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光刻機的發(fā)展有多難看了就知道

poa0_zhenjingsh ? 來源:xueqiu ? 作者:xueqiu ? 2020-09-04 10:28 ? 次閱讀
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在芯片領(lǐng)域,有一樣叫光刻機的設(shè)備,不是印鈔機,但卻比印鈔機還金貴。

歷數(shù)全球,也只有荷蘭一家叫做阿斯麥(ASML)的公司集全球高端制造業(yè)之大成,一年時間造的出二十臺高端設(shè)備,臺積電與三星每年為此搶破了頭,中芯國際足足等了三年,也沒能將中國的首臺EUV光刻機迎娶進門。

短短四年,就將昔日光刻機大國美國拉下馬,與舊王者GCA平起平坐,拿下三成市場份額。手里幾家大客戶英特爾、IBM、AMD、德州儀器,每天排隊堵在尼康門口等待最新產(chǎn)品下線的熱情,與我們?nèi)缃裱郯桶偷戎⑺果淓UV光刻機交貨的迫切并無二致。

但誰也不曾想,二十年不到,風(fēng)光對調(diào),作為美國忠實盟友的阿斯麥一躍翻身,執(zhí)掌起代工廠的生殺大權(quán),更成為大國博弈之間的關(guān)鍵殺招。“如果我們交不出EUV,摩爾定律就會從此停止”,阿斯麥如是說。

但這真的只是一個盛產(chǎn)風(fēng)車、郁金香國家,憑借一個三十多人的創(chuàng)始團隊,所誕生的一個制造業(yè)奇跡,半導(dǎo)體明珠嗎?

其實,從那臺等了整整三年還未曾交付的EUV背后,我們不難看出背后真正的贏家。

灰姑娘翻身做王后背后,綿延十多年的,是封鎖與反抗,也是復(fù)仇與合作。

Part.1

從市場角度出發(fā),作為上世紀(jì)九十年代最大的光刻機巨頭,尼康的衰落,始于那一回157nm光源干刻法與193nm光源濕刻法的技術(shù)之爭。

背后起主導(dǎo)作用的,是由英特爾創(chuàng)始人之一戈登·摩爾(GordonMoore)提出的的一個叫做摩爾定律的產(chǎn)業(yè)規(guī)范:集成電路上可容納的元器件的數(shù)量每隔18至24個月就會增加一倍(相應(yīng)的芯片制程也會不斷縮小)。而每一次制程前進,也會帶來一次芯片性能性能的飛躍。

這是對芯片設(shè)計的要求,但同時也在要求光刻機的必須領(lǐng)先設(shè)計環(huán)節(jié)一步,交付出相應(yīng)規(guī)格的設(shè)備來。

幾十納米時代的光刻機,門檻其實并不高,三十多人的阿斯麥能輕易入局這個行業(yè),連設(shè)計芯片的英特爾也可以自己做出幾臺嘗嘗鮮,難度左右不過是把買回來的高價零件拼拼湊湊,堆出一臺難度比起照相機高深些許的設(shè)備。

尼康與他們不同的是,對手靠的是產(chǎn)業(yè)鏈一起發(fā)力,而尼康的零件技術(shù)全部自己搞定,就像如今的蘋果,芯片、操作系統(tǒng)大包大攬,隨便拿出幾塊鏡片,雖不見得能吊打蔡司,但應(yīng)付當(dāng)時的芯片制程卻是綽綽有余的。

但造芯也好,造光刻機也好,關(guān)卡等級其實是指數(shù)級別增加的,上世紀(jì)90年代,光刻機的光源波長被卡死在193nm,成為了擺在全產(chǎn)業(yè)面前的一道難關(guān)。

雕刻東西,花樣要精細(xì),刀尖就得鋒利,但是要如何把193nm的光波再“磨”細(xì)呢?大半個半導(dǎo)體業(yè)界都參與進來,分兩隊人馬躍躍欲試:

尼康等公司主張用在前代技術(shù)的基礎(chǔ)上,采用157nm的F2激光,走穩(wěn)健道路。

新生的EUVLLC聯(lián)盟則押注更激進的極紫外技術(shù),用僅有十幾納米的極紫外光,刻十納米以下的芯片制程。

但技術(shù)都已經(jīng)走到這地步,不管哪一種方法,做起來其實都不容易。

這時候臺積電一個叫做林本堅的鬼才工程師出現(xiàn)了:

降低光的波長,光源出發(fā)是根本方法,但高中學(xué)生都知道,水會影響光的折射率——在透鏡和硅片之間加一層水,原有的193nm激光經(jīng)過折射,不就直接越過了157nm的天塹,降低到132nm了嗎!

