91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

集成電路中銅基材料與石墨烯的應(yīng)用現(xiàn)狀

深圳市賽姆烯金科技有限公司 ? 來源:賽姆烯金科技 ? 作者:賽姆烯金科技 ? 2022-10-14 16:45 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

隨著科技的不斷進(jìn)步,集成電路作為信息時(shí)代的核心,歷經(jīng)小規(guī)模、中規(guī)模、大規(guī)模階段,在超大規(guī)模、特大規(guī)模時(shí)代中推動(dòng)電子器件向高質(zhì)量、低功耗、集成化的方向發(fā)展。集成電路主要由芯片和封裝部分組成。在由多個(gè)元件組裝成的微型結(jié)構(gòu)中,框架和金屬連接線的選材對(duì)于器件性能有著十分重要的影響。

1960年以來集成電路不同階段的發(fā)展歷程及技術(shù)節(jié)點(diǎn)尺寸的變化趨勢(shì)如圖所示。集成密度不斷增大,從晶體管收音機(jī)、小型機(jī)、網(wǎng)絡(luò)計(jì)算機(jī)、移動(dòng)設(shè)備再到 5G、人工智能時(shí)代,各大技術(shù)領(lǐng)域?qū)呻娐返男枨蟪曙w躍式發(fā)展,集成規(guī)模和服役性能進(jìn)一步提高。芯片制造工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)尺寸不斷降低,預(yù)計(jì)至2025年左右可降至0.003μm。目前集成電路已經(jīng)由“摩爾定律時(shí)代”進(jìn)入“后摩爾時(shí)代”,對(duì)器件及其連接 技術(shù)提出高性能、低傳輸延遲和低功耗的需求,要求集成電路用材具有較好的加工性、較高的強(qiáng)度和優(yōu)異的導(dǎo)電、導(dǎo)熱、抗腐蝕、抗電遷移性能。銅基材料具有良好的力學(xué)性能和傳導(dǎo)性能,可承擔(dān)支撐、互連、散熱等功能,作為集成電路芯片及其封裝的主要材料之一,可用于制備不同尺度規(guī)模的器件。

1e91679a-4b64-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

銅基材料應(yīng)用現(xiàn)狀

1、銅基引線框架材料:引線框架是實(shí)現(xiàn)集成電路中器件功能的封裝關(guān)鍵結(jié)構(gòu)件,用于承擔(dān)支撐芯片、散熱、連接電路等功能,要求材料具有較高的抗拉強(qiáng)度(σb≥600 MPa)、較優(yōu)的導(dǎo)電率(≥80% IACS)、較強(qiáng)的抗軟化、抗氧化能力和散熱能力。

2、銅基互連材料:互連材料能夠?qū)崿F(xiàn)層間、組件之間的連接。在前期的發(fā)展歷程中,Al常被用于集成電路互連。但在未來大功率、高集成化的趨勢(shì)下,Al出現(xiàn)了電損傷嚴(yán)重、電阻大、互連延遲的問題,因此Cu憑借高電導(dǎo)率、優(yōu)良的電遷移特性等優(yōu)勢(shì)逐漸替代Al,引導(dǎo)大規(guī)模集成電路發(fā)展的浪潮,能夠更好的承載更大的電流、散發(fā)更多的熱量,提高了器件工作效率,實(shí)現(xiàn)不同元件高效率低延遲連接。具體而言,銅可以減小芯片上互 連線的電阻,或在保持電阻不變的情況下降低互連金屬層厚度來減小同一層內(nèi)互連線間的耦合電容,從而降低耦合噪聲和互連線的信號(hào)延遲,而且Cu的耐電遷移能力較高,能夠承載高集成化趨勢(shì)下的更大的工作電流。

