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SiC 器件取代服務(wù)器、電機(jī)、EV 中的 Si MOSFET 和二極管

甘滿(mǎn)盛 ? 2023-01-05 09:43 ? 次閱讀
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我們似乎永無(wú)止境地需要以更高的效率交付的更多動(dòng)力,而且這種需求沒(méi)有盡頭。即使單個(gè)組件降低了運(yùn)行功率水平,它們所支持的系統(tǒng)也有望發(fā)揮越來(lái)越大的作用。因此,總功率需求正在增加,很容易超過(guò)單個(gè)組件所需功率的減少。

當(dāng)然,電力需求增長(zhǎng)的很大一部分是由于服務(wù)器和數(shù)據(jù)中心等大型設(shè)施造成的。然而,原因要廣泛得多。例如,電動(dòng)機(jī)正在向長(zhǎng)期由液壓動(dòng)力或內(nèi)燃機(jī)主導(dǎo)的應(yīng)用領(lǐng)域取得重大進(jìn)展。這包括電動(dòng)汽車(chē)和混合動(dòng)力電動(dòng)汽車(chē)(EV 和 HEV)以及大型機(jī)器人和重型建筑設(shè)備。

這些電力系統(tǒng)的工作室組件是硅基 MOSFETIGBT。在過(guò)去的幾十年中,這兩種電源開(kāi)關(guān)都取得了顯著改進(jìn),其能力擴(kuò)展到高電壓和功率水平,并且靜態(tài) (R DS(ON) ) 和動(dòng)態(tài)(開(kāi)關(guān))損耗均有所降低。不過(guò)現(xiàn)在,這些努力已經(jīng)達(dá)到了回報(bào)與研發(fā)成本遞減的地步。

一個(gè)新的競(jìng)爭(zhēng)者變得非常真實(shí)

幸運(yùn)的是,有一種顛覆性的技術(shù)已經(jīng)發(fā)展了很多年,并且已經(jīng)足夠成熟,可以用于大規(guī)模安裝并達(dá)到其市場(chǎng)采用拐點(diǎn)?;谔蓟?(SiC) 的開(kāi)關(guān)設(shè)備(包括晶體管二極管)正在重新定義電源相關(guān)電路的功能。與當(dāng)今最好的純硅 MOSFET、IGBT 和二極管相比,它們的效率和范圍要好得多,并且已經(jīng)在頂級(jí)數(shù)據(jù)中心和服務(wù)器場(chǎng)中廣泛使用。

Yole Développement 于 2017 年 8 月發(fā)布的一份市場(chǎng)報(bào)告“Power SiC 2017:材料、設(shè)備、模塊和應(yīng)用”對(duì)這種情況給出了一些數(shù)字。他們的研究認(rèn)為,“SiC 技術(shù)的采用將在 2019 年加速,達(dá)到臨界點(diǎn)?!?該報(bào)告補(bǔ)充說(shuō):“……SiC 功率市場(chǎng)(二極管和晶體管)在 2015 年估計(jì)超過(guò) 2 億美元 (USD),預(yù)計(jì)到 2021 年將超過(guò) 5.5 億美元,2015-2021 年的復(fù)合年增長(zhǎng)率為 19%。SiC 二極管仍以 85% 的市場(chǎng)份額主導(dǎo)整個(gè) SiC 市場(chǎng)……這一領(lǐng)先地位在數(shù)年內(nèi)都不會(huì)改變。與此同時(shí),碳化硅晶體管……應(yīng)該在 2021 年達(dá)到 27% 的市場(chǎng)份額?!?/p>

他們的采用通常具有降低成本、增加設(shè)計(jì)人員經(jīng)驗(yàn)、創(chuàng)建更全面的規(guī)范和驗(yàn)證可靠性數(shù)據(jù)的有益連鎖反應(yīng)。所有功率級(jí)都受益,從高壓交流電到中檔直流電,甚至個(gè)位數(shù)直流軌電壓。(請(qǐng)注意,在基于氮化鎵的功率器件中也有類(lèi)似的吸收,但沒(méi)有那么大。)

碳化硅優(yōu)勢(shì)

基于 SiC 的功率 MOSFET 和二極管是寬帶隙 (WBG)固態(tài)器件,它們與純硅器件既相似又不同。(它們的帶隙在 2 到 4eV 的范圍內(nèi),而硅的帶隙在 1 到 1.5eV 的范圍內(nèi)。)雖然基礎(chǔ)物理相當(dāng)復(fù)雜,但 WBG 材料至少在原則上能夠制造在顯著由于材料的固有特性,擊穿電壓和溫度更高(通常為 200° 至 300°C)。他們還通過(guò)更小、更輕的封裝和更高的效率實(shí)現(xiàn)了這一點(diǎn)。

雖然更小、更輕的封裝的優(yōu)點(diǎn)是顯而易見(jiàn)的,但為什么更高的電壓和溫度也是可取的呢?更高的電壓之所以具有吸引力,是因?yàn)樗鼈円恢币詠?lái)的原因:對(duì)于相同的輸送功率 (P = VI),它們可以降低電流水平,從而減少不可避免的壓降 (V = IR) 和耗散損耗 (P = I 2 R ) 當(dāng)電流通過(guò)任何電阻時(shí)發(fā)生。更高的溫度允許功率組件和系統(tǒng)被更用力地推動(dòng),從而提供更多的輸出,從而減少將系統(tǒng)分成兩個(gè)或更多更小的子系統(tǒng)以提供相同功率的需要。

盡管 SiC 的優(yōu)點(diǎn)早已為人所知,但將理論轉(zhuǎn)化為實(shí)用、具有成本效益、可靠的設(shè)備一直是一項(xiàng)長(zhǎng)期挑戰(zhàn)。但請(qǐng)記住,“馴服”硅并使其發(fā)揮今天的作用需要數(shù)十年時(shí)間,尤其是在功率設(shè)備中,所有缺陷和缺陷都會(huì)因熱量和功率水平而被放大。同樣,將 SiC 技術(shù)作為實(shí)用器件推向市場(chǎng)需要數(shù)年(以及無(wú)數(shù)美元)的基礎(chǔ)物理研究、創(chuàng)新工藝開(kāi)發(fā)、獨(dú)特的器件結(jié)構(gòu)和新的制造技術(shù),并得到合適的封裝和數(shù)百萬(wàn)小時(shí)的測(cè)試和可靠性數(shù)據(jù)的支持。

現(xiàn)在與未來(lái)

僅在硅領(lǐng)域處于強(qiáng)勢(shì)地位的功率器件供應(yīng)商,以及在非硅材料和工藝方面具有專(zhuān)業(yè)知識(shí)的功率器件供應(yīng)商,都看到了 SiC 的近期和長(zhǎng)期潛力,以及它如何滿(mǎn)足對(duì)更好、更便宜和更高效功率的需求. 活躍的參與者包括Infineon Technologies AG、Microsemi Corporation、CREE, Inc. (Wolfspeed)、General Electric、Power Integrations、Toshiba、ON Semiconductor、STMicroelectronics NV、NXP Semiconductors、ROHM Semiconductor和Renesas Electronics. 數(shù)百種已發(fā)布的基于 SiC 的 MOSFET 和二極管已經(jīng)集成并安裝在產(chǎn)品中。這些產(chǎn)品得到密集、持續(xù)的研發(fā)工作的支持,使 SiC 處于有吸引力的位置。

審核編輯hhy

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