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采用EON Studio技術(shù)實現(xiàn)虛擬化工場景的建設(shè)

電子設(shè)計 ? 來源:郭婷 ? 作者:電子設(shè)計 ? 2019-06-18 08:00 ? 次閱讀
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虛擬現(xiàn)實(Virtual Reality,簡稱VR,又譯作靈境、幻真)是近年來出現(xiàn)的高新技術(shù),也稱靈境技術(shù)或人工環(huán)境。虛擬現(xiàn)實是利用電腦模擬產(chǎn)生一個三維空間的虛擬世界,提供使用者關(guān)于視覺、聽覺、觸覺等感官的模擬,讓使用者如同身歷其境一般,可以及時、沒有限制地觀察三度空間內(nèi)的事物。VR是一項綜合集成技術(shù),涉及計算機圖形學(xué)、人機交互技術(shù)、傳感技術(shù)、人工智能等領(lǐng)域,它用計算機生成逼真的三維視、聽、嗅覺等感覺,使人作為參與者通過適當(dāng)裝置,自然地對虛擬世界進(jìn)行體驗和交互作用。使用者進(jìn)行位置移動時,電腦可以立即進(jìn)行復(fù)雜的運算,將精確的3D世界影像傳回產(chǎn)生臨場感。該技術(shù)集成了計算機圖形(CG)技術(shù)、計算機仿真技術(shù)、人工智能、傳感技術(shù)、顯示技術(shù)、網(wǎng)絡(luò)并行處理等技術(shù)的最新發(fā)展成果,是一種由計算機技術(shù)輔助生成的高技術(shù)模擬系統(tǒng)。

1 開發(fā)平臺概述

EONStudio是一種依據(jù)圖形使用者接口,用來研發(fā)實時3D多媒體應(yīng)用程序的工具,主要應(yīng)用在電子商務(wù)/營銷/數(shù)字學(xué)習(xí)/教育訓(xùn)練與建筑空間等領(lǐng)域。研發(fā)步驟包括輸入3D對象,通常這些對象會先由3D繪圖軟件完成,如3DStudioMAX、Lightwave等等,或者CAD應(yīng)用軟件如ArchiCAD、ProENGINEER、AutoCAD等。輸入模型后,就可以透過EON視覺圖型化程序接口、Scripting或C++程序代碼輕易讓模型加上動作。最后,EON程序檔案可以經(jīng)由網(wǎng)絡(luò)或封包展示,也可以與其它支持微軟ActiveX組件的工具進(jìn)行互動,(Powerpoint、Word、Macormedia、Authorware、Director、Shockwave、VisualBasic等等)。EON Studio基于最新的PC技術(shù),是在OpenGL圖形標(biāo)準(zhǔn)和微軟的DirectX多媒體功能的基礎(chǔ)上建立起來的。通過與OpenGL和DirectX的聯(lián)系,使得利用EON所開發(fā)的應(yīng)用程序在將來圖形卡渲染能力加強的同時其渲染效果也會得到提高。EON強調(diào)資源(軟件/硬件)的集成與延展、基于Web的交互式三維文件的安全維護(hù)、逼真度及后臺數(shù)據(jù)庫的結(jié)合。EON Studio技術(shù)和VRML技術(shù)在結(jié)構(gòu)上十分相似,可以認(rèn)為,EON Studio技術(shù)是VRML技術(shù)基礎(chǔ)上的延伸和擴充,其系統(tǒng)組成如圖1所示。

采用EON Studio技術(shù)實現(xiàn)虛擬化工場景的建設(shè)