3、銅基鍵合絲材料:鍵合絲是電子封裝的關(guān)鍵材料之一,用于實(shí)現(xiàn)芯片內(nèi)電路輸入/輸出連接點(diǎn)與引線框架內(nèi)接觸點(diǎn)間的電氣連接,在高集成化的趨勢(shì)下,不斷增加的引腳數(shù)量和越來越窄的布線間距要求鍵合絲產(chǎn)品應(yīng)朝著低介電常數(shù)、小尺寸、高導(dǎo)電導(dǎo)熱的方向發(fā)展。目前應(yīng)用較為廣泛的是金鍵合絲、銀鍵合絲和銅鍵合絲。金鍵合絲延展性好、導(dǎo)電性能優(yōu)良但價(jià)格昂貴, 銀鍵合絲抗拉強(qiáng)度較低,在高鍵合力條件下易斷線。銅鍵合絲具有良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能,力學(xué)性能優(yōu)異,在同等線徑下與金線斷裂強(qiáng)度相近,但銅具有遠(yuǎn)高于金的高伸長(zhǎng)率和楊氏模量。

4、銅基集成電路載體材料:集成電路需載裝至載體,即印刷電路板(Printed circuit board, PCB),能夠起到機(jī)械支撐作用并實(shí)現(xiàn)不同 元組件的互連。隨著集成電路尺寸減小至微米、亞微米或以下,器件的設(shè)計(jì)復(fù)雜程度和難度不斷增加,帶動(dòng)PCB的發(fā)展。PCB作為集成器件的載體,要求材料具有較好的耐蝕性、較高的強(qiáng)度和導(dǎo)電導(dǎo)熱能力。

5、銅基熱管理材料:集成電路趨于高集成、高密度化,服役過程中會(huì)不可避免地產(chǎn)生熱量。難以及時(shí)散去的熱量會(huì)導(dǎo)致工作溫度升高,影響電路和器件的壽命,芯片和電路的穩(wěn)定性、可靠性面臨巨大的挑戰(zhàn)。熱管理是根據(jù)需求對(duì)材料的溫度進(jìn)行控制和調(diào)節(jié)的過程,要求材料能夠盡可能降低接觸熱阻,具有優(yōu)異的導(dǎo)熱、散熱性能和機(jī)械支撐能力。

石墨烯/銅復(fù)合材料的應(yīng)用前景

隨著集成度和布線規(guī)模不斷增加,集成電路用材的性能要求也逐漸提高,但金屬銅強(qiáng)度較低不耐磨,且在高溫環(huán)境下易變形、易氧化失效,難以滿足集成電路發(fā)展的新需求,因此實(shí)現(xiàn)新型集成電路用銅材料的開發(fā)及量化生產(chǎn)面臨新的難題,制備具有優(yōu)異綜合性能的銅基復(fù)合材料將成為未來發(fā)展的趨勢(shì)。

石墨烯(Gr)具有獨(dú)特的sp2雜化二維結(jié)構(gòu),表現(xiàn)出優(yōu)于其他增強(qiáng)體的電學(xué)性能、熱學(xué)性能和力學(xué)性能,在室溫下具有高載流子遷移率 (15000 cm2 /(V·s))、高熱導(dǎo)率(5000 W/mK) ,同時(shí)具有較高的抗拉強(qiáng)度 (130 GPa) 和優(yōu)異的抗電遷移能力,可以作為集成電路用銅基復(fù)合材料理想的增強(qiáng)體。石墨烯/銅(Gr/Cu) 復(fù)合材料有機(jī)會(huì)成為未來新型的電子封裝材料、電子元器件熱交換材料、引線框架等方面的首選材料,有望突破集成電路用材在高強(qiáng)高導(dǎo)、超高導(dǎo)電、導(dǎo)熱、可靠性等方面所面臨的挑戰(zhàn)。

審核編輯:郭婷

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    463

    文章

    54024

    瀏覽量

    466350
  • 集成電路
    +關(guān)注

    關(guān)注

    5453

    文章

    12574

    瀏覽量

    374680
  • 晶體管
    +關(guān)注

    關(guān)注

    78

    文章

    10396

    瀏覽量

    147847

原文標(biāo)題:集成電路領(lǐng)域銅基材料的應(yīng)用現(xiàn)狀及與石墨烯復(fù)合展望

文章出處:【微信號(hào):深圳市賽姆烯金科技有限公司,微信公眾號(hào):深圳市賽姆烯金科技有限公司】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    集成電路制造薄膜生長(zhǎng)工藝的發(fā)展歷程和分類

