1.前言
本技術文檔將重點介紹基于云鎵半導體 650V GaN 器件的 3kW 無橋圖騰柱 PFC (BTP-PFC) 評估板。對于服務器電源/通信電源/移動儲能等產品設計有借鑒意義。
2. 云鎵GaN 參數(shù)優(yōu)勢
傳統(tǒng) PFC 電路基于整流橋和 boost 拓撲構成,該電路在中小功率的 PD, 適配器及小功率的服務器電源中有著廣泛的應用。
該電路損耗主要來自于整流橋、MOSFET、續(xù)流二極管、電感的鐵損/銅損、濾波電容 ESR 等。其中整流橋及二極管的損耗對于高能效的應用場景具有天然的硬傷:1) 由二極管構成的整流橋存在著較高的導通壓降(單個二極管正向壓降 ~1V,每交流半周電流流經兩個二極管),由此帶來較高的導通損耗;2) 在 boost 電路中,因為 Si MOS 器件存在著巨大的 Qrr 損耗,無法作為同步整流管使用,故通常使用 SBD 作為續(xù)流元件(如 SiC SBD),相較于開關元件存在著較高導通壓降,也會影響 boost 級的轉化效率。

圖 1 基于 boost 拓撲的 PFC 電路
無橋 totem-pole PFC 電路可大幅提升電能轉化效率,如圖 2 所示。由 Q1/Q2 構成半橋電路(高頻橋臂),如需提升電路輸出功率,可多相交錯(Q3/Q4),D1/D2 構成低頻橋臂(工頻 50Hz),D1/D2 也可由低導通電阻的 MOSFET 構成以降低二極管壓降帶來的損耗。該拓撲相較于傳統(tǒng) boost PFC 有諸多好處:
a) 更高的轉化效率:無整流橋,無續(xù)流二極管等高損耗元件;
b) 雙向輸出:圖騰柱 PFC 具有雙向輸出工作能力,適合儲能, OBC 等應用場景。
c) 同一橋臂的兩個功率管(如 Q1/Q2)在正負半周切換過程中交換工作模式(開關管和續(xù)流管),元件壽命可以提升。

圖 2 無橋圖騰柱 PFC 電路

圖 3 (left) Si MOSFET 硬開通波形示意圖;(right) GaN HEMT 硬開通波形示意圖
圖 3 為 Si MOSFET 和 GaN HEMT 硬開通的電壓/電流波形示意圖。在 MOSFET 開通過程中,Qrr 損耗會在電流波形中有明顯體現(xiàn),而 GaN HEMT 無該損耗體現(xiàn)。下表為 Si CoolMOS 與云鎵 GaN HEMT 參數(shù)對比,在相近內阻情況下,CoolMOS 的 Qoss 損耗是 GaN HEMT 的近 10 倍,Qrr 損耗更決定了 Si MOSFET 在 TP-PFC 電路中無法工作在硬開關下,只能采用 CrM/DCM 模式。相比之下,GaN Qoss 損耗更低,Qrr 損耗為 0,可工作在硬開關的 PFC 電路中。
Si CoolMOS IPZA65R029CFD7 | 云鎵GaN CG65030TAD | |
Voltage rating | 650V | 650V |
Max Rdson | 29mΩ | 30mΩ |
Qg | 145nC | 14.3nC |
Qoss @ Vds = 400V | 1056nC | 133nC |
Qrr | 1600nC | 0nC |
基于 GaN HEMT 器件無反向恢復損耗的優(yōu)點,GaN TP-PFC 可以采用 CCM 模式,相較于 CrM 控制模式,能有效將電感電流峰值降低一倍。

圖 4 CrM (left) 和 CCM (right) 工作模式電感電流與 RMS 電流的關系
3. 無橋圖騰柱 CCM 3kW PFC
云鎵半導體基于無橋圖騰柱 PFC 電路結構,使用 CG65030TAD GaN 功率器件(650V/30mΩ/TOLL封裝),搭建了一套 PFC 評估板,評估板基本信息如下表所示:


圖 5 云鎵 GaN 無橋 PFC 電路實物照片

圖 6 云鎵 GaN 無橋 PFC 電路效率曲線
圖 6 為本評估板測得的 PFC 效率,輸入 AC230V 條件下,峰值效率最高可以達到 98.7%(包含風扇和輔源損耗)。更多詳細資料請聯(lián)系云鎵半導體。
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