EON Studio應(yīng)用了面向?qū)ο蠹夹g(shù),不僅使得對三維世界的描述變得清晰,還通過封裝屬性和建立模擬場景內(nèi)部消息路由,很方便地實現(xiàn)虛擬實體的交互和行為動作等功能。虛擬場景的基本元素為節(jié)點(node),節(jié)點是EON Studio為多媒體和交互對象定義的一個對象集。節(jié)點[1]的屬性包含在域(field)和事件(event)中。EON Studio的節(jié)點類型很豐富,具有超過100個預(yù)先設(shè)定好的功能節(jié)點,按功能可以分為以下幾類:預(yù)設(shè)節(jié)點;代理節(jié)點;組裝節(jié)點;基礎(chǔ)節(jié)點;碰撞檢測節(jié)點;可視化節(jié)點;傳感器節(jié)點。

另外,EON Studio在以上基礎(chǔ)上又增加了Script Nodes,可以利用Java script或VB script進(jìn)行編程,處理一些復(fù)雜的仿真,擴展了EON Studio中虛擬世界的動態(tài)行為。利用EON Studio的功能節(jié)點,能方便地建立滿足用戶要求的三維虛擬場景,完成用戶特定的交互過程。

2 三維模型建立與優(yōu)化

2.1 三維模型建立

3D Studio Max,常簡稱為3ds Max或MAX,是Autodesk公司開發(fā)的基于PC系統(tǒng)的三維動畫渲染和制作軟件。其前身是基于DOS操作系統(tǒng)的3D Studio系列軟件,最新版本是2011.在Windows NT出現(xiàn)以前,工業(yè)級的CG制作被SGI圖形工作站所壟斷。3D Studio Max + Windows NT組合的出現(xiàn)一下子降低了CG制作的門檻,首選開始運用在電腦游戲中的動畫制作,后更進(jìn)一步開始參與影視片的特效制作,例如X戰(zhàn)警II,最后的武士等。

使用3DS MAX可以較方便地建立逼真度很高的三維模型。圖2是建立某化工場景模型的軟件界面。

采用EON Studio技術(shù)實現(xiàn)虛擬化工場景的建設(shè)

2.2 模型的優(yōu)化

模型的優(yōu)化對漫游場景的瀏覽很有幫助,前期如果不對場景的模型進(jìn)行很好的優(yōu)化,到了制作后期再對模型進(jìn)行優(yōu)化時就需要重新回到MAX里修改模型并進(jìn)行重新烘焙后再導(dǎo)入到當(dāng)前的EON場景里,這樣就出現(xiàn)了重復(fù)工作的情況,大大降低了工作效率。因此,模型的優(yōu)化需要在創(chuàng)建場景時就應(yīng)受到足夠的重視。

在3DS MAX中建模的準(zhǔn)則基本上可以歸納為以下幾點:

(1)制作簡模

漫游場景中運行畫面每一幀都是靠顯卡和CPU實時計算出來的,如果面數(shù)太多,會導(dǎo)致運行速度急劇下降,甚至無法運行;還會導(dǎo)致文件容量增大,在網(wǎng)絡(luò)上發(fā)布還會導(dǎo)致下載時間增加[2].

(2)三角面盡量為等邊三角形

在調(diào)用模型或創(chuàng)建模型時,盡量保證模型的三角面為等邊三角形,不要出現(xiàn)長條型。這是因為長條形的面不利于實時渲染,還會出現(xiàn)鋸齒、紋理模糊等現(xiàn)象。

