文章來源:SPICE 模型
原文作者:若明
在模擬集成電路設(shè)計(jì)中,精確的MOSFET模型是確保電路性能預(yù)測準(zhǔn)確性的基石。而溝道電荷分配原則,正是連接晶體管直流特性與交流特性的關(guān)鍵橋梁。如果簡單地認(rèn)為所有電荷都均勻分配或不隨偏置變化,就會(huì)嚴(yán)重錯(cuò)誤地估計(jì)電路的速度(fT)、延時(shí)和AC特性。今天,我們將從物理本質(zhì)出發(fā),深入解析這一重要概念。
為什么需要關(guān)注溝道電荷分配?
簡單來說:溝道電荷的分配方式直接決定了MOSFET的本征電容特性。
當(dāng)我們分析電路的高頻性能、開關(guān)速度或穩(wěn)定性時(shí),晶體管的電容參數(shù)(Cgs、Cgd、Cgb等)起著決定性作用。這些電容并非固定值,而是隨著偏置電壓劇烈變化的非線性元件。 傳統(tǒng)的簡單模型認(rèn)為溝道電荷均勻分布,但這與物理現(xiàn)實(shí)相去甚遠(yuǎn)。
實(shí)際上:
在線性區(qū)(Vds很小),溝道電荷近似均勻分布
在飽和區(qū)(Vds > Vdsat),溝道在漏端夾斷,電荷分布極度不均勻
在亞閾值區(qū),電荷分布又呈現(xiàn)不同的特征
如果忽略這種非均勻性,將嚴(yán)重誤判電路性能!
溝道電荷分配的物理本質(zhì)
理論基礎(chǔ):Ward-Dutton電荷分配模型 1978年,Ward和Dutton提出了奠基性的電荷導(dǎo)向模型。其核心思想是:基于電荷守恒原則,將總溝道電荷合理地"分配"到器件的四個(gè)端口(柵、源、漏、體)。

圖1:電荷導(dǎo)向模型 電荷導(dǎo)向模型:
所提出的模型基于MOS結(jié)構(gòu)中的實(shí)際電荷分布(如圖1所示)。對于任何空間區(qū)域,我們可以寫:

其中 i 是流入該區(qū)域的凈電流,Q 是該區(qū)域中包含的總電荷。因此,我們可以寫:

電荷守恒方程: QG+QS+QD+QB=0 其中總溝道電荷 QC可表示為:

并且與源電荷和漏電荷有關(guān):

不幸的是,漏極和源極電荷的定義不如柵極和體電荷,必須通過分配通道電荷來獲得。因此,我們必須有一個(gè)將Qc劃分為QD和QS的算法。這種拆分可以通過多種方式完成。
1. 物理分割
將溝道按照溝道中的某一點(diǎn)y0分割,y0=a*L,L是溝道長度,因此可以按照如下方式分配:

2. 數(shù)學(xué)分配
數(shù)學(xué)分配中,QD = b*Qc, QS = (1 - b)*Qc,其中0 <= b <= 1。通常,b 可能是端子電壓的函數(shù)。
在線性區(qū),雖然溝道均勻,但載流子從源端注入,導(dǎo)致源端"感應(yīng)"到更多電荷。在飽和區(qū),溝道在漏端夾斷,幾乎沒有電荷歸屬于漏端,大部分電荷聚集在源端附近。通過理論推導(dǎo)和實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,我們得到了兩個(gè)經(jīng)典分配規(guī)則:
線性區(qū)(40/60規(guī)則):
a) 漏端電荷 Qd ≈ 40% QI
b) 源端電荷 Qs ≈ 60% QI 飽和區(qū)(0/67規(guī)則):
a) 漏端電荷 Qd ≈ 0% QI b) 源端電荷 Qs ≈ 67% QI
c) 柵端電荷 Qg ≈ 33% QI
從理論到實(shí)踐:連續(xù)可微的分配函數(shù)
Tsividis的平滑過渡方案 經(jīng)典的40/60和0/67規(guī)則只是兩個(gè)極端情況。在實(shí)際電路中,晶體管工作在連續(xù)的偏置范圍內(nèi),我們需要平滑的過渡函數(shù)。以BSIM3V3模型為例,我們簡單了解一下工程中是如何實(shí)現(xiàn)的。 BSIM3v3 將襯底電荷 Qbulk和反型層電荷 Qinv分開處理??倴烹姾?Qg滿足電荷守恒方程:

