光刻機(jī)的先進(jìn)程度決定了能夠?qū)崿F(xiàn)的最小晶體管尺寸和間距，進(jìn)而決定了芯片的集成度上限，光刻機(jī)的技術(shù)進(jìn)步推動(dòng)著半導(dǎo)體