林本堅拿著這項“沉浸式光刻”方案,跑遍美國、德國、日本等國,游說各家半導(dǎo)體巨頭,但都吃了閉門羹。甚至有某公司高層給臺積電COO蔣尚義捎了句狠話,讓林本堅“不要攪局”。[1]

畢竟這只是理想情況,在精密的機器中加水構(gòu)建浸潤環(huán)境,既要考慮實際性能,又要操心污染。如果為了這一條短期替代方案,耽誤了光源研究,吃力不討好只是其次,被對手反超可就不好看了。

于是,尼康選擇了在157nm上一條道走到黑,卻沒意識到背后有位虎視眈眈的攪局者。

當(dāng)時尚是小角色的阿斯麥決定賭一把,相比之前在傳統(tǒng)干式微影上的投入,押注浸潤式技術(shù)更有可能以小博大。于是和林本堅一拍即合,僅用一年時間,就在2004年就拼全力趕出了第一臺樣機,并先后奪下IBM和臺積電等大客戶的訂單。

尼康晚了半步,很快也就亮出了干式微影157nm技術(shù)的成品,但畢竟被阿斯麥搶了頭陣,更何況波長還略落后于對手。等到一年后又完成了對浸潤式技術(shù)的追趕,客戶卻已經(jīng)不承認(rèn)“老情人”,畢竟光刻機又不是小朋友玩具,更替要錢,學(xué)習(xí)更要成本。

但這一切還只是個開始。

Part.2

兩千年初踏錯了干刻濕刻的選擇之前,其實早于1997年,在美國政府一手干預(yù)下,尼康被EUVLLC排擠在外時,就已經(jīng)注定了如今光刻機市場一家獨大的結(jié)局。

前面提到,當(dāng)年為了嘗試突破193nm,英特爾更傾向于激進的EUV方案,于是早在1997年,就攢起了一個叫EUVLLC的聯(lián)盟。

聯(lián)盟中的名字個個如雷貫耳:除了英特爾和牽頭的美國能源部以外,還有摩托羅拉、AMD、IBM,以及能源部下屬三大國家實驗室:勞倫斯利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。

這些實驗室是美國科技發(fā)展的幕后英雄,之前的研究成果覆蓋物理、化學(xué)、制造業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的各種前沿方向,有核武器、超級計算機、國家點火裝置,甚至還有二十多種新發(fā)現(xiàn)的化學(xué)元素。

偏偏,美國政府又將EUV技術(shù)視為推動本國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的核心技術(shù),并不太希望外國企業(yè)參與其中,更何況八十年代在半導(dǎo)體領(lǐng)域壓了美國風(fēng)頭的日本。

但EUV光刻機又幾乎逼近物理學(xué)、材料學(xué)以及精密制造的極限。光源功率要求極高,透鏡和反射鏡系統(tǒng)也極致精密,還需要真空環(huán)境,配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高。別說是對小國日本與荷蘭,就算是美國,想要一己之力自主突破這項技術(shù),也是癡人說夢。

美國自然不會給日本投誠然后扼住美國半導(dǎo)體咽喉的機會。在一份提交給國會的報告之中,專家明確指出“尼康可能會將技術(shù)轉(zhuǎn)移回日本,從而徹底消滅美國光刻機產(chǎn)業(yè)”。[2]

日本是敵人,但荷蘭還是有改造成“美利堅好同志”的機會的。

為了表現(xiàn)誠意,阿斯麥同意在美國建立一所工廠和一個研發(fā)中心,以此滿足所有美國本土的產(chǎn)能需求。另外,還保證55%的零部件均從美國供應(yīng)商處采購,并接受定期審查。所以為什么美國能禁止荷蘭的光刻機出口中國,一切的原因都始于此時[3]

