91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

Juniper/Aurrion的異質(zhì)集成工藝

SSDFans ? 來源:ssdfans ? 作者:ssdfans ? 2021-01-07 10:55 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

2019年OFC,Juniper公司展出基于硅光技術(shù)的100G QSFP28和400G QSFP-DD封裝的兩款光模塊,成為又一家推出光模塊產(chǎn)品的設(shè)備公司。

Juniper Networks,中文名:瞻博網(wǎng)絡(luò),2016年8月,以1.65億美金收購硅光子公司Aurrion,獲得硅光技術(shù)。

硅光子公司Aurrion,成立于2008年,創(chuàng)始人為UCSB的Alexander Fang和John Bowers教授。Aurrion是一家光芯片的fabless公司,最核心的技術(shù)是InP等III-V材料與Si光芯片的異質(zhì)集成技術(shù),可以實現(xiàn)單片集成的硅光收發(fā)器。

這種技術(shù)已經(jīng)經(jīng)過Intel光模塊的商業(yè)驗證,Intel的硅基激光器技術(shù)也是與UCSB John Bowers教授合作開發(fā)獲得,兩者源出同門。

1.異質(zhì)集成工藝

Juniper/Aurrion的異質(zhì)集成工藝的一個簡單示意如下圖所示:

0dfbd2b0-44a1-11eb-8b86-12bb97331649.png

Juniper/Aurrion的異質(zhì)集成工藝

[From:Juniper]

(1)先制作好硅光無源器件,將III-V族材料鍵合在硅晶圓上,這里可以鍵合多片,只在需要III-V族材料的區(qū)域鍵合即可;

(2)III-V族晶圓材料襯底的移除;

(3)III-V族器件的制作工藝,這里III-V族器件與硅波導的對準通過光刻工藝實現(xiàn);

(4)制作電極、氣密性處理、后端測試等工藝。

2. 400G PIC和OPTO-ASIC

0e56f226-44a1-11eb-8b86-12bb97331649.png

Juniper的400G FR4和DR4單片集成光芯片

[From:Juniper]

0f02a7e2-44a1-11eb-8b86-12bb97331649.png

Juniper的Opto-ASIC芯片

[From:Juniper]

Juniper的硅光芯片將Tx和Rx端的所有功能器件都集成在了同一個Si芯片上,其工藝在主流的Fab廠制作。其光芯片的設(shè)計中,利用光開關(guān)制作了光環(huán)回結(jié)構(gòu),可以在生產(chǎn)線上進行環(huán)回測試,提升良率。

其Opto-ASIC是將硅光芯片、MCU和各種ASIC芯片利用flip-chip工藝封裝在同一個PCB襯底上,芯片的一端預留光纖接口,因光電芯片配合緊密,信號完整性更好。Opto-ASIC連接上光纖、加上電源芯片、少量阻容元件和PCB板就是一個光模塊。另外,Opto-ASIC支持回流焊工藝,這一點在實際生產(chǎn)中非常重要。

3. Pluggable、OBO、Co-package

Juniper的Opto-ASIC是一個兼容性很強的模塊化設(shè)計思路,Opto-ASIC只需要更換PIC就可以實現(xiàn)400G DR4和400G FR4的切換,兩種模塊還可共用同一套PCBA,這樣可以降低成本。

Juniper的400G DR4和FR4硅光模塊

[From:https://www.650group.com/blog/junipers-ofc-photonics-announcement-is-a-big-deal]

另外,Opto-ASIC還可以輕松實現(xiàn)COBO封裝和On-Board Opto-ASIC。下圖一個板載光學交換機的示意圖,將32個Opto-ASIC通過回流焊的方式焊接在交換機的PCB板上,Opto-ASIC光接口固定在前面板,實現(xiàn)32x400G端口的12.8Tbps交換容量的交換機。

120ed096-44a1-11eb-8b86-12bb97331649.png

Opto-ASIC的無限擴展

[From:Juniper]

Juniper未來規(guī)劃通過3.2Tbps(光8x400G,電32 lanes 112G)的Opto-ASIC實現(xiàn)51.2Tbps的光電合封芯片。3.2TbpsOpto-ASIC通過3D封裝技術(shù)實現(xiàn)。

1236f954-44a1-11eb-8b86-12bb97331649.png

Juniper的Co-packaged Optics規(guī)劃

[From:Juniper]

責任編輯:lq

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 激光器
    +關(guān)注

    關(guān)注

    18

    文章

    2959

    瀏覽量

    64596
  • Juniper
    +關(guān)注

    關(guān)注

    1

    文章

    17

    瀏覽量

    11858
  • 光模塊
    +關(guān)注

    關(guān)注

    82

    文章

    1631

    瀏覽量

    63704

原文標題:震撼!Juniper的硅光子技術(shù)!

