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　　納米光刻是納米技術(shù)中涉及納米級(jí)結(jié)構(gòu)工程的技術(shù)領(lǐng)域中一個(gè)不斷發(fā)展的領(lǐng)域，納米光刻領(lǐng)域的誕生是出于增加集成電路中晶體管數(shù)量以維持摩爾定律的需要，光刻已成為最成功的商業(yè)技術(shù)，能夠產(chǎn)生100 nm以下的圖案。