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眾所周知，我國芯片制造技術(shù)與國際先進水平有著不小的差距。芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備--光刻機，與國際領(lǐng)先水平差距更大：世界最先進水平已經(jīng)到了5nm水平，而我國才達到90nm水平。

可能是因為我國光刻機技術(shù)與國際領(lǐng)先水平差距巨大的原因，國人的的注意力都集中在光刻機上，而忽視了另一種在芯片制造過程中跟光刻機起到同等重要作用的設(shè)備——刻蝕機。

據(jù)國內(nèi)技術(shù)最先進的刻蝕機生產(chǎn)商中微半導體設(shè)備有限公司（簡稱中微公司）最新披露，該公司的5nm高端刻蝕機設(shè)備已經(jīng)獲得行業(yè)領(lǐng)先客戶——臺積電的批量訂單。

5nm制程代表了現(xiàn)階段全球芯片加工技術(shù)的最高水平，臺積電在其世界上最先進的5nm芯片生產(chǎn)線上采用我國中微公司的高端刻蝕機，足以說明我國在刻蝕機領(lǐng)域技術(shù)的全球領(lǐng)先性。

光刻機和刻蝕機同樣是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備，刻蝕機在我國企業(yè)地努力下已經(jīng)達到了世界領(lǐng)先水平。相信在不久的將來，通過我國政府的統(tǒng)一部署與協(xié)調(diào)，和全國科研工作者的努力攻關(guān)，我國光刻機技術(shù)一定能夠?qū)崿F(xiàn)突破，趕上甚至超過世界最高水平！
（責任編輯：fqj）