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      三星擴(kuò)大部署EUV光刻工藝

      工程師鄧生 ? 來(lái)源：快科技 ? 作者：萬(wàn)南 ? 2020-12-04 18:26 ? 次閱讀
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      繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后，三星也坐不住了。

      按照三星的說(shuō)法，自2014年以來(lái)，EUV光刻參與的晶圓超過(guò)了400萬(wàn)片，公司積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)，也比其它廠商掌握更多訣竅，領(lǐng)先對(duì)手1到2年。

      據(jù)悉，三星的1z nm DRAM第三代內(nèi)存已經(jīng)用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機(jī)的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。

      盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數(shù)過(guò)少對(duì)效率提升并不明顯，也就是單位成本高，畢竟EUV光刻機(jī)買一臺(tái)要10億元。三星這方面倒是有優(yōu)勢(shì)，因?yàn)樽约哼€有晶圓廠，“東方不亮西方亮”光刻機(jī)的利用率很高。

      責(zé)任編輯：PSY

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