    薄膜生長(zhǎng)是集成電路制造的核心技術(shù),涵蓋PVD、CVD、ALD及外延等路徑。隨技術(shù)節(jié)點(diǎn)演進(jìn),工藝持續(xù)提升薄膜均勻性、純度與覆蓋能力,支撐互連、高k柵介質(zhì)及應(yīng)變器件發(fā)展。未來將聚焦低溫沉積、三維結(jié)構(gòu)適配與新材料
    的頭像 發(fā)表于 02-27 10:15 ?439次閱讀
    <b class='flag-5'>集成電路</b>制造<b class='flag-5'>中</b>薄膜生長(zhǎng)工藝的發(fā)展歷程和分類

    集成電路制造薄膜刻蝕的概念和工藝流程

    薄膜刻蝕與薄膜淀積是集成電路制造功能相反的核心工藝:若將薄膜淀積視為 “加法工藝”(通過材料堆積形成薄膜),則薄膜刻蝕可稱為 “減法工藝”(通過材料去除實(shí)現(xiàn)圖形化)。通過這一 “減”
    的頭像 發(fā)表于 10-16 16:25 ?3271次閱讀
    <b class='flag-5'>集成電路</b>制造<b class='flag-5'>中</b>薄膜刻蝕的概念和工藝流程

    高精度TLM測(cè)量技術(shù):在金屬-石墨接觸電阻表征的應(yīng)用研究

    石墨作為最具代表性的二維材料,憑借其卓越的電學(xué)性能在高性能電子器件領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大應(yīng)用潛力。然而,金屬-石墨接觸電阻問題一直是制約其實(shí)際應(yīng)
    的頭像 發(fā)表于 09-29 13:46 ?731次閱讀
    高精度TLM測(cè)量技術(shù):在金屬-<b class='flag-5'>石墨</b><b class='flag-5'>烯</b>接觸電阻表征<b class='flag-5'>中</b>的應(yīng)用研究

    石墨超低方阻的實(shí)現(xiàn)?| 霍爾效應(yīng)模型驗(yàn)證

    石墨因其高載流子遷移率(~200,000cm2/V·s)、低方阻和高透光性(~97.7%),在電子應(yīng)用領(lǐng)域備受關(guān)注。然而,單層石墨的電學(xué)性能受限于表面摻雜效應(yīng)(如PMMA殘留或環(huán)境
    的頭像 發(fā)表于 09-29 13:44 ?774次閱讀
    <b class='flag-5'>石墨</b><b class='flag-5'>烯</b>超低方阻的實(shí)現(xiàn)?| 霍爾效應(yīng)模型驗(yàn)證

    恒坤新材IPO成功過會(huì),劍指集成電路關(guān)鍵材料國(guó)產(chǎn)化

    億元,投入“集成電路前驅(qū)體二期項(xiàng)目”和“集成電路用先進(jìn)材料項(xiàng)目”兩大募投項(xiàng)目。 集成電路關(guān)鍵材料國(guó)產(chǎn)化迫在眉睫 長(zhǎng)期以來,光刻
    的頭像 發(fā)表于 09-03 15:24 ?2163次閱讀

    一文了解什么是石墨拉曼光譜表征技術(shù)

    石墨及相關(guān)二維材料》為基礎(chǔ),系統(tǒng)闡述實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)、操作流程與數(shù)據(jù)解析方法,為科研與產(chǎn)業(yè)提供可重復(fù)、可比對(duì)的實(shí)驗(yàn)指南。實(shí)驗(yàn)原理1.晶格振動(dòng)模式sp2雜化碳原子構(gòu)成的六
    的頭像 發(fā)表于 08-05 15:30 ?1134次閱讀
    一文了解什么是<b class='flag-5'>石墨</b><b class='flag-5'>烯</b>拉曼光譜表征技術(shù)