BSIM3v3 手冊中詳細(xì)描述了如何通過一個(gè)平滑函數(shù)將工作區(qū)域劃分為三個(gè)部分,并對溝道電荷進(jìn)行分配。模型通過一個(gè)關(guān)鍵參數(shù)Vgsteff(有效的柵電壓過驅(qū)動(dòng))來平滑連接亞閾值區(qū)和強(qiáng)反型區(qū)。同時(shí),通過另一個(gè)參數(shù)Vdseff(有效的漏源電壓)來平滑連接線性區(qū)和飽和區(qū)。
// *** BSIM3v3 電荷模型 Verilog-A 實(shí)現(xiàn) , 部分代碼 ****// // 電荷計(jì)算核心函數(shù) //================================================================== functioncalculate_charges; input Vgsteff, Vdseff, Vdsat, Abulk, Cox, W, L; realVgsteff, Vdseff, Vdsat, Abulk, Cox, W, L; // 電荷變量 realQinv_total, Qd, Qs, Qg, Qb; realx_share;// 電荷分配系數(shù) begin // 6. 總反型層電荷計(jì)算 Qinv_total =calculate_Qinv_total(Vgsteff, Vdseff, Vdsat, Abulk, Cox, W, L); // 7. 電荷分配系數(shù)計(jì)算 - Ward-Dutton 方法 x_share =calculate_charge_partition(Vdseff, Vdsat); // 8. 各端口電荷計(jì)算 Qd = x_share * Qinv_total; // 分配到漏端的電荷 Qs = (1- x_share) * Qinv_total;// 分配到源端的電荷 Qb =calculate_bulk_charge(Vgsteff, Vbs, Cox, W, L);// 襯底電荷 Qg = -(Qinv_total + Qb); // 柵電荷 (電荷守恒) // 9. 使用ddt貢獻(xiàn)電荷到端口 I(g,s) <+?ddt(Qg); ? ??I(d,s) <+?ddt(Qd); ? ??I(s,d) <+?ddt(Qs);? ? ??I(b,s) <+?ddt(Qb); end endfunction
關(guān)鍵算法解析
1. 兩個(gè)核心平滑函數(shù)
Vgsteff- 亞閾值/強(qiáng)反型平滑過渡:
// Verilog-A 代碼 // 使用對數(shù)指數(shù)函數(shù)實(shí)現(xiàn)平滑過渡Verilog-A Vgsteff = Vtm *log(1+exp(Vgst / (n * Vtm)));Vdseff- 線性區(qū)/飽和區(qū)平滑過渡:
// Verilog-A 代碼 // 使用平方根函數(shù)避免導(dǎo)數(shù)不連續(xù) Vdseff = Vdsat -0.5* (Vdsat - Vds - delta +sqrt((Vdsat - Vds - delta)^2+4* delta * Vdsat));
2. 電荷分配算法
BSIM3 使用連續(xù)的分配系數(shù)x_share:
// Verilog-A 代碼
// ==================================================================
// 電荷分配系數(shù)計(jì)算 - BSIM3核心算法
// ==================================================================
function real calculate_charge_partition;
input Vdseff, Vdsat;
real Vdseff, Vdsat;
real x, Fsat, beta;
begin
if(Vdsat ==0)begin
x=0.5;// 避免除零
endelsebegin
// 飽和因子
Fsat = Vdseff / Vdsat;
beta =2.0;// 平滑因子
// BSIM3 平滑分配函數(shù)
if(Fsat 0.1)?begin
? ? ? ? ? ??x?=?0.5?* (1?- Fsat/0.2);?// 線性區(qū)近似
? ? ? ? end?else?if?(Fsat >0.9)begin
x=0.0;// 深飽和區(qū)
endelsebegin
// 過渡區(qū)平滑函數(shù)
x =0.5* pow(1- Fsat, beta);
end
end
calculate_charge_partition=x;
end
endfunction
總結(jié)
溝道電荷分配原則是MOSFET建模從"簡單近似"走向"物理精確"的關(guān)鍵一步。從Ward-Dutton的理論奠基,到Tsividis的平滑過渡方案,再到現(xiàn)代SPICE模型的工程實(shí)現(xiàn),這一領(lǐng)域的發(fā)展體現(xiàn)了半導(dǎo)體建模的精髓:在物理精確性與計(jì)算效率之間尋求最佳平衡。
對于電路設(shè)計(jì)師而言,理解這一概念不僅有助于選擇正確的模型,更能深入理解器件工作的物理本質(zhì),從而在電路優(yōu)化中做出更明智的決策。
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原文標(biāo)題:如何理解MOSFET器件溝道電荷分配原則
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