(3)合理分布模型的密度

模型的密度分布不合理對其后面的運行速度有影響,如果模型密度不均勻,會導(dǎo)致運行速度時快時慢,因此,應(yīng)合理地分布場景模型的密度。

在3DS MAX中完成模型烘焙和優(yōu)化后,輸出的Eoz文件格式,可方便地導(dǎo)入EON Studio進(jìn)行開發(fā)設(shè)計。

3 EON中場景的優(yōu)化

初步完成化工場景的建模后,通過EON Viewer瀏覽的速度緩慢,甚至發(fā)生停頓現(xiàn)象,如果不能解決瀏覽速度問題,整個系統(tǒng)就沒有什么意義了。為了解決這個問題,首先要對該問題的產(chǎn)生進(jìn)行分析。三維場景的呈現(xiàn)是通過瀏覽器以默認(rèn)視點為參照對場景描述文件的解釋而完成的,每當(dāng)用戶拖動鼠標(biāo)或按下箭頭鍵在場景中走動或旋轉(zhuǎn)時,視點就會發(fā)生變化。在真實世界中,人向前行,對面的事物會越來越近,為了模仿這種效果,每當(dāng)視點發(fā)生變化,瀏覽器就會重新計算場景中各對象的新位置并重新進(jìn)行渲染,使得人能走近某個對象。當(dāng)場景中對象較多時,瀏覽器渲染的速度就跟不上視點變化的速度,從而產(chǎn)生停頓的現(xiàn)象。

由于化工廠場景巨大、管線繁多、工藝流程復(fù)雜等問題,對三維場景的顯示與實現(xiàn)帶來一定的困難。筆者曾試著采用貼圖的方法,即在一個方體上貼上相應(yīng)的紋理圖來表示裝置,這種方法實現(xiàn)起來很簡單,瀏覽器解釋速度較快,但最大的缺點是構(gòu)建的對象缺乏三維立體感和真實感,因此貼圖的方法不適合化工場景。通過對三維場景實時繪制技術(shù)的分析與研究,提出如下優(yōu)化方式。

3.1 大量使用重用機制

不僅一個裝置內(nèi)部的對象可以重用,流程相同的裝置之間也可采用重用機制。對于兩個不同的構(gòu)建模型,有些泵和閥門是相同的,那么對相同的部分利用DEF與UES重用機制就可以極大地簡化描述文件,最重要的是能夠減輕瀏覽器的負(fù)擔(dān),從而提高渲染速度。重用機制的使用有個前提,即只能在一個描述文件內(nèi)部使用[3].因此,需要進(jìn)行代碼重用的2個或多個對象,它們的描述應(yīng)放在同一個節(jié)點中。

3.2 利用EON統(tǒng)計值改善模擬品質(zhì)

復(fù)雜三維場景的實時繪制要求包括:場景環(huán)境中的運動體的位置、姿態(tài)的實時計算與動態(tài)繪制;用戶視點改變時,畫面的刷新必須達(dá)到人眼覺察不到閃爍,即相當(dāng)光滑的程度,通常為20~30幀/s,至少不能少于10幀/s;同時場景的環(huán)境也要求隨著人的活動及時產(chǎn)生相應(yīng)的畫面,圖形生成必須能立即做出反應(yīng)并產(chǎn)生相應(yīng)的環(huán)境和場景。

可以利用模擬(Simulation)菜單中顯示模擬程式統(tǒng)計值(Show Simulation Statistics)選項,或是點選工具列中顯示模擬程式統(tǒng)計值的按鈕,啟動模擬統(tǒng)計值的顯示[4].HZ:每秒框架數(shù)目。這是一個利用數(shù)個框架計算出來的平均速率,較小的值表示框架產(chǎn)生較慢;Frm:準(zhǔn)備框架所需的時間(s)。這個值可用來確認(rèn)哪個框架耗費較多的時間;App:更新傳呼所需的時間(s);Eve:事件處理所耗費的時間(s)。Drw:繪圖所耗費的時間(s),包含下載材質(zhì)、像素填充及頂點轉(zhuǎn)換;#tri:繪制的三角形實際的數(shù)目(注意這個值會隨視角的改變而改變)。

隨著統(tǒng)計值的變化,可實時判定具體場景的瀏覽速度,同時利用EON中Mesh節(jié)點下的Polygon Reduction level子節(jié)點進(jìn)行Mesh網(wǎng)格的簡化,以達(dá)到適合的瀏覽效果。