文章出處:【微信號:SSDFans,微信公眾號:SSDFans】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    集成電路制造中常用濕法清洗和腐蝕工藝介紹

    集成電路濕法工藝是指在集成電路制造過程中,通過化學藥液對硅片表面進行處理的一類關(guān)鍵技術(shù),主要包括濕法清洗、化學機械拋光、無應(yīng)力拋光和電鍍四大類。這些工藝貫穿于芯片制造的多個關(guān)鍵環(huán)節(jié),直
    的頭像 發(fā)表于 01-23 16:03 ?1688次閱讀
    <b class='flag-5'>集成</b>電路制造中常用濕法清洗和腐蝕<b class='flag-5'>工藝</b>介紹

    青禾晶元常溫鍵合方案,破解第三代半導體異質(zhì)集成熱損傷難題

    性能提出極限要求,以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)為代表的第三代半導體異質(zhì)集成技術(shù),已成為延續(xù)摩爾定律、突破性能瓶頸的關(guān)鍵。然而,傳統(tǒng)高溫鍵合工藝導致的熱應(yīng)力損傷、材料失配與界面氧化問題,長期制約著該技術(shù)的進一步發(fā)展。 面對
    的頭像 發(fā)表于 12-29 11:24 ?374次閱讀
    青禾晶元常溫鍵合方案,破解第三代半導體<b class='flag-5'>異質(zhì)</b><b class='flag-5'>集成</b>熱損傷難題

    CoWoS產(chǎn)能狂飆的背后:異質(zhì)集成芯片的“最終測試”新范式

    CoWoS 產(chǎn)能狂飆背后,異質(zhì)集成技術(shù)推動芯片測試從 “芯片測試” 轉(zhuǎn)向 “微系統(tǒng)認證”,系統(tǒng)級測試(SLT)成為強制性關(guān)卡。其面臨三維互連隱匿缺陷篩查、功耗 - 熱 - 性能協(xié)同驗證、異構(gòu)單元協(xié)同
    的頭像 發(fā)表于 12-11 16:06 ?429次閱讀

    【原理到實戰(zhàn)】實驗異質(zhì)性分析

    什么是實驗的異質(zhì)性 1. 如何理解實驗結(jié)果中的指標變化 當我們看到如下試金石實驗指標結(jié)果時 在進行分析前,可能我們的第一直覺是這樣的 經(jīng)過異質(zhì)性分析后,可能會發(fā)現(xiàn)實際情況是這樣的 2. 概念解析
    的頭像 發(fā)表于 11-12 16:28 ?719次閱讀
    【原理到實戰(zhàn)】實驗<b class='flag-5'>異質(zhì)</b>性分析

    集成電路制造中薄膜刻蝕的概念和工藝流程

    薄膜刻蝕與薄膜淀積是集成電路制造中功能相反的核心工藝:若將薄膜淀積視為 “加法工藝”(通過材料堆積形成薄膜),則薄膜刻蝕可稱為 “減法工藝”(通過材料去除實現(xiàn)圖形化)。通過這一 “減”
    的頭像 發(fā)表于 10-16 16:25 ?3189次閱讀
    <b class='flag-5'>集成</b>電路制造中薄膜刻蝕的概念和<b class='flag-5'>工藝</b>流程

    【2025九峰山論壇】破局摩爾定律:異質(zhì)異構(gòu)集成如何撬動新賽道?

    在半導體產(chǎn)業(yè)不斷演進的歷程中,異質(zhì)異構(gòu)集成技術(shù)正逐漸成為推動行業(yè)突破現(xiàn)有瓶頸、邁向全新發(fā)展階段的關(guān)鍵力量。在這樣的產(chǎn)業(yè)變革背景下,九峰山論壇暨化合物半導體產(chǎn)業(yè)博覽會于武漢光谷盛大召開,吸引了來自美國
    的頭像 發(fā)表于 09-30 15:58 ?1572次閱讀
    【2025九峰山論壇】破局摩爾定律:<b class='flag-5'>異質(zhì)</b>異構(gòu)<b class='flag-5'>集成</b>如何撬動新賽道?

