge、哥倫比亞大學電子工程副教授Harish Krishnaswamy、Lockheed Martin首席技術(shù)官Dev Palmer、Straighpath Communications技術(shù)副總裁Farshid Aryanfar、加州大學圣地亞哥分校(USCD)客座教授Walid Ali-Ahmad,以及專題討論主持人——國家儀器(NI)研發(fā)工程師Amarpal Khanna與NIST電子工程師Dylan Williams。

“6GHz以上頻率需要一些技術(shù)突破?!盡ACOM副總裁兼首席架構(gòu)師Anthony Fischetti在稍后的簡報中表示:“III-V工藝與CMOS不同,GaAs在6GHz以下頻率的功率太大了。”Fischetti解釋了他的公司MACOM如何因應(yīng)這些不同工藝的作法。例如,MACOM目前正與意法半導體(STMicroelectronics;ST)合作,使用硅基氮化鎵(GaN)工藝制造射頻(RF)組件。雖然目前這一工藝可行,但所需要的生產(chǎn)數(shù)量仍不符實際。所需要的設(shè)備不是無法取得就是極其昂貴。他指出,以MACOM目前晶圓廠日以繼夜運轉(zhuǎn)來看,每周可制造大約5萬片CMOS晶圓。而如果以當今所能取得的設(shè)備制造GaN (III-V)晶圓,該公司大概要花一個月的時間才能生產(chǎn)出相同的量?!安捎肐II-V工藝的晶圓廠必須改變,才能盡快達到今日CMOS工藝的規(guī)模?!?/p>

Fischetti還指出,III-V工藝要在經(jīng)濟上可行,就不能有重制晶圓(reworked wafer)。質(zhì)量必須成為工藝的一部份。此外,還必須使用光學微影技術(shù)拍攝各層影像至晶圓上。電子束(e-beam)微影技術(shù)的速度太慢了。III-V工藝的另一個問題是在無層室中不能出現(xiàn)任何金元素,員工也不能配戴金表和含金的珠寶等。

5G除了將帶來工藝問題,還存在著測試挑戰(zhàn)。在這場專題討論上,Maja Systems首席技術(shù)官Loy Laskar表示,大約有80-90%的材料清單(BOM)成本可能都來自IC組裝和測試。

Charles Schroeder

盡管為軍事應(yīng)用打造的測試IC和系統(tǒng)采用特殊工藝、mmWave頻譜和相控數(shù)組天線,但其數(shù)量并不多,但這種測試在針對具有龐大數(shù)量需求的消費裝置則相當具有挑戰(zhàn)性。NI RF營銷副總裁Charles Schroeder、是德科技(Keysight Technologies)全球5G項目經(jīng)理Roger Nichols強調(diào)了幾項5G測試挑戰(zhàn),其中最明顯的要算是必須采用空中傳輸(OTA)進行測試。透過OTA能夠探測到具有高整合組件(PA與相控數(shù)組天線)的mmWave系統(tǒng)。但OTA測試確實會對生產(chǎn)測試時間造成影響,而且,測試設(shè)備必須有能力處理這些工作負載。

Schroeder指出,處理mmWave頻率帶來的更大帶寬信號,需要龐大的運算能力,以及大量的時間。目前,測試工程師并不知道他們是否需要PC級的處理器、FPGAGPU來處理信號。這需要對于目前處理無線信號的方式進行一些反思。

其他問題則來自于高帶寬。因為帶寬相當寬——可能是100MHz,傳輸路徑的阻抗可能會有所不同。測試系統(tǒng)必須知道這一點并相應(yīng)地進行補償。

Roger Nichols

Nichols進一步討論測試問題,并指出近場和遠場測量的問題?!斑h場的OTA測試可能被認為比近場更困難。然而,二者其實存在著折衷。在遠場,電磁場的表現(xiàn)更好。例如,此時更接近于典型定義的垂直E場、H場和波印廷(Poynting)向量。造成遠場測試更困難的是信號損耗以及電波暗室的大小。而在近場,其挑戰(zhàn)在于取得準確偵測天線行為以及信號相位與振幅之間的關(guān)系。再者,mmWave的波長短,由于近場變換至遠場(NF/FF)與波長的倒數(shù)成正比,因此,波長越小,NF/FF轉(zhuǎn)換之間的距離越長。”

Nichols指出:“人們所做的事情是很隨機的,例如移動手機?!边@種隨機的移動并不是什么問題,因為天線的設(shè)計是全向性的。但是,為了降低5G的功耗,相控數(shù)組天線的波束控制將成為常態(tài)。這將迫使測試必須在不同的方向進行,測試系統(tǒng)必須驗證手機,因為手機會不斷地追蹤其方向并相應(yīng)地調(diào)整波束。最重要的是,必須降低測試的不確定性。Nichols說:“在你能取得驗證數(shù)字以前,你無法確定其運作效能如何。”

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原文標題:這些問題沒解決,談何5G商用?

文章出處:【微信號:eet-china,微信公眾號:電子工程專輯】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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