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標(biāo)簽 > 電子束
電子在電場中會受力而得到加速、提高能量，產(chǎn)生電子束。一臺電子加速器，注入的電子能量為20GeV（1GeV=109 eV，也就是10億電子伏特），相應(yīng)的電子速度為0.99999999979倍光速。電子經(jīng)加速器加速后，能量可達(dá)到100GeV，電子速度達(dá)到0.999999999987倍的光速。這說明，電子在這臺加速器里速度幾乎沒有增加，而能量增加了4倍。
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最近收到老師同學(xué)們的許多問題，其中大家最想要了解的問題是“如何在透射電鏡下判斷位錯類型(螺位錯、刃位錯、混合位錯)”。在此，為了能快速理解并分析，我整理...
成像原理與應(yīng)用透射電子顯微鏡（TransmissionElectronMicroscope,TEM）是一種利用高能電子束穿透樣品，通過電子與樣品相互作用...
本文系統(tǒng)梳理了直寫式、多電子束與投影式EBL的關(guān)鍵技術(shù)路徑，涵蓋掃描策略、束流整形、鄰近效應(yīng)校正與系統(tǒng)集成等方面，并探討其在精度、效率與成本間的技術(shù)矛盾...
電子束技術(shù)在半導(dǎo)體制造行業(yè)一直是重要的應(yīng)用技術(shù)。本文就電子束技術(shù)作一個簡單的圖文介紹。
2024-04-30 標(biāo)簽：光刻電子束半導(dǎo)體制造 4.6k 0
半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)
光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增...
2025-03-18 標(biāo)簽：半導(dǎo)體材料電子束光刻膠 4.5k 0
示波器原理和使用 示波器（Oscilloscope）是一種用于觀測和測量電信號波形和電信號參數(shù)的儀器。它通過將電信號轉(zhuǎn)換為可見的波形圖形，可以直觀地顯示...
2024-02-01 標(biāo)簽：示波器觸發(fā)系統(tǒng)電子束 4k 0
WCMP是電子束檢測應(yīng)用最重要的一層，這一層的功能主要體現(xiàn)在：可以使工程師遇到器件的漏電和接觸不良問題。EBI的應(yīng)用可以幫助提升成品率，減少半導(dǎo)體ict...
那這個電壓差異如何變成可以甄別的表面圖像明顯的明暗變化呢？大家應(yīng)該都知道電子被正電壓吸引，被負(fù)電壓排斥。如下圖所示，這兩塊地方因為金屬互連的差異產(chǎn)生了不...
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，晶圓堪稱核心基石，其表面質(zhì)量直接關(guān)乎芯片的性能、可靠性與良品率。
無法被清晰地觀察。為了解決這一問題，科學(xué)家們開始探索使用波長更短的光源來提高顯微鏡的分辨率。1932年，德國科學(xué)家恩斯特·魯斯卡（ErnstRuska）...
電子束加工（Electron Beam Machining 簡稱EBM）起源于德國。1948年德國科學(xué)家斯特格瓦發(fā)明了第一臺電子束加工設(shè)備。它是一種利用...
2023-12-07 標(biāo)簽：控制系統(tǒng)光刻電子束 3.6k 0
電子束光刻（EBL）是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術(shù)，其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進(jìn)行納米級圖案直寫。
電子背散射衍射（ElectronBackscatterDiffraction，簡稱EBSD）技術(shù)是一種基于掃描電子顯微鏡（SEM）的顯微分析技術(shù)，它能夠...
十九世紀(jì)末，科學(xué)家首次觀察到軸對稱磁場對陰極射線示波器中電子束產(chǎn)生的聚焦作用，這種效應(yīng)與光學(xué)透鏡對可見光的聚焦作用驚人地相似?；诖?，Ruska等人在1...
集成電路作為現(xiàn)代電子技術(shù)的核心，其制造水平直接關(guān)系到電子產(chǎn)品的性能和可靠性。隨著摩爾定律的推進(jìn)，集成電路的特征尺寸不斷縮小，制造工藝日趨復(fù)雜。在這一背景...
彈性散射電子是TEM圖像襯度的主要來源，同時也產(chǎn)生衍射圖樣(DPs)的大部分強(qiáng)度，因此理解控制這一過程的因素至關(guān)重要。我們將首先考察來自單個孤立原子的彈...
磁控管是一種電子設(shè)備，用于產(chǎn)生高速電子束并將其聚焦在顯示屏上的特定區(qū)域。該技術(shù)在CRT（陰極射線管）顯示器中廣泛應(yīng)用，現(xiàn)在已被液晶和LED等新技術(shù)所取代...
透射電子顯微術(shù)中的明暗場成像：原理、互補(bǔ)關(guān)系與功能區(qū)分
基本概念與光路設(shè)置透射電子顯微鏡（TEM）的成像系統(tǒng)由三級透鏡組構(gòu)成，其中物鏡后焦面是衍射譜所在的位置。在該平面上插入可移動的“物鏡光闌”（object...
電子能量損失譜（EELS）是一種通過分析高能入射電子與材料原子發(fā)生非彈性碰撞后能量損失特征的先進(jìn)表征技術(shù)，可用于獲取材料的成分、化學(xué)態(tài)及電子結(jié)構(gòu)信息。其...
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