    半導體外延工藝在哪個階段進行的

    半導體外延工藝主要在集成電路制造的前端工藝(FEOL)階段進行。以下是具體說明:所屬環(huán)節(jié)定位:作為核心步驟之一,外延屬于前端制造流程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其目的是在單晶襯底上有序沉積單晶材料以形成外延層
    的頭像 發(fā)表于 08-11 14:36 ?1427次閱讀
    半導體外延<b class='flag-5'>工藝</b>在哪個階段進行的

    臺階儀應(yīng)用 | 半導體GaAs/Si異質(zhì)外延層表面粗糙度優(yōu)化

    在半導體行業(yè)中,硅基光電子技術(shù)是實現(xiàn)光互聯(lián)、突破集成電路電互聯(lián)瓶頸的關(guān)鍵,而在硅si襯底上外延生長高質(zhì)量GaAs薄膜是硅基光源單片集成的核心。臺階儀作為重要的表征工具,在GaAs/Si異質(zhì)外延研究中
    的頭像 發(fā)表于 07-22 09:51 ?684次閱讀
    臺階儀應(yīng)用 | 半導體GaAs/Si<b class='flag-5'>異質(zhì)</b>外延層表面粗糙度優(yōu)化

    概倫電子集成電路工藝與設(shè)計驗證評估平臺ME-Pro介紹

    ME-Pro是概倫電子自主研發(fā)的用于聯(lián)動集成電路工藝與設(shè)計的創(chuàng)新性驗證評估平臺,為集成電路設(shè)計、CAD、工藝開發(fā)、SPICE模型和PDK專業(yè)從業(yè)人員提供了一個共用平臺。
    的頭像 發(fā)表于 04-16 09:34 ?1865次閱讀
    概倫電子<b class='flag-5'>集成</b>電路<b class='flag-5'>工藝</b>與設(shè)計驗證評估平臺ME-Pro介紹

    CMOS集成電路的基本制造工藝

    本文主要介紹CMOS集成電路基本制造工藝,特別聚焦于0.18μm工藝節(jié)點及其前后的變化,分述如下:前段工序(FrontEnd);0.18μmCMOS前段工序詳解;0.18μmCMOS后段鋁互連
    的頭像 發(fā)表于 03-20 14:12 ?4632次閱讀
    CMOS<b class='flag-5'>集成</b>電路的基本制造<b class='flag-5'>工藝</b>

    集成電路前段工藝的可靠性研究

    在之前的文章中我們已經(jīng)對集成電路工藝的可靠性進行了簡單的概述,本文將進一步探討集成電路前段工藝可靠性。
    的頭像 發(fā)表于 03-18 16:08 ?1979次閱讀
    <b class='flag-5'>集成</b>電路前段<b class='flag-5'>工藝</b>的可靠性研究

    集成電路制造中的電鍍工藝介紹

    本文介紹了集成電路制造工藝中的電鍍工藝的概念、應(yīng)用和工藝流程。
    的頭像 發(fā)表于 03-13 14:48 ?2740次閱讀
    <b class='flag-5'>集成</b>電路制造中的電鍍<b class='flag-5'>工藝</b>介紹

    最新議程出爐! | 2025異質(zhì)異構(gòu)集成封裝產(chǎn)業(yè)大會(HIPC 2025)

    異構(gòu)集成封裝產(chǎn)業(yè)大會(浙江寧波)點此報名添加文末微信,加先進封裝群會議議程會議基本信息會議名稱:2025勢銀異質(zhì)異構(gòu)集成封裝產(chǎn)業(yè)大會指導單位:鎮(zhèn)海區(qū)人民政府(擬)
    的頭像 發(fā)表于 03-13 09:41 ?1390次閱讀
    最新議程出爐! | 2025<b class='flag-5'>異質(zhì)</b>異構(gòu)<b class='flag-5'>集成</b>封裝產(chǎn)業(yè)大會(HIPC 2025)

    集成電路制造工藝中的High-K材料介紹

    本文介紹了在集成電路制造工藝中的High-K材料的特點、重要性、優(yōu)勢,以及工藝流程和面臨的挑戰(zhàn)。
    的頭像 發(fā)表于 03-12 17:00 ?2900次閱讀
    <b class='flag-5'>集成</b>電路制造<b class='flag-5'>工藝</b>中的High-K材料介紹

    集成電路制造中的劃片工藝介紹

    本文概述了集成電路制造中的劃片工藝,介紹了劃片工藝的種類、步驟和面臨的挑戰(zhàn)。
    的頭像 發(fā)表于 03-12 16:57 ?3304次閱讀
    <b class='flag-5'>集成</b>電路制造中的劃片<b class='flag-5'>工藝</b>介紹