3.3 合理定義顯示比例

大部分的顯卡使用材質(zhì)的影像記憶體及框架緩沖來做動作。框架緩沖可分為前緩沖、后緩沖及Z緩沖,在屏幕上根據(jù)所看到影像的不同而不同。如果在視窗中執(zhí)行EON模擬程式,前緩沖會涵蓋整體事件屏幕,但不影響模擬視窗的大小,在記憶體的數(shù)量上,前緩沖由Windows屏幕設(shè)定來決定。而后緩沖及Z緩沖的大小則依據(jù)目前EON模擬視窗的大小來設(shè)定。

在屏幕上繪制像素是需要時間的,當(dāng)相對于視窗大小的框架速率很大時,像素填充會設(shè)定模擬速度的極限。要降低像素填充所花費的時間,可使用較小的模擬視窗,點選大小/方位比例(Size/Aspect Ratio)標(biāo)簽,并輸入模擬視窗大小,降低透支(Overdraw)的程度(例如空間內(nèi)部結(jié)構(gòu)的模擬),合理地將場景進(jìn)行分割并保存為獨立的Edz文件,利用改變模擬(Change Simulation)功能節(jié)點來進(jìn)行切換,也可利用在框架功能節(jié)點的特性視窗中選取隱藏(Hidden)選項,讓漫游瀏覽中尚未看到的幾何物件暫時不顯示。

3.4 利用場景切換技術(shù)實現(xiàn)同一對象不同模型的自動切換

有針對性地為場景中面數(shù)復(fù)雜的裝置建立多個不同的模型,使場景在顯示的時候以不同模型多方面顯示,如圖3所示。最簡單的是建立簡單和細(xì)化兩種模型,當(dāng)視點距對象較遠(yuǎn)時采用簡單模型,視點接近時自動切換為該對象的細(xì)化模型。采用這種辦法,需對某對象建立多個模型,并利用Switch、LOD節(jié)點或觸發(fā)器實現(xiàn)模型的切換[5].在切換過程中,要對切換時間進(jìn)行設(shè)置,使切換時間小于人眼眨動頻率,畫面看起來更加逼真。這種方法既能夠減小面數(shù)、提高演示速度,又能夠使人感覺不到明顯的切換痕跡,是虛擬現(xiàn)實領(lǐng)域應(yīng)該繼續(xù)沿用并加以延伸的方法。

采用EON Studio技術(shù)實現(xiàn)虛擬化工場景的建設(shè)

3.5 漫游系統(tǒng)優(yōu)化測試

虛擬現(xiàn)實漫游技術(shù)的一大困難在于漫游仿真速度與運行速度之間的矛盾。在建立最佳仿真程度模型的同時又要保證速度的運行是要重點協(xié)調(diào)的問題。本系統(tǒng)運行的硬件配置為:處理器Pentiu(R)4 3.0 GHz,內(nèi)存1 GB,顯卡使用NVIDIA Geforce 7300GT(256 MB),在臺式機上進(jìn)行了優(yōu)化測試,測試結(jié)果如表1所示。

采用EON Studio技術(shù)實現(xiàn)虛擬化工場景的建設(shè)

利用EON Studio建立的虛擬化工場景,以某化工企業(yè)的生產(chǎn)場景為模型,實現(xiàn)了該虛擬場景的漫游,如圖4所示。使用者可以對場景進(jìn)行全方位瀏覽,也可對局部進(jìn)行細(xì)致的觀察;并配合適當(dāng)?shù)闹v解,最終對該生產(chǎn)過程產(chǎn)生一個清晰、深刻的認(rèn)識。通過對模型部分優(yōu)化與在EON Studio中進(jìn)行的必要優(yōu)化,符合實時交互頻率15幀/s以上的漫游要求,加快了三維場景的實時繪制速度,提供了良好的漫游瀏覽速度。該優(yōu)化方法具有一定的普遍性,對后續(xù)漫游信息系統(tǒng)的完善和二次開發(fā)提供了必要的保證。

采用EON Studio技術(shù)實現(xiàn)虛擬化工場景的建設(shè)


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