造出最強(qiáng)超分辨光刻機(jī)這是質(zhì)的飛躍

2018-12-02 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī) 1.4萬 0

芯片是如何制成的，都運(yùn)用了哪些技術(shù)

如今的7nm EUV 芯片，晶體管多大100億個(gè)，它們是怎么樣安上去的呢。晶體管并非是安裝上去的，芯片制造其實(shí)分為沙子-晶圓，晶圓-芯片這樣的過程，而在...

2020-03-20 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī) 1.4萬 0

中科院聯(lián)合多個(gè)科技公司研發(fā)出了一款22nm分辨率的光刻機(jī)

中芯國際接連取得突破，打破西方光刻機(jī)封鎖，勝利女神在招手！在我國半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)，一直存在著一個(gè)重大問題，那就是我國國產(chǎn)光刻機(jī)的精度僅為90nm，那么90n...

2020-04-10 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī) 1.4萬 0

光刻機(jī)制作芯片過程

光刻機(jī)制作芯片過程非常復(fù)雜，而光刻機(jī)是制造芯片最重要的設(shè)備之一，由于先進(jìn)光刻機(jī)的技術(shù)封鎖，中國芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優(yōu)秀的國產(chǎn)光刻機(jī)...

2021-12-30 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī)ASML 1.3萬 0

中芯國際與臺(tái)積電有一定差距

從營(yíng)業(yè)收入和市場(chǎng)份額來看，臺(tái)積電都是中芯國際的10倍以上。就技術(shù)來說，目前臺(tái)積電已經(jīng)掌握了7nm工藝，并正在研發(fā)5nm工藝。而中芯國際還在苦苦提升28n...

2018-05-29 標(biāo)簽：中芯國際臺(tái)積電光刻機(jī) 1.3萬 0

先鋒微技術(shù)用于模擬芯片的光刻機(jī),可應(yīng)用于汽車、電力、工業(yè)等領(lǐng)域

根據(jù)公告顯示，先鋒微技術(shù)成立于2003年，其前身可追溯至母公司先鋒集團(tuán)于1977年成立的半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室，專注于光盤設(shè)備和圖像處理的模擬IC和數(shù)字IC產(chǎn)品的...

2020-08-31 標(biāo)簽：芯片集成電路IC 1.3萬 0

雙重圖形化技術(shù)（Double Patterning Technology，DPT）

SADP 技術(shù)先利用浸沒式光刻機(jī)形成節(jié)距較大的線條，再利用側(cè)墻圖形轉(zhuǎn)移的方式形成 1/2 節(jié)距的線條，這種技術(shù)比較適合線條排列規(guī)則的圖形層，如 FinF...

2022-11-25 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī) 1.3萬 0

中國半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展的現(xiàn)狀是怎么樣的

半導(dǎo)體設(shè)備位于整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的上游，在新建晶圓廠中半導(dǎo)體設(shè)備支出的占比普遍達(dá)到 80%。一條晶圓制造新建產(chǎn)線的資本支出占比如下：廠房 20%、晶圓制造...

2020-02-18 標(biāo)簽：半導(dǎo)體封裝光刻機(jī) 1.3萬 0

全球首臺(tái)用紫外光源實(shí)現(xiàn)的22納米分辨率的光刻機(jī)

2018-12-03 標(biāo)簽：光學(xué)納米光刻機(jī) 1.3萬 0

開發(fā)頂級(jí)光刻機(jī)的困難 頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞？

頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞？ASML的光刻機(jī)，光一個(gè)零件他就調(diào)整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機(jī)舉例，其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬個(gè)，比汽車零件精細(xì)數(shù)十倍！

2020-07-02 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 1.3萬 0

中國即將突破ASML***技術(shù)！

早在2015年，中國的長(zhǎng)春光機(jī)所就成功研發(fā)出了EUV（極紫外光刻）光刻機(jī)的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。這個(gè)系統(tǒng)的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米，達(dá)到了EUV...

2023-09-11 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī)ASML 1.3萬 0

為什么除了荷蘭其他技術(shù)大國就不能生產(chǎn)頂尖光刻機(jī)呢？

荷蘭的ASML公司生產(chǎn)的光刻機(jī)可以說得上是世界性能最好的光刻機(jī)了，每年都會(huì)有許多人來預(yù)約、購買光刻機(jī)。

2018-08-31 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 1.3萬 0

打破ASML壟斷，國產(chǎn)雙工件臺(tái)系統(tǒng)誕生

近年來，隨著國家的大力支持以及國內(nèi)市場(chǎng)需求的快速增長(zhǎng)，國產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，而在關(guān)鍵的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域也有了不小的進(jìn)步。

2019-11-20 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 1.3萬 0

為何光刻機(jī)對(duì)芯片行業(yè)如此重要?

2020-12-30 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻機(jī) 1.3萬 0

光刻制造技術(shù)上取得進(jìn)展 國產(chǎn)光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)高端領(lǐng)域彎道超車？

光刻機(jī)是集成電路制造的關(guān)鍵核心設(shè)備，為了在更小的物理空間集成更多的電子元件，單個(gè)電路的物理尺寸越來越小，主流光刻機(jī)在硅片上投射的光刻電路分辨率達(dá)到50-...

2016-12-13 標(biāo)簽：光刻機(jī) 1.3萬 0

高通創(chuàng)投VS華為哈勃科技，誰能精準(zhǔn)布局芯片和5G賽道的未來？

今年前5個(gè)月，高通創(chuàng)投和華為哈勃投資都在中國本土不斷落子，這兩家性格迥異的5G行業(yè)的全球領(lǐng)先公司，在投資賽道、投資成績(jī)和投資思路的側(cè)重到底各有什么不同？...

2021-06-09 標(biāo)簽：高通光刻機(jī)5G 1.3萬 0

芯片生產(chǎn)工藝流程及設(shè)備

芯片生產(chǎn)工藝流程及設(shè)備：隨著互聯(lián)網(wǎng)時(shí)代的高速發(fā)展，芯片基本上變得無處不在。芯片是指內(nèi)含集成電路的硅片，體積很小，常常是計(jì)算機(jī)或其他電子設(shè)備的一部分，我們...

2021-12-15 標(biāo)簽：芯片晶圓光刻機(jī) 1.3萬 0

如何光刻機(jī)會(huì)稱為半導(dǎo)體制造行業(yè)的明珠？

2018-07-22 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)asml 1.2萬 0

終于能正常交付了，ASML官方表示繼續(xù)向中國企業(yè)供應(yīng)光刻機(jī)

相信大家都知道，在前一段時(shí)間，關(guān)于ASML無法按期交付中芯國際所訂購的極紫外光刻機(jī)的事件，也是引發(fā)了國內(nèi)網(wǎng)友們的高度關(guān)注，其中有網(wǎng)友更是直接認(rèn)為：“AS...

2020-01-10 標(biāo)簽：中芯國際光刻機(jī)asml 1.2萬 0