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韓系大廠功率GaN代工進入量產(chǎn)階段,F(xiàn)abless要崛起?

Hobby觀察 ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:梁浩斌 ? 2026-03-25 10:58 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/梁浩斌)近日業(yè)界傳出三星電子功率GaN晶圓代工產(chǎn)線即將投產(chǎn),其8英寸GaN產(chǎn)線已進入量產(chǎn)前準備階段,預計最早將在今年第二季度實現(xiàn)全面投產(chǎn)。

三星的GaN代工業(yè)務布局最早是從2023年開始,在其舉辦的晶圓代工論壇活動上宣布將在2025年起為消費級、數(shù)據(jù)中心和汽車應用提供8英寸GaN晶圓代工服務。而在三年后,盡管相比計劃略微延后,但三星終于正式進入功率半導體代工市場。

GaN、SiC同步推進,已有首批客戶

三星將自己GaN代工業(yè)務定位為“交鑰匙”的服務,不涉及芯片設(shè)計環(huán)節(jié)。同時三星在外延片上也選擇了自研,目前已經(jīng)研發(fā)出適合大規(guī)模量產(chǎn)的Si基GaN外延片,將用于后續(xù)的量產(chǎn)。

業(yè)界消息稱,目前三星已經(jīng)獲得首批客戶,但由于客戶規(guī)模有限,三星預計其功率GaN晶圓代工業(yè)務的年營收將低于1000億韓元(約合4.6億元人民幣)。而業(yè)內(nèi)人士推測,三星GaN晶圓代工業(yè)務計劃的推遲也是受到客戶群規(guī)模的影響。

另外,除了GaN之外,三星還同步推進SiC代工的業(yè)務,并同樣預計在2026年內(nèi)推出。但與GaN代工不同的是,三星SiC代工業(yè)務將涵蓋從設(shè)計到晶圓制造到封裝的垂直整合模式,SiC器件產(chǎn)品電壓范圍覆蓋從1200V到1700V,能夠滿足當前電動汽車以及數(shù)據(jù)中心高壓系統(tǒng)的需求。

在實際應用中,功率GaN器件主要用于1200V以下的場景,1200V及以上則更多采用SiC器件,三星通過GaN和SiC的布局,可以覆蓋未來功率半導體的大部分需求,并有望接棒臺積電退出GaN留下的市場空缺。同時配合其HBM4內(nèi)存、以及GPU、AI芯片代工等業(yè)務,形成完整的電源管理方案。

GaN代工格局再生變,F(xiàn)abless模式崛起?

去年7月,臺積電發(fā)表聲明表示,經(jīng)過長期業(yè)務的完整評估后,公司決定在未來兩年內(nèi),也就是2027年7月之前逐步退出氮化鎵業(yè)務。臺積電稱:“我們正與客戶密切合作,確保順利過渡,并在此期間繼續(xù)致力于滿足他們的需求?!?br />
一鯨落萬物生,就在臺積電正式宣布退出GaN代工業(yè)務后,納微半導體作為臺積電最大的GaN客戶,宣布將與力積電合作,共同推進業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的8英寸硅基氮化鎵技術(shù)生產(chǎn)。納微半導體在公告中指出,力積電有著先進的180nm CMOS工藝能力,運用更小、更先進的工藝節(jié)點,從而在性能、能效、集成度以及成本方面實現(xiàn)全面優(yōu)化。

納微半導體表示將通過力積電生產(chǎn)其100V至650V的氮化鎵產(chǎn)品組合,以應對超大規(guī)模AI數(shù)據(jù)中心和電動汽車等48V基礎(chǔ)設(shè)施對氮化鎵技術(shù)日益增長的需求。根據(jù)公告,首批由力積電制造的器件預計在2025年第四季度完成認證。其中,100V系列計劃于2026年上半年開始在力積電投產(chǎn),而650V的器件則將在未來12到24個月內(nèi)從現(xiàn)有的供應商臺積電逐步轉(zhuǎn)移至力積電進行代工生產(chǎn)。

而臺積電GaN業(yè)務的另一大客戶羅姆半導體,在今年3月與臺積電簽署技術(shù)授權(quán)協(xié)議,將臺積電成熟的650V及相關(guān)GaN工藝技術(shù)授權(quán)并轉(zhuǎn)移至羅姆位于日本的濱松工廠,羅姆計劃于2027年在內(nèi)部工廠建立完整的端到端生產(chǎn)體系,也就是將門級驅(qū)動 (Gate Driver)、控制IC與GaN功率器件進行更緊密的單片集成或系統(tǒng)封裝。

另外,臺積電的650V和80V 功率GaN工藝還授權(quán)給世界先進和格芯,通過授權(quán)費回收早期研發(fā)成本,并維持了行業(yè)標準的間接影響力。

值得一提的是,近年來不只是三星,韓國本土產(chǎn)業(yè)對于GaN代工似乎較為熱衷,比如DB HiTek、SK Keyfoundry等都紛紛入局GaN代工領(lǐng)域。

DB HiTek在今年2月宣布650V GaN HEMT工藝進入量產(chǎn)最后階段,并已開啟 MPW(多項目晶圓) 服務供全球客戶流片。公司計劃在2026年底前推出 200V 低壓 GaN 以及針對集成電路優(yōu)化的GaN BCD工藝,試圖在單片集成驅(qū)動領(lǐng)域挑戰(zhàn)歐美的IDM廠商。

SK Keyfoundry則傾向于汽車應用,今年三月明確了其復合功率半導體路線圖,同步推進 SiC MOSFET 與 650V GaN,目前正與韓國本土汽車供應鏈深度合作,驗證其 GaN 工藝在 800V 系統(tǒng)中的 DC-DC 轉(zhuǎn)換可靠性。

目前GaN代工呈現(xiàn)多點開發(fā)的格局,新玩家的入局給市場帶來了非常大的轉(zhuǎn)變。在臺積電退出后,F(xiàn)abless廠商最擔心的是失去高良率、穩(wěn)定的代工源,而新玩家入局給GaN代工帶來更多競爭,未來Fabless廠商可能會獲得更大的價格優(yōu)勢,且標準化的工藝平臺讓Fabless廠商能夠?qū)W⒂?a href="http://m.makelele.cn/v/tag/167/" target="_blank">電路設(shè)計層面的創(chuàng)新。

不過,另一邊GaN IDM廠商同樣在加快產(chǎn)能布局。全球功率GaN市場份額最高的英諾賽科在去年計劃從24年年末的1.3萬片/月,提升至2025年年末的2萬片/月;英飛凌在2025年7月宣布開始量產(chǎn)全球首批12英寸功率硅基氮化鎵晶圓;羅姆則通過技術(shù)授權(quán)獲得了650V GaN工藝,并將其濱松工廠產(chǎn)線從6英寸往8英寸升級。

小結(jié):

功率GaN作為在數(shù)據(jù)中心800V架構(gòu)中的重要器件,未來幾年的需求增速將進入加速階段。代工廠的遍地開花,其實也意味著GaN正在加速普及,在更多場景替代硅基功率器件。從時間節(jié)點來看,27年將會是功率GaN市場格局出現(xiàn)巨變的節(jié)點,更多GaN晶圓代工產(chǎn)能的落地,將會帶動GaN市場規(guī)模的新一輪增長。
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