    硅與其他材料集成電路的比較

    硅與其他半導(dǎo)體材料集成電路應(yīng)用的比較可從以下維度展開分析。
    的頭像 發(fā)表于 06-28 09:09 ?1834次閱讀

    人工合成石墨片與天然石墨片的差別

    。本文結(jié)合傲琪的技術(shù)積累與行業(yè)實(shí)踐,系統(tǒng)解析兩類材料的核心差異及選型邏輯。 來源與工藝:從自然饋贈(zèng)到科技結(jié)晶天然石墨源于自然界石墨礦床,經(jīng)開采后通過包覆、篩分等物理工藝處理即可投
    發(fā)表于 05-23 11:22

    中國(guó)集成電路大全 接口集成電路

    集成電路的品種分類,從中可以方便地查到所要了解的各種接口電路;表還列有接口集成電路的文字符號(hào)及外引線功能端排列圖。閱讀這些內(nèi)容后可對(duì)接口集成電路
    發(fā)表于 04-21 16:33

    2025深圳國(guó)際石墨論壇暨二維材料國(guó)際研討會(huì)圓滿閉幕 | 晟鵬二維氮化硼散熱膜

    4月11-13日,2025深圳國(guó)際石墨論壇暨二維材料國(guó)際研討會(huì)在深圳成功召開。此次論壇旨在推進(jìn)世界范圍內(nèi)石墨和二維
    的頭像 發(fā)表于 04-21 06:31 ?961次閱讀
    2025深圳國(guó)際<b class='flag-5'>石墨</b><b class='flag-5'>烯</b>論壇暨二維<b class='flag-5'>材料</b>國(guó)際研討會(huì)圓滿閉幕 | 晟鵬二維氮化硼散熱膜

    石墨材料在電力能源領(lǐng)域的研發(fā)應(yīng)用已取得新突破

    我國(guó)是石墨研究和應(yīng)用開發(fā)最活躍的國(guó)家之一,相關(guān)產(chǎn)業(yè)正進(jìn)入高速發(fā)展期。商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030年國(guó)石墨
    的頭像 發(fā)表于 03-14 11:31 ?1352次閱讀

    石墨膜和VC散熱性能和應(yīng)用方面的區(qū)別

    石墨散熱膜與VC(均熱板)在散熱性能和應(yīng)用方面的區(qū)別如下:一、散熱性能對(duì)比1.導(dǎo)熱機(jī)制◎石墨散熱膜:依賴石墨材料在平面方向的高導(dǎo)熱性(15
    的頭像 發(fā)表于 03-13 17:13 ?3174次閱讀
    <b class='flag-5'>石墨</b>膜和<b class='flag-5'>銅</b>VC散熱性能和應(yīng)用方面的區(qū)別

    集成電路制造的電鍍工藝介紹

    本文介紹了集成電路制造工藝的電鍍工藝的概念、應(yīng)用和工藝流程。
    的頭像 發(fā)表于 03-13 14:48 ?2777次閱讀
    <b class='flag-5'>集成電路</b>制造<b class='flag-5'>中</b>的電鍍工藝介紹

    集成電路制造工藝的High-K材料介紹

    本文介紹了在集成電路制造工藝的High-K材料的特點(diǎn)、重要性、優(yōu)勢(shì),以及工藝流程和面臨的挑戰(zhàn)。
    的頭像 發(fā)表于 03-12 17:00 ?2928次閱讀
    <b class='flag-5'>集成電路</b>制造工藝<b class='flag-5'>中</b>的High-K<b class='flag-5'>材料</b>介紹

    集成電路制造的劃片工藝介紹

    本文概述了集成電路制造的劃片工藝,介紹了劃片工藝的種類、步驟和面臨的挑戰(zhàn)。
    的頭像 發(fā)表于 03-12 16:57 ?3356次閱讀
    <b class='flag-5'>集成電路</b>制造<b class='flag-5'>中</b>的劃片工藝介紹