但不管怎么說,美國能源部還是和阿斯麥達(dá)成了協(xié)議,允許其加入EUVLLC,共同參與開發(fā),共享研究成果。

6年時間里,EUVLLC的研發(fā)人員發(fā)表了數(shù)百篇論文,大幅推進了EUV技術(shù)的研究進展,割地求和的阿斯麥雖然只是其中的小角色,但也有機會分得一杯羹。

分享技術(shù)只是一方面,收購走后門其實也是美國送給阿斯麥的一份大禮。2009年,美國的Cymer公司研發(fā)出EUV所需的大功率光源,成為阿斯麥的供應(yīng)商,更在四年后以25億美元高價直接被并購。別忘了,這可是光刻機的核心零件,這樣頂尖的技術(shù),全球范圍也不超過三家。

毫不夸張的說,阿斯麥雖然是一家荷蘭企業(yè),但崛起的背后,其實是一場地地道道的美國式成功。

Part.3

錯失EUV關(guān)上了尼康光刻機的大門,而盟友的背叛則徹底焊死了尼康想要突圍的出路。

說實話,當(dāng)年的英特爾為了防止核心設(shè)備供應(yīng)商一家獨大,還是其實挺想帶著尼康一起玩的。

32nm工藝制程時甚至獨家采用尼康的光刻機,而之前的45nm,之后的22nm,也都是尼康和阿斯麥同時供貨。就連在2010年的LithoVision大會上,英特爾還宣布將一直沿用193nm沉浸式光刻至11nm節(jié)點。

但備胎終究是備胎,一轉(zhuǎn)身,英特爾就為了延續(xù)摩爾定律的節(jié)奏,巨資入股阿斯麥,順帶將EUV技術(shù)托付。

另一邊,相比一步步集成了全球制造業(yè)精華的阿斯麥,早年間就習(xí)慣單打獨斗的尼康在遭遇美國封鎖后,更是一步步落后,先進設(shè)備技術(shù)跟不上且不提,就連落后設(shè)備的制造效率也遲遲提不上來。

當(dāng)年,相同制程,阿斯麥宣稱“每小時可加工175~200片晶圓”,而尼康的數(shù)據(jù)是“每小時200片”。

但果真如此嗎?這背后涉及到了一個叫做稼動率的制造業(yè)名詞。簡單理解為一臺機器設(shè)備實際的生產(chǎn)數(shù)量與可能的生產(chǎn)數(shù)量的比值。

使用阿斯麥的設(shè)備,三星與臺積電的稼動率常年維持在95%上下,一個詞語概括,靠譜!

但反觀尼康,被迫自研,什么零件都能做,但又總是差點意思。導(dǎo)致同一批次的相同設(shè)備,每一臺的性能都不盡相同。就像買了二十臺蘋果手機,這臺只能發(fā)微信,那臺只能刷視頻,剩下18臺還正送檢維修。

設(shè)備雖便宜,但稼動率最多只能達(dá)到50%左右,對晶元代工廠來說,實在不劃算。[7]

因此,英特爾新CEO上任后,立刻拋棄了尼康,甚至就連大陸的芯片代工廠都看不上尼康,只能退出IC光刻,生產(chǎn)出的設(shè)備,只能賣給三星、LG、京東方,用來生產(chǎn)面板。

這邊舊人哭,那邊新人笑:2012年,英特爾連同三星和臺積電,三家企業(yè)共計投資52.29億歐元,先后入股阿斯麥,以此獲得優(yōu)先供貨權(quán),結(jié)成緊密的利益共同體。

站在EUVLLC的肩膀上,背靠美國支持,又有客戶送錢,阿斯麥自此正式成為“全村的希望”,在摘取EUV光刻機這顆寶石的道路上,一路孤獨的狂奔。

終于,在2015年,第一臺可量產(chǎn)的EUV樣機正式發(fā)布。正所謂機器一響,黃金萬兩,當(dāng)年只要能搶先拿到機器開工,就相當(dāng)于直接開動了印鈔產(chǎn)線,EUV光刻機也因此被冠上了“印錢許可證”的名號。

而在這臺機器價值1.2億美元,重達(dá)180噸的巨無霸設(shè)備背后,實際上90%的部件均來自外部廠商,美國和歐洲的更是其中代表。

整個西方最先進的工業(yè)體系,托舉起了如今的阿斯麥。而一代霸主尼康,也自此徹底零落在歷史的塵埃之中。

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原文標(biāo)題:光刻機大敗局

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